基于光学异常透射的铝孔阵列折射率传感器及其制备方法

本发明公开了一种基于光学异常透射的铝孔阵列折射率传感器,它包括铝膜,所述铝膜上开设有多个圆通孔,多个圆通孔呈周期型六角密排排布在铝膜上。本发明通过合理的参数设置实现了两个等离激元模式的耦合,从而产生了透射共振峰,进而得到了一个高灵敏度的折射率传感器,通过检测待测物质的折射率实现折射率传感器性能的提高。另外本发明采用金属铝作为薄膜材料,材料成本相对低廉且易于集成。

2021-11-02

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超滑骨架及其加工方法

本发明提供了一种超滑骨架及其加工方法,用于与超滑片组合构成超滑副,所述超滑片置于所述超滑骨架上,包括基底和设于所述基底上的薄膜层,所述薄膜层上设有若干个孔结构,所述薄膜层的表面是原子级平整表面,所述超滑片置于所述薄膜层上,且所述超滑片的尺寸大于所述孔结构的尺寸。本发明提供的超滑骨架,薄膜层的表面满足原子级平整,且孔结构的边缘不影响薄膜层的表面平整度,且超滑片的尺寸大于孔结构的尺寸,超滑片可以在超滑骨架上同时覆盖多个孔结构,从而可以避免超滑骨架上形成的凹凸结构影响其表面平整度,不仅有效的减小了摩擦力,且降低了对于超滑平面的加工要求,降低了加工难度。

2021-11-02

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一种锰锌铁氧体薄膜制备方法

本发明公开了一种锰锌铁氧体薄膜制备方法,所得锰锌铁氧体薄膜具有尺寸小、可加工、饱和磁化强度高,矫顽力低的优点。主要步骤为：以单晶硅片为衬底,加热后,依次以Fe-(2)O-(3)、ZnO、MnO-(2)为靶材,进行真空射频磁控溅射镀膜；真空高温烧结后,以之为衬底,加热后,依次以CaO、SiO-(2)、Nb-(2)O-(5)、ZrO-(2)、SnO-(2)、TiO-(2)、V-(2)O-(5)、P-(2)O-(5)、Ni-(2)O-(3)、Co-(2)O-(3)、MoO-(3)、Ta-(2)O-(5)、Bi-(2)O-(3)中的三种及以上为靶材,进行射频磁控溅射镀膜掺杂；真空退火后,得到锰锌铁氧体薄膜。

2021-11-02

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利用磁控溅射在硅衬底上制备的金属铪薄膜、方法和应用

一种利用磁控溅射在硅衬底上制备的金属铪薄膜、方法和应用。利用磁控溅射在硅衬底上制备金属铪薄膜方法,包括：将硅衬底和金属铪靶材装入磁控溅射设备生长室,对硅衬底进行超高真空高温烘烤处理；利用磁控溅射反溅射干式清洗工艺对硅衬底进行表面溅射处理；利用磁控溅射沉积工艺在硅衬底上制备氮化铪阻挡层；利用磁控溅射溅射沉积工艺在氮化铪阻挡层上制备金属铪薄膜；对金属铪薄膜进行原位真空高温退火处理,降温至室温完成金属铪薄膜制备。本发明利用磁控溅射工艺在硅衬底上实现金属铪薄膜单一择优取向高结晶质量制备。所制备的金属铪薄膜可应用于欧姆接触金属电极材料或硅衬底氮化镓材料异质外延制备中的导电缓冲层材料。

2021-11-02

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一种超硬疏水自清洁薄膜的制备方法

本发明公开了一种超硬疏水自清洁薄膜的制备方法。方法包括：一、基体前处理；二、镀膜前准备；三、制备Cr/CrN周期膜；四、等离子刻蚀；五、Al-(2)O-(3)颗粒表面改性；六、有机溶液修饰制备疏水膜,得到致密均匀-超硬-疏水-耐蚀的复合薄膜。本方法将物理的沉积方法和化学浸饰的方法结合,相互取长补短,充分发挥各自的优势,磁控溅射持续稳定,制备的薄膜致密均匀,周期膜可大幅度提高复合膜层的硬度,释放应力,增加韧性。有机溶液修饰可降低表面能,提高表面的疏水性能,而且Al-(2)O-(3)颗粒表面改性后掺杂有机溶液中修饰可二次提高薄膜的硬度,效果显著。本发明用于制备超硬疏水自清洁的复合薄膜。

