本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种光学转移装置及多层微纳器件加工方法,光学转移装置包括第一调节机构、第二调节机构和显微成像系统。第一调节机构中,第一位移平台能够对第一载物台进行可控、可量化的移动。第二调节机构中,第二位移平台能够对第二载物台进行可控、可量化的移动。因此,在第一调节机构和第二调节机构的作用下,第一样品和第二样品能够相互对齐,并且,在驱使第一载物台和第二载物台移动的过程中,通过显微成像系统实时显示第一样品的形貌,从而可视化地实现微区贴装,克服了当前转移装置参数无法量化和精细控制的缺点,减少人为因素的影响,从而提高效率和质量。

本发明公开了一种用于光片和结构光显微镜成像的通用耦合槽,包括耦合槽主体和调节耦合槽主体内部液体温度的控制器,所述耦合槽主体的一侧外表面开设有进液管口和出液管口,所述进液管口位于出液管口的上方。本发明所述的一种用于光片和结构光显微镜成像的通用耦合槽,可以自动补水,使水位一直保持在预定的高度,能保证耦合槽内液体的温度,使得显微镜在较长时间观察活体样本成像时,保证样品的活性环境,解决人力补水费时费力的问题,能够对适配管状、玻片、微流芯片和孔板多种样本装载及夹持,使用范围比较广,而且能够进行快速三维成像,显微镜成像的效率和质量高,还能完全排干净耦合槽的水,方便人们清理,而且具有紫外线杀菌功能。