一种偏光片用紫外光固化压敏胶

本发明提供一种偏光片用紫外光固化丙烯酸酯压敏胶,旨在提供一种涂布工艺更简单可控,而且固化更快,更有利于偏光片产品质量管理和良品率提升的偏光片用紫外光固化丙烯酸酯压敏胶；其技术方案：该偏光片用压敏胶的各组分按质量份组分的构成为：100重量份紫外光固化(甲基)丙烯酸酯类共聚物和0.05～1重量份硅烷偶联剂,属于高分子新材料技术领域。

2021-10-26

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一种防静电保护膜用的UV固化热熔压敏胶

本发明提供了一种防静电保护膜用的UV固化热熔压敏胶,旨在提供一种储存稳定性好、透明性优异、再剥离性优异、剥离带电少,能有效地降低材料成本和提高生产效率的压敏胶；其技术方案包括侧链含有二苯甲酮基团或甲苯酮衍生化合物以及环氧乙烷链锻的丙烯酸系共聚物,以及离子化合物；属于高分子新材料技术领域。

2021-10-26

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用于制作垫圈的红色高触变UV胶及其制备方法

本发明是一种用于制作垫圈的红色高触变UV胶,该UV胶由以下重量配比的原料制成：预聚体35-70%；光引发剂0.5-3%；UV活性稀释剂25-60%；气相粉0.5-8%；红色颜料0.1-1%；附着力促进剂0.1-1%；本发明用于制作垫圈的红色高触变UV胶配方配比合理,制备出来的密封垫圈的弹性和密封性能优异,经高温(150℃,4h)、高温高湿(85℃/85%RH)的环境下仍然保持弹性、强度和粘接力。红色高触变UV胶固化后硬度低、伸长率高。能够满足电子材料领域要求缓冲、柔性粘结的使用场景。

2021-10-26

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膜形成用组合物、硬化膜及相位差膜

使膜形成用组合物中含有具有式(1)所表示的部分结构的聚合物[P]。式(1)中,Y～(1)为具有光取向性部位的二价基,Y～(2)为碳数1以上的二价有机基。R～(1)为氢原子或碳数1～10的烷基,R～(2)及R～(3)中,R～(2)为氢原子或碳数1～10的烷基,且R～(3)为“-OR～(7)”(R～(7)为碳数1～10的一价烃基)或碳数1～10的一价烃基,或者表示R～(2)与R～(3)彼此结合并与R～(2)及R～(3)所键结的碳原子一起构成的环结构。

2021-10-22

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疏水性无闪光点高折光率眼科聚合物材料

本发明提出一种眼科医用聚合物,一种折光率不低于1.55、无闪光点、无发白、玻璃化转变温度不高于15℃和含水量质量分数不高于2%的疏水性聚合物材料,适合用于制备治疗白内障的疏水性人工晶状体、治疗近视或远视的眼内植入透镜材料、人工虹膜和眼内支架材料等眼科器件。

2021-10-22

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一种二氯八氟丁烷的光氯化法制备方法

该发明涉及化工生产技术领域,具体关于一种二氯八氟丁烷的光氯化法制备方法；该发明的一种二氯八氟丁烷的光氯化法制备方法促进光氯化法的反应速度,减少副反应的进行,降低因副产物杂质结构相似而带来的难以精馏分离的现象,可以经进一步精馏提纯后得到的高纯度产品2,3-二氯八氟丁烷,同时反应物全氟丁烯自身为溶剂,不用另外添加溶剂,显著降低了成本。

2021-10-22

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一种梳状分散剂及其制备方法和应用以及弱溶剂喷墨色浆

本发明涉及弱溶剂喷墨色浆技术领域,提供了一种梳状分散剂及其制备方法和应用以及弱溶剂喷墨色浆。本发明利用主链锚定单体和羧基单体的聚合形成含有锚定基团和羧基基团的主链,聚醚胺大分子单体与主链上的羧基基团进行酰胺反应,形成梳齿,得到本发明的梳状分散剂。本发明提供的梳状分散剂适用于弱溶剂喷墨色浆,梳状分散剂中的溶剂化链由聚醚胺大分子单体形成,其可以在弱溶剂喷墨色浆中完全伸展,形成有效空间位阻障碍,进而提高弱溶剂喷墨色浆分散稳定性,有效抑制颜料沉降,防止打印头的堵塞,改善打印的流畅度及鲜艳度。利用本发明的梳状分散剂制备弱溶剂喷墨色浆分散性好、稳定性好,不易沉降和絮凝,符合喷墨打印的要求。

2021-10-19

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一种荧光比率式共聚高分子温度计及其制备与应用

本发明公开了一种荧光比率式共聚高分子温度计及其制备与应用。该温度计通过将A):N-异丙基丙烯酰胺(NIPAM)--温敏单元、B):N,N-二甲基丙烯酰胺(DMAA)--温敏区间调节剂、C):3-乙酰基-7-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)香豆素(CMA)--荧光共振能量转移中的能量给体、D)：4-(6-丙烯酰氧基己基氨基)-7-硝基-2,1,3-苯并恶二唑(NBD)---受体、E)：烯丙基三苯基膦分子(ATPPB)--靶向基团五种单体共聚,构建了能量转移的线粒体荧光比率温度计。本发明还可以通过改变温敏单元和温敏区间调节剂在共聚高分子中的比例,实现对该温度计温敏区间的调整。

2021-10-12

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聚合物、含有聚合物而成的半导体组合物、以及使用了半导体组合物的膜的制造方法

提供形成膜时可以减少升华物的新型聚合物以及包含该聚合物的组合物。根据本发明的聚合物(A)包含从以下描述的由单元(a)、单元(b)、单元(c)和单元(d)组成的组中选择的至少一个结构单元,单元(a)、(b)、(c)和(d)的各自的重复数n-a、n-b、n-c和n-d满足下式：n-a+n-b＞0、nc≥0和nd≥0。

2021-09-28

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一种羧酸酯类聚合物的机制砂调节剂及其制备工艺

本发明公开了一种羧酸酯类聚合物的机制砂调节剂及其制备工艺,机制砂调节剂主要由以下组分制备而成：羧酸类单体215-260份、酯类单体20-37份、引发剂1.93-3.47份、阻聚剂0.1-0.4份、链转移剂6-15份、30-35％浓度液碱20-44份。本发明以羧酸类单体与酯类单体为原料,合成一种羧酸酯类聚合物,通过添加阻聚剂、链转移剂与调节反应初始pH值的方式来控制聚合物的分子量。并通过羧基小单体提供带负电的羧酸根基团,很好地吸附在带正电的机制砂颗粒表面,能够有效调节机制砂的颗粒流动度,改善机制砂性能。

2021-09-17

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