阅读说明：本技术 屏幕显示的精度提升方法 (Screen display precision improving method ) 是由 张伟 刘易朋 侯蒙召 唐少博 于 2020-04-27 设计创作，主要内容包括：本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法,本发明实施例在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案；依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光,形成第一曝光标记,第二曝光标记和曝光区域；获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量,调整所述曝光区域的参数,从而提升拼接区域的精度,避免出现亮度不均匀和各种可见痕迹等问题。(The embodiment of the invention provides a screen display precision improving method, wherein at least one first exposure mark pattern and at least one second exposure mark pattern are arranged on each layer of photomask; sequentially exposing the deposition layer by using each layer mask to form a first exposure mark, a second exposure mark and an exposure area; and acquiring the relative offset between the first exposure mark and the second exposure mark, and adjusting the parameters of the exposure area, thereby improving the precision of a splicing area and avoiding the problems of uneven brightness, various visible traces and the like.)

屏幕显示的精度提升方法

技术领域

本发明涉及屏幕显示技术领域，具体涉及一种屏幕显示的精度提升方法。

背景技术

随着人们生活水平的提高，结合人们的日常需求，液晶面板向着大尺寸高清晰度的趋势发展其中阵列曝光生产线成为大尺寸高清产品在产能及品质上的瓶颈，在利用阵列曝光机完成面板显示时，由于阵列曝光机会受到机型的限制，在生产大尺寸屏幕的产品时需使用到拼接功能，如图1所示，即对光罩上的小尺寸的曝光区域图案通过两次甚至多次的曝光，形成第一曝光区域和第二曝光区域，在大尺寸的玻璃基板上拼接组合成为一个完整的大尺寸显示图案，其中，第一曝光区域和第二曝光区域的重叠部分为拼接区域。在对现有技术的研究和实践过程中，本发明的发明人发现，利用光罩上的小区域曝光图案经过两次甚至多次曝光，在大尺寸的玻璃基板上拼接形成大尺寸曝光区域的过程中，如图2所示，拼接区域会出现位置精度差异，容易使得显示产品上的拼接区域亮度不均匀，产生各种可见的痕迹。

发明内容

本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法，在各层别光罩上设置第一曝光标记图案和第二曝光标记图案，从而提升拼接区域的精度，避免出现亮度不均匀和各种可见痕迹等问题。

本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法，包括：

在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案；

依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域；

获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域，包括：

对同一所述沉积层进行曝光，第一次曝光形成所述第一曝光标记和第一曝光区域；

第二次曝光形成所述第二曝光标记和第二曝光区域。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述对同一所述沉积层进行曝光，第一次曝光形成所述第一曝光标记和第一曝光区域，包括：

光源透过所述光罩显影所述沉积层上的光阻层，所述第一曝光标记位于所述沉积层的非显示区域，所述第一曝光区域位于所述沉积层的显示区域。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述第二次曝光形成所述第二曝光标记和第二曝光区域，包括：

光源透过所述光罩显影所述沉积层上的光阻层，所述第二曝光标记位于所述沉积层的非显示区域，所述第二曝光区域位于所述沉积层的显示区域。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述第一曝光标记图案和所述第二曝光标记图案的透光率不同。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述第一曝光区域和所述第二曝光区域的重叠部分为拼接区域，所述第一曝光标记和所述第二曝光标记位于所述拼接区域同一边的外侧边缘。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述第一曝光标记包含所述第二曝光标记。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述第一曝光标记和所述第二曝光标记的形状为规则图形，所述第一曝光标记的面积大于所述第二曝光标记的面积。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量，包括：

获取所述第一曝光标记的第一中心点和所述第二曝光标记的第二中心点；

测量所述第一中心点和所述第二中心点在水平方向上的水平距离差值；

测量所述第一中心点和所述第二中心点在竖直方向上的竖直距离差值。

可选的，在本发明的一些实施例中，所述调整所述曝光区域的参数，包括：

根据所述水平距离差值和所述竖直距离差值，对所述曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转。

本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法，在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案，每个层别光罩对应一个沉积层，依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，在对应的沉积层进行至少两次曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域，第一次曝光，在对应的沉积层上形成第一曝光标记和第一曝光区域图案，然后进行第二次曝光，在对应的沉积层上形成第二曝光标记和第二曝光区域图案，获取第一曝光标记和第二曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数，使得该层光罩对应的沉积层的拼接区域的精度提升，然后再依次利用另一个光罩对其他沉积层进行曝光，使得各层别光罩对应的沉积层的拼接区域的精度都提升，从而提升拼接区域的屏幕显示的精度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的大尺寸显示产品拼接的场景示意图；

