本发明提供了一种用于EBSD实验的样品预倾装载装置,包括：架体；装载组件包括基座和装载单元,基座可拆卸地设置在架体上,基座有顺次连接的放置部、基准部和连接部,连接部用于与测试装置连接,基准部有倾斜参照面,放置部有放置腔和与放置腔连通的开口,开口与倾斜参照面位于基座的同一侧,装载单元有相对放置腔转动的转动状态和相对放置腔移动的移动状态,装载单元具有装载面,装载面朝向开口设置且用于放置样品；驱动机构设置在架体上且与装载单元驱动连接,驱动机构用于调整样品在基座上的位置,使样品检测面与倾斜参照面于同一平面。通过本申请提供的技术方案,能够解决现有技术中的样品安装精度以及实验结果准确性较低的问题。

一种对通过电子背散射衍射成像的样品进行分析的方法。所述方法包括标识所述样品上的位置的电子背散射衍射图像中的多个菊池带。所述方法进一步包括对于每个所标识的菊池带,至少部分地基于对所述样品上的所述位置的估计形成所述菊池带的相应向量表示。所述样品的配置通过将来自多个预期向量表示集的特定的预期向量表示集标识为与所述多个所标识的菊池带的所述向量表示相匹配来确定。

本发明提供了一种原位研究二维材料低温晶体结构的装置及方法。包括低温控制系统、RHEED系统、衬底台、衬底台升降器、中空Z轴驱动器、真空系统。通过调节衬底台与换热装置的相对距离在低温和高温两种工作模式间进行切换。低温工作模式：衬底台背面和换热装置底端完全接触,适于二维材料的低温晶体结构测试和低熔点金属薄膜制备；高温工作模式：换热装置远离衬底台,高真空环境保证了极小的气体对流漏热。本发明在RHEED系统中集成低温控制系统,为二维材料的晶体结构测试提供了低温环境。其中,本发明的有益效果是：结构简单,操作方便,适合原位二维材料的低温晶体结构分析且不破坏样品结构。

同步STEM和TEM显微镜。用于使用单个电子显微镜系统通过TEM和STEM技术研究样本的方法包含以下步骤：朝着所述样本发射电子；将所述电子形成为两个束；以及然后修改所述两个束中的至少一个束的聚焦特性,使得所述两个束具有不同的焦平面。一旦所述两个束具有不同的焦平面,第一电子束被聚焦,使得所述第一电子束充当聚焦在所述样本处的STEM束,并且第二电子束被聚焦,使得当入射到所述样本上时,所述第二电子束充当作为平行束的TEM束。然后,可以由单个检测器或检测器阵列检测由入射到所述样本上的所述STEM束和所述TEM束产生的发射,并且所述发射用于产生TEM图像和STEM图像。

电子衍射全息照相术。根据本公开,用于使用电子衍射全息照相术来研究样本的方法包括以下初始步骤：向所述样本发射多个电子；将所述多个电子形成为第一电子束和第二电子束；以及修改所述两个束中的至少一个的聚焦特性,使得所述两个束具有不同的焦平面。一旦所述两个束具有不同的焦平面,所述方法就包括：聚焦所述第一电子束,使得其在所述样本处或所述样本附近具有焦平面；以及聚焦所述第二电子束,使得其入射到所述样本上,并在衍射平面中具有焦平面。然后在所述衍射平面中检测所述第一电子束和衍射的第二电子束的干涉图案,然后用于生成衍射全息图。

本申请实施例公开了一种组合样品及其制备方法,其中,制备方法包括：将样品承载部放置于承载台上；所述样品承载部包括基底和至少一个格栅,所述栅格位于所述基底背离所述承载台的一侧；在所述格栅中形成凹槽；所述凹槽具有第一侧壁,所述第一侧壁与所述基底垂直；将待减薄样品粘贴于所述凹槽的第一侧壁上,得到组合样品；所述待减薄样品的粘贴面与所述基底呈第一预设角度,所述第一预设角度为锐角；利用聚焦离子束,对所述待减薄样品进行减薄处理。

用于获取3D衍射数据的方法和系统。通过使用第一带电粒子束照射感兴趣区域来获取样品在各种倾斜角度下的衍射图案。通过使用第二带电粒子束照射所述感兴趣区域来获取样品图像。通过分裂由带电粒子源产生的带电粒子而形成所述第一和第二带电粒子束。

提供一种电特性高的金属氧化物膜。提供一种可靠性高的金属氧化物膜。金属氧化物膜包含铟、M(M是铝、镓、钇或锡)及锌。在根据从垂直于金属氧化物膜的膜面的方向照射电子束的电子衍射决定的面间隔d的分布中,金属氧化物膜具有第一峰以及第二峰。第一峰的顶点位于0.25nm以上且0.30nm以下的范围内,第二峰的顶点位于0.15nm以上且0.20nm以下的范围内。该面间隔d的分布是利用金属氧化物膜的多个区域中的多个电子衍射图案而得到的。电子衍射通过使用电子束径为0.3nm以上且10nm以下的电子束进行。

本发明公开了一种金属摩擦层透射电子显微镜样品的制备方法。该方法包括：从样品中切取金属薄片,打磨,得到打磨后的金属薄片；将打磨后的金属薄片镶嵌在金属管中,镶嵌处使用树脂黏贴,得到薄片试样；将薄片试样的正反两面分别打磨,得到打磨后的薄片试样,进行离子减薄处理至薄片试样出孔为止,得到离子减薄后的试样；将离子减薄后的试样进行离子抛光处理,得到所述金属摩擦层透射电子显微镜样品。本发明的制备方法工艺简单,使用制样的设备和技术成熟,有利于防止砂纸打磨过程中的摩擦层脱落和采用凹坑仪减薄过程中容易出现的样品碎裂,适合于具有微米级表面氧化层和严重塑性变形层等多层结构的金属摩擦层截面透射电子显微镜样品的制备。