一种具有静电吸盘的静电吸附装置,在所述静电吸盘的电介质内内置有电极和加热器,所述静电吸附装置具有：直流电源部,其具有向所述电极供给直流电力的直流电源；第一除电电路,其连接于所述直流电源与所述电极之间的电力供给线路；以及第二除电电路,其连接于所述第一除电电路与所述电极之间的所述电力供给线路,其中,所述第一除电电路具有第一接地继电器,该第一接地继电器能够经由电压下降用电阻构件将所述电极与接地侧连接断开,所述第二除电电路具有隔离继电器和第二接地继电器,所述隔离继电器能够将所述第一除电电路与所述第二除电电路之间连接断开,所述第二接地继电器连接于所述隔离继电器与所述电极之间的所述电力供给线路,能够不经由电阻构件地将所述电极与接地侧连接断开。

在一些示例中,一种衬底支撑组件包括：单块式陶瓷主体；加热器元件,其设置在所述单块式陶瓷主体内；以及RF天线,其设置在所述单块式陶瓷主体内。一或多条功率线对所述加热器元件和所述RF天线进行供给。层状结构形成或包括在所述单块式陶瓷主体内,所述层状结构包括至少一层,所述至少一层的热导率不同于所述单块式陶瓷主体的热导率。

本公开涉及用于在基板处理腔室中吸附的方法和系统。在一个实施方式中,一种在基板处理腔室中吸附一个或多个基板的方法包括：将吸附电压施加到基座。将基板设置在基座的支撑表面上。所述方法还包括：从施加的电压斜变吸附电压；在斜变吸附电压时检测阻抗偏移；确定发生阻抗偏移时的对应吸附电压；以及基于阻抗偏移和对应吸附电压来确定精确吸附电压。

一种用于支撑衬底的静电夹具包括衬底区域、在衬底区域的边缘处的电极区域、支撑层、导电层、接触层和电极。支撑层具有本体,该本体具有基本上彼此平行并且设置在本体的相对侧的第一表面和第二表面。通孔被设置在电极区域中并且在第一表面与第二表面之间提供通路。导电层被设置在支撑层的第二表面上。接触层被设置在导电层上。接触层在电极区域中是不间断的并且在衬底区域中包括突节。当静电夹具支撑衬底时,突节接触衬底。电极设置在通孔中并且电耦合到导电层。

提供了一种用于等离子体处理室的静电卡盘系统。提供了包含Al-SiC的基板。陶瓷板设置在该基板上。粘合层将该陶瓷板粘合至该基板上。

此处提供静电卡盘的实施例。在一些实施例中,一种在基板处理腔室中使用的静电卡盘,包括：板,具有第一侧和与第一侧相对的第二侧；第一电极,嵌入板中靠近第一侧；第二电极,嵌入板中靠近第二侧；多个导电元件,将第一电极耦合至第二电极；第一气体通道,设置于板内并且介于第一电极及第二电极之间；气体入口,从板的第二侧延伸至第一气体通道；以及多个气体出口,从板的第一侧延伸至第一气体通道。

一种用于衬底处理系统的静电卡盘包含单体,其由陶瓷制成。多个第一电极被设置在该单体中邻近该单体的顶表面处,且被配置成选择性地接收夹持信号。气体通道形成于该单体中,且被配置成将背侧气体供应至该顶表面。冷却剂通道形成于该单体中,且被配置成接收流体以控制该单体的温度。