本发明涉及一种YIG/SnTe异质结单晶外延薄膜及其制备方法,所述YIG/SnTe异质结单晶外延薄膜的制备方法为：提供GGG基底,并将该GGG基底置于真空系统中；利用脉冲激光沉积生长一YIG薄膜于该GGG基底表面；再利用分子束外延技术生长一SnTe薄膜于作为基底的YIG薄膜表面。利用本发明方法可制备出高质量的单晶外延铁磁/拓扑绝缘体异质结,可在300K时观察到反常霍尔效应。

本发明提供了一种反常霍尔元件及其制备方法,以在单晶MgO(100)上外延生长的Fe、Cr共掺杂的单晶Ni薄膜作为活性层材料,活性层形状为“十”字形,薄膜厚度为2nm～30 nm,采用离子束沉积法生长。本发明的微型反常霍尔元件具有较小的体积,较大的反常霍尔电阻率,较小的电阻率和功耗,较宽的工作温度范围,在磁电信号转换等领域有广泛的应用。

本发明公开了一种磁性随机存储器及其制备方法和控制方法,涉及隧穿磁电阻领域,步骤包括：构建所述磁性随机存储器的底部层级结构；构建混合式重金属层；构建剩余隧穿磁隧道结膜层结构；构建加工隧穿磁隧道结。所述方法通过在底层衬底结构上表面构建混合式重金属层,在不同材质金属层上表面溅射生成完整磁隧道结,针对重金属层通入电流,利用不同材质的自旋霍尔角角度和大小不同的性质,使所述重金属层在通入电流时实现多模态翻转动作。结合其磁性随机存储器本身良好的存储性能,可实现计算机的“逻辑存储一体化”,从而实现对计算机运算速度的提升。

本发明涉及一种高迁移率的SiC基石墨烯器件及其制备方法,方法包括：清洗衬底层,所述衬底层包括n～(+)SiC衬底层和位于所述n～(+)SiC衬底层上的n-SiC衬底层；将石墨烯转移到所述衬底层上；在所述石墨烯和所述衬底层上制备若干霍尔电极；对所述衬底层、所述石墨烯和所述霍尔电极进行退火处理,以得到SiC基石墨烯器件。本发明所提供的SiC基石墨烯器件的制备方法工艺简单,价格低廉,非常适用于商用化应用,并且所获得的石墨烯保持着比较完美的晶体结构,缺陷含量比较低。

本发明公开了一种太赫兹自旋选择性传输全硅超构器件设计方法,包括S1、基于全硅有损材料构建基本结构,基本结构包括三个几何分布的椭圆条；S2、将S1中的基本结构进行周期延伸形成超表面。本发明强化太赫兹波与硅的相互作用,设计了自旋选择性透射全硅超表面,在太赫兹波段获得了优良的自旋选择性传输特性,圆二色性可达0.4,相比现有技术,本发明将自旋选择透射全硅超表面的圆二色性提高了30％左右。