水溶胶或水分散体的制备
胶体二氧化硅及其制造方法
本发明提供含有致密性优异、在碱性条件下的表面凹凸形状的维持性优异的二氧化硅颗粒的胶体二氧化硅、以及能够制造该胶体二氧化硅的制造方法。本发明提供一种胶体二氧化硅,其含有具有表面凹凸形状的二氧化硅颗粒,该胶体二氧化硅的特征在于,(1)上述二氧化硅颗粒的烷氧基的含量为1000ppm以上,(2)上述二氧化硅颗粒在碱性条件下进行加热处理时的比表面积的减少率为15.0%以下。

2021-10-26

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胶体二氧化硅及其制造方法
本发明提供含有小粒径(例如平均一次粒径为20nm以下)且包含烷氧基的二氧化硅颗粒的胶体二氧化硅、及其制造方法。目的在于,提供含有小粒径且抑制保存后的平均二次粒径的增大的二氧化硅颗粒的胶体二氧化硅、及其制造方法。本发明涉及一种胶体二氧化硅,二氧化硅颗粒的平均一次粒径为20nm以下,二氧化硅颗粒的烷氧基含量m(ppm)和平均一次粒径n(nm)之比(m/n)的值为300以上,上述二氧化硅颗粒的真比重为1.95以上,上述二氧化硅颗粒的通过保存稳定性试验得到的平均二次粒径增大率为12%以下。

2021-10-26

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胶体二氧化硅及其制造方法
本发明提供一种以高纯度含有致密性优异、每单位面积的烷氧基量高的异形化二氧化硅颗粒、且研磨性优异的胶体二氧化硅、以及能够容易地制造该胶体二氧化硅且能够降低制造成本的制造方法。本发明提供一种胶体二氧化硅,其特征在于:含有具有弯曲结构和/或分支结构的二氧化硅颗粒,上述二氧化硅颗粒的真比重为1.95以上,上述二氧化硅颗粒的烷氧基的含量m(ppm)与平均一次粒径n(nm)之比(m/n)的值为200以上,在由扫描型电子显微镜观察到的在20万倍的任意视野内的颗粒个数中,包含15%以上的具有弯曲结构和/或分支结构的二氧化硅颗粒。

2021-10-22

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胶体二氧化硅及其制造方法
本发明的目的在于提供一种以高纯度含有真比重适当、聚集比高且烷氧基含量高的二氧化硅颗粒的胶体二氧化硅、以及能够容易地制造该胶体二氧化硅且能够降低制造成本的制造方法。本发明涉及一种胶体二氧化硅,其特征在于,上述胶体二氧化硅所含的二氧化硅颗粒的平均一次粒径为33nm以上、聚集比为1.2以上、真比重为1.95以上,在每1g二氧化硅颗粒中含有1000质量ppm以上的烷氧基,圆当量直径低于20nm的二氧化硅颗粒数的比例低于15%,在每1g二氧化硅颗粒中含有5μmol以上的伯胺。

2021-10-22

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层状化合物的剥离层分散液及使用了该分散液的透明基板
本发明的课题是提供由层状化合物的层间剥离得到的剥离层物质的稳定的分散液。解决手段是下述分散液、以及使用了该分散液的透明基板,上述分散液包含总碳原子数15~45并且具有1~2个碳原子数10~20的烷基的季铵离子(A)、和具有铵离子的阴离子表面活性剂(B),且上述分散液是平均厚度0.7~40nm、平均长径100~600nm、平均短径50~300nm、且平均长径与平均短径之比为1.0~10.0的板状粒子(C)分散于液态介质而成的分散液,该分散液中的该板状粒子(C)的由动态光散射法测得的平均粒径为10~600nm。

2021-10-19

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二氧化硅粒子及其制造方法、硅溶胶、研磨组合物、研磨方法、半导体晶片的制造方法和半导体器件的制造方法
本发明的目的在于提供一种研磨特性、保存稳定性优异的二氧化硅粒子。本发明涉及一种二氧化硅粒子,当将表面硅烷醇基的含有率设为x质量%、将总体硅烷醇基的含有率设为y质量%时,由(x/y)×100%表示的存在于表面的硅烷醇基的比例为15%以下。

2021-10-01

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