2021-11-02

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一种周期性多层结构涂层带锯条及其制备方法和应用

本发明公开了一种周期性多层结构涂层带锯条及其制备方法,包括带锯条基体,及依次沉积在带锯条基体外表面的CrN结合层、CrN/AlCrN功能层和AlCrN顶层；所述CrN/AlCrN功能层由CrN层和AlCrN层交替沉积所得,所述带锯条基体表面的周期性多层结构涂层由电弧离子镀技术制备；本发明还公开了上述周期性多层结构涂层带锯条的应用,主要用于石油管道、蒸汽管道与锅炉炉体等厚壁管以及厚壁钢构件的锯切。本发明通过周期性多层结构设计使涂层带锯条表现出优异的力学性能与良好的韧性,并显著提升锯切寿命。

2021-11-02

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一种基于非溶剂的钙钛矿薄膜、制备方法及应用

本发明公开了一种基于非溶剂的钙钛矿薄膜、制备方法及应用,属于半导体材料技术领域。包括以下步骤：将一定比例的粉体原料混合后,于200～300℃处理0.5～1.5h,获得反应后的混合粉末；在真空条件下,采用电子束蒸发法,将反应后的混合粉末沉积至预设的衬底上,获得钙钛矿薄膜；将获得的钙钛矿薄膜,于100～450℃,退火5～50min,即得高质量的钙钛矿薄膜。本发明提供的方法无需溶剂参与,过程简单、可控进行CsPbBr-(3)薄膜的制备。

2021-11-02

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一种纳米梯度化中子靶及其制备方法

本发明涉及一种纳米梯度化中子靶及其制备方法,纳米梯度中子靶包括衬底、纳米梯度层以及纳米膜层,所述纳米梯度层位于所述衬底和所述纳米膜层之间,所述纳米梯度层包括多层纳米级厚度的薄膜；从衬底到纳米膜层,所述薄膜的成分呈现纳米级梯度渐变。本发明纳米梯度化中子靶所采用的纳米梯度结构能够有效提高中子靶结合力。本发明创新的将纳米梯度化结构引入中子靶,通过在衬底和纳米膜层之间引入在成分上纳米梯度变化的过渡层,缓解了衬底材料与纳米膜层晶格匹配度差造成膜基结合力不强的问题。同时由于纳米层状结构形成的纳米晶减缓中子靶吸氘或/和吸氚后的体积膨胀问题。

2021-10-29

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一种高密度等离子复合碳源沉积DLC厚膜的方法

本发明公开了一种高密度等离子体复合碳源沉积DLC厚膜的方法,具体包括基体的前处理、镀膜前准备、制备Ti-Si过渡缓冲层、制备DLC厚膜、时效和液氮冷却五个步骤,本方法将脉冲和偏压电源应用于磁控溅射技术中,该方法简单,厚膜的沉积效率高,厚膜的性能优良,适用于多种金属基体的保护,是一种厚膜制备的先进方法,磁控溅射过程中采用高密度混合气体碳源,等离子体密度高,辉光持续稳定,制备的厚膜致密均匀,在提高硬度的同时,又提高了耐蚀性能,这对于一些金属基体表面性能的提高以及扩大某些金属基体的应用,减少磨损、氧化和腐蚀,节约资源有着重要意义和前景。本发明用于制备高硬度的耐蚀DLC厚膜。

2021-10-29

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一种用于金属双极板的预涂层金属带材的制备方法及系统

本发明提供一种用于金属双极板的预涂层金属带材的制备方法及系统,方法包括如下步骤：S1：在惰性气体保护气氛下,将待处理金属带材进行磁控溅射处理,使得所述待处理金属带材的表面沉积防腐涂层,得到处理后的金属带材；S2：在惰性气体保护气氛下,将所述处理后的金属带材于700-1000℃下进行烧结处理,得到预涂层金属带材。解决现有金属双极板表面采用有机涂层,涂层的防腐性能弱,机械性能差的问题,或者解决现有金属双极板表面采用无机涂层,例如贵金属涂层,使得燃料电池金属双极板的制造成本高,不利于燃料电池商业化推广的问题。

2021-10-29

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