具体实施方式

下面结合附图给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。

图1为本发明提供的一种多功能织造开口装置的闭口图，图2为本发明提供的一种多功能织造开口装置的开口图，本发明的多功能织造开口装置包括：综框装置、综片装置两个部分，其中综框装置是开口运功的承载部分包括上综框和下综框，上下综框配合织物组织运动形成开口进行织造；综片装置用于支持纱线经过，监控纱线张力，展平纱线，根据开口运行的不同阶段，进行空间转换。

如图1、2所示：本发明具体包括上综框1、下综框2、横向滑移装置3、纵向滑移装置4、横向滑轨5、纵向滑轨6、导向块7、槽筒8、伸缩架9、综丝10、上旋转盘11、下旋转盘12、接触感应器13、瓷眼14、感应环15、纱线16、走纱槽17；上综框1沿着纵向滑移装置4和横向滑移装置3做上下左右的二维运动，下综框2沿着纵向滑移装置4做上下一维运动，接触感应器13安装在综丝10上，伸缩架的钢骨中设置为可伸缩杆，伸缩架和上综框1固定安装在一起，用于配合上综框上下左右稳定运动；纵向滑移装置4和纵向滑轨6分别安装在上综框1的两侧，槽筒8安装在横向滑轨5的下方，横向滑移装置3和槽筒8之间设置有导向块7，伸缩架9一端连接横向滑移装置3，另一端连接在上综框1上综框1上，上旋转盘11和下旋转盘12分别安装在上综框1和下综框2上，瓷眼14开在上旋转盘11和下旋转盘12上，走纱槽17设置在上旋转盘11和下旋转盘12上，纱线穿过走纱槽17，瓷眼14上安装有感应环15。

本发明中上综框1根据产品设计要求沿着纵向滑移装置4和横向滑移装置3做上下左右的二维运动，下综框2沿着纵向滑移装置4做上下一维运动，在生产时，综框开口时综丝10是正面朝外排列，瓷眼14朝外用于纱线16穿过，当综框做闭口运动时，上下综框上的综丝10做部门交叉运动，在交叉发生之前，综丝10上的接触感应器13，感应到上下综丝间的距离达到综丝10发生交叉前的安全距离后，会将信号返回，做出综丝10旋转的命令，使综丝10转为侧面朝外，调整出综丝间的间隔空间用于上下综框上的综丝交叉，完成闭口运动，闭口完成，上下综框开始向相反方向运动即上综框1向上运动，下综框2向下运动，在综框上的综丝10离开交叉位置后，接触感应器13在感应到安全距离时会做出旋转命令，使综丝正面朝外，在综丝由正面朝外旋转为侧面朝外和侧面朝外旋转为正面朝外的过程中，综丝10表面会对纱线做出展宽的积极效果如图3所述，纱线经过瓷眼14表面，因为摩擦瓷眼表面温度升高，同时综丝旋转过程中，综丝的侧边对纱线具有扩展的作用，因为综丝采用陶瓷材料所以外观表面不会对碳纱产生损伤的消极作用，综丝上的瓷眼14上装有感应环15，当纱线经过时，感应环15会感应纱线的张力，根据电脑输入端输入的纱线的理论张力值，判断生产时经过综丝上的瓷眼中的纱线张力是否处于正常范围，如果纱线张力过大时，纱线对感应环15产生压迫感，感应环15会将纱线对其自身的压迫感转换为纱线的张力返回电脑与输入的纱线理论张力值进行比较，超出正常范围，电脑会发出报警指令，生产需要停机进行检测、调整，通过本发明一种多功能织造开口装置生产出来的织物可以保证纱线的张力一致，可以解决织物力学性能不稳定，后续预浸加工效果不良的问题。同时将原有设备上一页综框的空间变为了两页综框，即空间一定的情况下，本发明可以安装的综框数是现有设备的综框数的两倍。

本发明的综丝内部埋有传感线，连接感应器与编码器，编码器负责将传感器返回的信号转换成编码语言传递给电脑用于控制综丝在不同的位置时的旋转角度，其中感应环由陶瓷材料构成，因为陶瓷材料具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点，感应环设置为椭圆形，当纱线摩擦经过时生热，感应环表面温度升高，走纱槽17成半椭圆形凹槽，有利于碳纱展平和滑移，综丝在综框运动形成开口时，一页综框中综丝间的空间变大，正向旋转90度，综丝正面朝外，在综框运动形成闭口时，两页综框中的综丝交错排列，综丝间的空间变小，则反向旋转90度，综丝侧面朝外。本发明中的横向滑移和纵向滑移装置均是由电脑通过控制电机转动来带动槽筒转动，从而达到上综框横移的效果，上综框横移的距离和方向由电脑程序输入来达成。如果生产的产品为非绞纱织物或者非网格织物，在电脑程序输入时可以进行品种选择并将上综框的横移参数选择为0，即上综框只有纵向运动没有横向运动，简单的上下运动与下综框配合完成开口和闭口的综框运动进行打纬，织造成织物。如果生产的产品为绞纱织物或者网格织物时，可以在电脑程序输入时，选择上综框需要横移的距离和方向，以达到在上下综框进行开口运动时，经纱和经纱间的左右位置发生变化，达到经纱与纬纱间的扭绞效果，与纬纱配合形成网格织物，碳纱通过综丝中的感应环。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内，本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。