本公开提供了一种镀膜探针的圆片级制备方法及镀膜探针,制备方法包括：在圆片级的衬底上形成针尖图形掩膜和补偿结构图形掩膜；形成针尖原胚结构和补偿结构；锐化针尖；背面各向异性深刻蚀体硅层；正面刻蚀埋氧层的裸露区域及体硅层；去除正面深刻蚀掩膜层和背面深刻蚀掩膜层,形成基座和悬臂梁；在针尖的表面镀膜,形成镀膜针尖,完成镀膜探针的圆片级制备。采用该种制备方法,实现了探针的可靠制备,该方法操作简单、可靠；通过优化薄膜沉积条件,实现三维结构中不同功能薄膜材料的保形沉积,可广泛应用于原子探针、纳米针尖阵列等的制作中。