图2是本发明实施例提供的拼接区域位置精度差异的场景示意图；

图3是本发明实施例提供的两次曝光拼接形成大尺寸产品的场景示意图；

图4是本发明实施例提供的屏幕显示的精度提升的方法流程示意图；

图5是本发明实施例提供的第一曝光标记和第二曝光标记在沉积层上的位置示意图；

图6是本发明实施例提供的第一曝光标记和第二曝光标记的位置示意图；

图7是本发明实施例提供的屏幕显示的精度提升的方法另一流程示意图；

图8是本发明实施例提供的第一左侧曝光标记，第一右侧曝光标记，第二左侧曝光标记和第二右侧曝光标记在沉积层上的位置示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法。其中该方法可以在尼康阵列曝光机上应用实践。

例如，如图3所示，利用多个光罩对各个光罩对应的沉积层进行多次曝光，光罩上包括两种类型的曝光区域图案，第一种曝光区域图案的尺寸为32寸，用于在沉积层上形成32寸的曝光区域，第二种曝光区域图案用于在沉积层上经过两次或多次曝光拼接形成65寸的曝光区域，在光罩上设置第一曝光标记图案和第二曝光标记图案，利用光罩上的第二种曝光区域图案进行第一次曝光，同时对光罩上的第一曝光标记图案进行曝光，在此光罩对应的沉积层上形成第一曝光标记和第一曝光区域，第一次曝光完成后，移动此沉积层，再利用光罩上的第一种曝光区域和第二种曝光区域进行第二次曝光，同时对光罩上的第二曝光标记进行曝光，在此光罩对应的沉积层上形成第二曝光标记和第二曝光区域，第一曝光区域和第二曝光区域的重叠部分为拼接区域，对第二种曝光区域图案进行两次曝光后，在对应的沉积层上拼接形成65寸的曝光区域，对第一种曝光区域图案进行一次曝光，在对应的沉积层上形成32寸的曝光区域，从而在对应的沉积层上形成大尺寸的曝光区域，第一曝光标记和第二曝光标记位于所述沉积层的非显示区域，第一曝光区域和第二曝光区域位于所述沉积层的显示区域，第一曝光标记和第二曝光标记的形状为规则图形，由于光罩上第一曝光标记图案和第二曝光标记图案的透光率不同，故对光罩经过两次曝光之后，在对应的沉积层上会产生两个颜色不同的规则图形，分别为第一曝光标记和第二曝光标记，第一曝光标记包含第二曝光标记，获取所述第一曝光标记的第一中心点和所述第二曝光标记的第二中心点，测量所述第一中心点和所述第二中心点在水平方向上的水平距离差值，测量所述第一中心点和所述第二中心点在竖直方向上的竖直距离差值，根据所述水平距离差值和所述竖直距离差值，对所述曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转，直至达到第一曝光标记的第一中心点和第二曝光标记的第二中心点重合的效果，在完成利用一个光罩对一个沉积层进行曝光之后，再开始利用另一个层别的光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光，直至利用各层别光罩对所有的沉积层都完成曝光，形成最终的显示产品。

以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。

本实施例将从屏幕显示的精度提升的方法的角度进行描述，该屏幕显示的精度提升的方法具体可以应用在阵列曝光生产线中，该阵列曝光生产线会应用曝光机，曝光机可以包括尼康曝光机，光合曝光机，博格利诺曝光机以及光岳曝光机等。

一种屏幕显示的精度提升的方法，包括：在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案；依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域；获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数。

如图4所示，屏幕显示的精度提升的方法的具体流程如下：

步骤401、在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案。

例如，光罩是在制作电子元器件的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制到玻璃基板上，必须透过光罩作用的原理，因此在光罩上有各种各样的图案，使得透过光源显影在对应的沉积层上，在原先曝光区域图案的基础上，再在光罩上设置至少一个第一曝光标记图案和至少一个第二曝光标记图案，光源透过光罩显影沉积层上的光阻层，使得光罩上的第一曝光标记图案显影在对应的沉积层上，形成第一曝光标记，同时光罩上的第二曝光标记图案也显影在对应的沉积层上，形成第二曝光标记。

