一种全方位成像的CsPbCl-(3)球面紫外探测器及其制备方法

本发明属于微纳制造与光电子器件领域,公开了一种全方位成像的CsPbCl-(3)球面紫外探测器及其制备方法,该球面紫外探测器包括球形衬底、柔性基底、经向金属电极阵列、纬向金属电极阵列及图案化的CsPbCl-(3)钙钛矿薄膜,通过所述图案化的CsPbCl-(3)钙钛矿薄膜阵列在球形衬底球面上的分布,并利用所述经向金属电极阵列与所述纬向金属电极阵列,即可实现紫外探测的球面成像。本发明通过对器件结构及制备工艺等进行改进,得到的球面紫外探测器可同时满足全方位探测,大视场成像等优点,极大地促进了球面成像器件与光电子器件的发展与应用。

2021-11-02

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一种PbS同质结器件及其制备方法

本发明属于微电子及光电子技术领域,公开了一种PbS同质结器件及其制备方法,其中的PbS同质结器件包括衬底以及位于该衬底上的N型PbS薄膜(3)、P型PbS薄膜(5),N型PbS薄膜(3)与衬底的上表面接触；P型PbS薄膜(5)与N型PbS薄膜(3)紧密连接,该P型PbS薄膜(5)是通过对N型PbS薄膜(3)部分掺杂得到的,由此形成PbS同质PN结。本发明通过对器件的材料组成、结构及对应的器件制备方法的整体工艺流程设计等进行改进,利用N型PbS薄膜和P型PbS薄膜形成PbS同质PN结,得到一种新型的基于PbS的同质结器件,尤其可作为探测红外波段的光电探测器。

2021-11-02

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一种高精度双面蓝光掩膜基版及其制造方法

本发明公开了一种高精度双面蓝光掩膜基版及其制造方法,其中,该高精度双面蓝光掩膜基版从上至下依次包括：铬氮氧化物超低反射膜层、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物低反射膜层以及玻璃基片。该高精度双面蓝光掩膜基版及其制造方法主要为提供一个Cr靶材,通过通入气体以形成所需的膜层,在镀膜靶向及行车方向均匀性良好,经过实际检测可得出：使得该高精度双面蓝光掩膜基版的均匀性达到小于或者等于2％。

2021-11-02

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导电薄膜的加工系统及制备工艺

本发明公开了一种导电薄膜的加工系统及制备工艺,涉及基材镀膜技术领域；包括第一真空磁控镀膜装置,用于在薄膜的表面形成磁控溅射合金层；第二真空磁控镀膜装置,设置在第一真空磁控镀膜装置后方,用于在磁控溅射合金层的外表面形成第一镀铜层；第二镀铜层成型装置,设置于第二真空磁控镀膜装置后方,用于在第一镀铜层的外表面形成第二镀铜层；水镀装置,设置在第二镀铜层成型装置的后方,用于在第二镀铜层外表面形成增厚导电铜层；本发明的有益效果是：提高了铜层表面的均匀性和致密性,提高了导电薄膜的品质。

2021-11-02

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低摩擦磨损膜和其制造方法

低摩擦磨损膜(10)包括：铬层(11),形成于金属基材(1)表面；碳化钨倾斜层(14),形成在所述铬层(11)的表面上；以及作为顶层的类金刚石碳层(15),形成在所述碳化钨倾斜层(14)的表面上。所述碳化钨倾斜层(14)包含铬－碳化钨倾斜层(12)和碳化钨均匀层(13)。上述铬－碳化钨倾斜层(14)在上述铬－碳化钨倾斜层(12)与上述碳化钨均匀层(13)的边界不形成存在钨单质的钨浓缩层。

2021-11-02

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柔性导电卷材的生产加工系统及制备工艺

本发明公开了柔性导电卷材的生产加工系统及制备工艺,涉及基材镀膜领域；该生产加工系统包括第一真空镀膜装置,用于在薄膜基材表面形成磁控溅射镀膜；第二真空镀膜装置,位于第一真空镀膜装置后方,用于在磁控溅射镀膜上形成第一金属镀层；第一水镀装置,位于第二真空镀膜装置后方,采用碱性水镀设备,在第一金属镀层上形成过渡金属镀层；第二水镀装置,位于第三真空镀膜装置后方,采用酸性水镀设备,在第一金属镀层上形成增厚金属镀层；本发明的有益效果是：能够避免蒸镀工艺的高温因素对膜面串泡和孔洞的影响,可以有效的解决串泡问题,同时解决原蒸镀工艺的高温金属微粒将基膜击穿的孔洞问题。

2021-11-02

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一种经氧等离子刻蚀的二氧化锆薄膜及其制备方法

本发明涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种经氧等离子刻蚀的二氧化锆薄膜及其制备方法,现提出如下方案,其包括在基体上经过氧等离子刻蚀过的表面侧制备覆盖在所述表面侧的二氧化锆薄膜。本发明提出一种将基体先经过氧等离子刻蚀,再用磁控溅射实现二氧化锆在经过刻蚀基体上的表面沉积的方法,这种方法制备得到的二氧化锆薄膜性能好,尤其是经过等离子刻蚀后力学性能等到提升,表面粗糙度降低,同时制备方法简单,可以实现大规模制备。

2021-11-02

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一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极

本发明的一种高靶材利用率圆形平面磁控溅射阴极,包括靶材、磁体、磁轭及靶座,还包括运动机构；靶材安装在靶座上方,磁体安装在磁轭上,位于靶座下方,磁体与阴极中轴偏心安装,即磁体中心与阴极中轴不重合；运动机构设置在磁轭的下方,磁轭连接到运动机构上,运动机构牵引磁轭从而带动磁体绕阴极中轴螺旋式周期旋转运动,旋转半径逐渐增大。本发明的磁体及磁轭通过运动机构实现螺旋式周期运动,靶材表面磁场同步螺旋式周期运动,靶材被均匀刻蚀,利用率大幅提高。

2021-11-02

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一种光学滤光片镀膜方法

本发明提供一种光学滤光片镀膜方法,采用双面磁控溅射镀膜设备,在镀膜支架上沿周向安装多个基片,在镀膜支架上方和下方分别设置上靶材和下靶材,在上靶材与镀膜支架之间和下靶材与镀膜支架之间均设置膜厚补偿结构以对上靶材和下靶材部分遮挡,旋转镀膜支架,利用上靶材和下靶材在基片两面同时进行镀膜,得到光学滤光片。本发明实现基片两面同时镀膜,同时,可满足批量加工,实现大口径基片整面分光的一致性。

2021-11-02

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一种锰锌铁氧体薄膜制备方法

本发明公开了一种锰锌铁氧体薄膜制备方法,所得锰锌铁氧体薄膜具有尺寸小、可加工、饱和磁化强度高,矫顽力低的优点。主要步骤为：以单晶硅片为衬底,加热后,依次以Fe-(2)O-(3)、ZnO、MnO-(2)为靶材,进行真空射频磁控溅射镀膜；真空高温烧结后,以之为衬底,加热后,依次以CaO、SiO-(2)、Nb-(2)O-(5)、ZrO-(2)、SnO-(2)、TiO-(2)、V-(2)O-(5)、P-(2)O-(5)、Ni-(2)O-(3)、Co-(2)O-(3)、MoO-(3)、Ta-(2)O-(5)、Bi-(2)O-(3)中的三种及以上为靶材,进行射频磁控溅射镀膜掺杂；真空退火后,得到锰锌铁氧体薄膜。

2021-11-02

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