化学机械抛光组合物,其包括：基于水的液体载剂、分散在该液体载剂中的阳离子型研磨剂颗粒、具有小于7的等电点的第一氨基酸化合物及具有大于7的等电点的第二氨基酸化合物。该组合物的pH在约1至约5的范围内。用于化学机械抛光包括钨层的基板的方法,包括：使该基板与前述的抛光组合物接触,相对于该基板移动该抛光组合物,及研磨该基板以从该基板移除一部分钨且由此抛光该基板。

本公开提供一种硒化锌镜片用抛光液及其制备方法。所述硒化锌镜片用抛光液按重量计％,主要由下列原料组成：氧化铝：10％～30％；分散剂：15％～40％；pH值调节剂：使得硒化锌镜片用抛光液的pH至4～5的量；余量为去离子水；分散剂为二甲基硅油。所述硒化锌镜片用抛光液的制备方法,包括步骤：步骤一,将氧化铝和分散剂,依次加入去离子水中,同时搅拌均匀,形成溶液；步骤二,加入pH值调节剂至步骤一的溶液中调pH为4～5；步骤三,将步骤二中溶液在超声波振动条件下振动10min～30min,得到硒化锌镜片用抛光液。本公开的硒化锌镜片用抛光液具有配置方法简单,抛光效率高,且抛光液具有良好的稳定性、分散性,抛光后表面光洁透亮,粗糙度低,无划伤和凹坑。

本申请提供一种锗晶体用抛光液。所述抛光液按重量计％,主要由下列原料组成：抛光剂：20％～80％；有机溶剂为：10％～50％；pH值调节剂：1％～30％；余量为去离子水。并提供了一种锗晶体用抛光液的制备方法,包括步骤：步骤一,将抛光剂加去离子水在搅拌条件下加入有机溶剂；步骤二,将pH添加剂加入步骤一中,搅拌均匀后得到抛光液。本申请的锗晶体用抛光液不含有氧化剂,不含重金属离子,对环境无污染。抛光后晶片粗糙度较低,不容易起划痕,抛光液化学试剂简单,是理想的抛光液材料。

本发明公开了一种钨化学机械抛光液及其应用,所述抛光液包括二氧化硅磨料、硝酸铁、氧化剂、有机酸、表面活性剂和水,其中,所述二氧化硅磨料具有较高的表面粗糙度,且被多胺基聚合物包覆。本发明钨抛光液的磨料被多胺基聚合物包覆,通过多胺基聚合物的质子化和去质子化可逆反应,可以达到pH缓冲的目的,避免因pH局部改变而导致表面抛光不均匀,提高抛光的全局平整度。另外,与含未经改性磨料的抛光液相比,本发明抛光液的胶体稳定性明显提高。

本发明涉及研磨抛光领域,具体涉及一种蓝宝石研磨废液中的碳化硼的回收方法和碳化硼回收悬浮液以及蓝宝石研磨液。该回收方法包括：向所述废液中加水稀释,得到稀释废液,对所述稀释废液进行热处理,并进行沉降,形成碳化硼游离层、蓝宝石粉的液层和碳化硼沉积层,取碳化硼沉积层,以得到回收的碳化硼；其中,所述热处理的温度为40-80℃。该方法对环境友好,工艺简单,节省成本和时间,能够有效回收蓝宝石研磨废液中的碳化硼,节省资源。

本发明提供了一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用,属于超精密加工技术领域。以质量百分含量计,所述化学机械抛光垫由以下原料制备得到：磨料25～45％、还原剂15～30％、氧化剂15～30％、催化剂5～20％、活性剂1～3％、结合剂5～25％和填料1～10％。本发明将各化学试剂和磨料等物质加入到抛光垫中发挥作用,抛光时使用去离子水代替抛光液,节约了抛光液生产、运输费用,可将废物排放降到最低,减少了环保处理费用,降低了生产成本；同时本发明的化学机械抛光垫还具有良好的抛光质量。

本发明涉及超精密加工技术领域,更具体地,涉及一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置。其中,抛光方法以下步骤：将待加工工件置于旋转平台组件内,使各个抛光头位于待加工工件上方；将磁流变抛光液倒入旋转平台组件中；使各个抛光头实现同步转动；通过旋转平台组件使待加工工件进行旋转,开始抛光；在抛光过程中,使抛光头上下移动进行恒压抛光；y方向直线导轨组件带动旋转平台组件进行y方向的水平低速往复移动,使待加工工件得到均匀抛光。本发明可完好地实现抛光自由曲面的要求,在提高加工效率的基础上保证恒力加工,减轻加工的不均匀性,非常适合对自由曲面的光学元件、半导体、陶瓷等材料进行高效率超精密抛光。

本发明提供一种核壳结构的二氧化铈/纳米金刚石复合磨料、其制备方法及用于蓝宝石超精密抛光的抛光液。所述核壳结构的二氧化铈/纳米金刚石复合磨料为生长有纳米金刚石颗粒的二氧化铈纳米棒,该新型复合磨料既能避免金刚石划伤蓝宝石,显著降低蓝宝石表面的粗糙度,又能有效提高抛光效率。本发明还公开了一种用于蓝宝石超精密抛光的抛光液,该抛光液中的二氧化铈/纳米金刚石磨料分散均匀、不易团聚,更容易形成稳定的浊状液体系,长时间保持分散均匀且不分层。

本发明提供的一种含有氧化铝-碳化硼杂化颗粒的抛光液制备方法,包含如下步骤：S01：使用超声仪,在去离子水中对六方碳化硼粉末进行超声处理,形成碳化硼纳米片分散液；S02：搅拌下,将所述碳化硼纳米片分散液加入到氧化铝的水悬浮液中,搅拌之后加入1wt.％聚乙二醇(PEG)-400,将混合液继续搅拌之后再超声分散,在超声作用下,PEG-400充当碳化硼纳米片和氧化铝之间的桥梁,使氧化铝定向吸附在碳化硼纳米片上,形成吸附分散液；S03：在所述吸附分散液中加入3wt.％的pH调节剂,得到含有氧化铝-碳化硼杂化颗粒的抛光液。本发明可以减少α-Al-(2)O-(3)颗粒的团聚,降低抛光后工件表面粗糙度；且能够提高α-Al-(2)O-(3)颗粒与样品表面之间的有效摩擦接触,使得抛光速率大大提高。

本发明提供了一种纳米铈基抛光浆液的制备方法。以氧化沉淀法合成的纳米氢氧化铈(Ce(OH)-(4))为磨粒,无需经过烘干灼烧等步骤,直接进行分散和浆液调配,通过添加过氧化氢和调节浆液pH值等手段强化化学去除作用,可实现对玻璃的高速抛光。本发明合成纳米氢氧化铈磨粒一次颗粒尺寸为3～10nm,具有高表面化学活性,能与过氧化氢发生以下表面化学反应在表面生成氧化性较强的过氧化氢氧化铈(Ce(OH)-(3)OOH)：Ce(OH)-(4)+H-(2)O-(2)＝Ce(OH)-(3)OOH+H-(2)O,从而强化了其作为抛光磨粒的化学去除作用。该纳米铈基抛光浆液的制备方法流程短,得到的抛光浆液悬浮稳定性好,无需添加分散剂。