可选的，光罩上包括两种类型的曝光区域图案，一种曝光区域图案的尺寸为32寸，用于在沉积层上形成32寸的曝光区域，另一种曝光区域图案用于在沉积层上经过两次或多次曝光拼接形成65寸的曝光区域。

可选的，根据各沉积层对应的光罩的不同，每个光罩上设置的第一曝光标记图案和第二曝光标记图案的位置不同，根据每个生产的显示产品的不同，每个光罩上设置的第一曝光标记图案和第二曝光标记图案的位置也不同。

步骤402、依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域。

例如，在生产大屏幕显示产品的过程中，需要按照一定的制作次序利用多个各层别光罩对各层别光罩对应的各层别沉积层进行曝光，各层别光罩上的第一曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第一曝光标记，各层别光罩上的第二曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第二曝光标记，各层别光罩上的曝光区域图案在各层别沉积层上对应形成曝光区域，直至所有的沉积层都完成曝光。

其中，各层别沉积层包括各层别功能层以及各层别功能层上的光阻层，各层别功能层包括金属一层，金属二层，半导体层等等。

可选的，利用每一层的光罩对该层光罩对应的沉积层进行曝光的步骤是相同的，由于光罩上曝光区域图案的尺寸小于要生产的大尺寸的显示面板，故对于每个沉积层，都要利用对应的光罩进行两次甚至多次曝光，形成一个或多个第一曝光区域，以及一个或多个第二曝光区域，直至所有的第一曝光区域和第二曝光区域在大尺寸的显示面板上拼接成一个完整的大尺寸的曝光区域，第一曝光区域和第二曝光区域重叠的部分为拼接区域。

可选的，请一并参阅图5，在经过两次曝光拼接完成一个完整的大尺寸的曝光区域的过程中，第一次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第一曝光标记图案形成对应的第一曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第一曝光区域，第二次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第二曝光标记图案形成对应的第二曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第二曝光区域，第一曝光区域和第二曝光区域之间的重叠区域为拼接区域，第一曝光标记和第二曝光标记位于沉积层的非显示区域，第一曝光区域和第二曝光区域位于沉积层的显示区域，所述第一曝光标记和所述第二曝光标记位于所述拼接区域同一边的外侧边缘。

可选的，光罩上设置的第一曝光标记图案和第二曝光标记图案的透光率不同，沉积层上的第一曝光标记和第二曝光标记的形状为规则图形，例如矩形、十字架等等，如图6所示，沉积层上的第一曝光标记和第二曝光标记的形状为矩形，所述第一曝光标记的面积大于所述第二曝光标记的面积，第一曝光标记包含第二曝光标记。

可选的，第一次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第一曝光标记图案形成对应的第一曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第一曝光区域，由于第一曝光标记图案和第二次曝光标记图案的透光率不同，例如第一次曝光标记图案的透光率为百分之五十，曝光区域图案的透光率为百分之百，故第一曝光标记在沉积层上的颜色比第一曝光区域在沉积层上的颜色深，第二次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第二曝光标记图案形成对应的第二曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第二曝光区域，第二曝光标记图案的透光率也为百分之五十，第二曝光区域图案的透光率为百分之百，因此第二曝光区域在沉积层上的颜色与第一曝光区域在沉积层上的颜色相同，由于第一曝光标记图案包含第二曝光标记图案，故第二曝光标记图案经过了两次曝光，透过的光的效果与曝光区域图案一致，故第二曝光标记与第一曝光区域和第二曝光区域在沉积层上的颜色一样，因此，为了能够在沉积层上看到第一曝光标记和第二曝光标记，故第一曝光标记的面积要大于第二曝光标记的面积。

步骤403、获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数。

例如，获取沉积层上所述第一曝光标记的第一中心点和所述第二曝光标记的第二中心点，测量第一中心点和第二中心点在水平方向上的水平距离差值，测量第一中心点和第二中心点在竖直方向上的竖直距离差值，根据该水平距离差和竖直距离差，调整曝光区域的参数。

