用外部离子源产生的离子束法
膜厚修正板及光学直接监控镀膜设备
本发明公开一种膜厚修正板,其上开设有至少一个暴露孔,用于暴露玻璃基板的边缘部分,膜厚修正板的非暴露孔部分能够在玻璃基板的径向方向上,将玻璃基板全部遮挡,暴露的边缘部分能够进行中心直接监控,以减小光学薄膜滤光片的中心波长变化。同时,本发明提出一种包含上述膜厚修正板的光学直接监控镀膜设备,通过将旋转轴设置在偏离真空室中心轴的部位、将光学直接监控点设定在真空室中心轴部位,同时辅以具有暴露孔的膜厚修正板,可以使同一玻璃基板上同时具有中心直接监控和边缘直接监控的特点,既能保证薄膜光学滤光片的高产出率,降低生产成本,又能确保光学薄膜滤光片中心波长分布的一致性,实用性强。

2021-10-19

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一种柔性聚合物金属沉积复合处理装置
本发明公开了一种柔性聚合物金属沉积复合处理装置,包括放/收卷真空腔室、主体真空腔室、放/收卷装置和抽真空装置,放/收卷真空腔室和主体真空腔室之间通过狭缝一和狭缝二连通,放/收卷真空腔室内设置有放卷辊和收卷辊,主体真空腔室内设置有冷辊一、冷辊二和展平辊,展平辊分布有多个,冷辊一处设置有高功率脉冲磁控和低能离子束设备,冷辊二处设置有高功率脉冲磁控,聚合物基体膜从放卷辊开始,穿过狭缝一后经过展平辊、冷辊一、冷辊二后,经其他展平辊后穿过狭缝二回到收卷辊;抽真空装置用于放/收卷真空腔室和主体真空腔室的抽真空处理;本发明能够解决聚合物表面金属沉积的结合强度、均匀性和致密性不能满足使用要求的问题。

2021-10-01

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一种用于医疗器械模具表面抗磨的氮化硅复合薄膜制备方法
本发明公开了一种用于医疗器械模具表面抗磨的氮化硅复合薄膜制备方法,其特点是采用磁过滤阴极弧与离子束溅射共沉积的方法,在TiN薄膜基础上掺入Si形成nc-TiN/a-Si-3N-4三元纳米复合薄膜,其制备具体包括:基底预处理、ICP清洗、沉积过渡层和三元复合薄膜制备等步骤。本发明与现有技术相比具有工艺简单,绿色环保,对环境友好,在TiN薄膜基础上掺入Si形成Si-3N-4复合膜,大大降低了粗糙度,不但具有良好的抗磨损性能,减摩作用也十分显著,尤其适合医疗器械零件规模化生产用模具的表面薄膜,是一条很有应用前景及实用价值的制备方法。

2021-10-01

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