可选的，获取第一曝光标记四条边的中点，将两组对边的中点互相连接成两条线，两条线的交点就是第一曝光标记的第一中心点，同理，获取第二曝光标记四条边的中点，将两组对边的两组对边的中点互相连接成两条线，两条线的交点就是第二曝光标记的第二中心点。

其中，调整曝光区域的参数为根据水平距离差值和竖直距离差值，对曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转，直至第一中心点和第二中心点的显示效果为第一中心点和第二中心点重合。

可选的，测量第一中心点和第二中心点在水平方向上的水平距离差值，测量第一中心点和第二中心点在竖直方向上的竖直距离差值，若水平距离差值和竖直距离差值都为零，则不用调整曝光区域的参数，即不用对曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转。

根据上述实施例所描述的屏幕显示的精度提升的方法，以下将作进一步详细说明。

请参照图7，图7为本发明实施例提供的屏幕显示的精度提升的方法的另一流程示意图。如图7所示，该屏幕显示的精度提升的方法的流程可以如下：

步骤701、在各个层别光罩上设置至少一第一左侧曝光标记图案，至少一第二左侧曝光标记图案，至少一第一右侧曝光标记图案和至少一第二右侧曝光标记图案。

例如，光罩上具有各种各样的图案，该图案包括曝光区域图案，在原有图案的基础上，再在光罩设置至少一第一左侧曝光标记图案，至少一第二左侧曝光标记图案，至少一第一右侧曝光标记图案和至少一第二右侧曝光标记图案。

可选的，光罩上包括两种类型的曝光区域图案，一种曝光区域图案的尺寸为32寸，用于在沉积层上形成32寸的曝光区域，另一种曝光区域图案用于在沉积层上经过两次或多次曝光拼接形成65寸的曝光区域。

可选的，根据各沉积层对应的光罩的不同，每个光罩上设置的第一左侧曝光标记图案，第二左侧曝光标记图案，第一右侧曝光标记图案和第二右侧曝光标记图案的位置不同，根据每个生产的显示产品的不同，每个光罩上设置的第一左侧曝光标记图案，第二左侧曝光标记图案，第一右侧曝光标记图案和第二右侧曝光标记图案的位置也不同。

步骤702、依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一左侧曝光标记，第一右侧曝光标记，第二左侧曝光标记，第二右侧曝光标记和曝光区域。

例如，在生产大屏幕显示产品的过程中，需要按照一定的制作次序利用多个各层别光罩对各层别光罩对应的各层别沉积层进行曝光，各层别光罩上的第一左侧曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第一左侧曝光标记，各层别光罩上的第一右侧曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第一右侧曝光标记，各层别光罩上的第二左侧曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第二左侧曝光标记，各层别光罩上的第二右侧曝光标记图案在各层别沉积层上对应形成第二右侧曝光标记，各层别光罩上的曝光区域图案在各层别沉积层上对应形成曝光区域，直至所有的沉积层都完成曝光。

其中，各层别沉积层包括各层别功能层以及各层别功能层上的光阻层，各层别功能层包括金属一层，金属二层，半导体层等等。

可选的，利用每一层的光罩对该层光罩对应的沉积层进行曝光的步骤是相同的，由于光罩上曝光区域图案的尺寸小于对应的要生产的大尺寸的显示面板的尺寸，故对于每个沉积层，都要利用对应的光罩进行两次甚至多次曝光，形成一个或多个第一曝光区域，以及一个或多个第二曝光区域，直至所有的第一曝光区域和第二曝光区域在大尺寸的显示面板上拼接成一个完整的大尺寸的曝光区域，第一曝光区域和第二曝光区域重叠的部分为拼接区域。

可选的，在经过两次曝光拼接完成一个完整的大尺寸的曝光区域的过程中，第一次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第一左侧曝光标记图案形成对应的第一左侧曝光标记，光罩上的第二左侧曝光标记图案形成对应的第二左侧曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第一曝光区域，第二次利用光罩对该光罩对应的沉积层进行曝光时，光源透过光罩显影该光罩对应的沉积层上的光阻层，光罩上的第一右侧曝光标记图案形成对应的第一右侧曝光标记，光罩上的第二右侧曝光标记图案形成对应的第二右侧曝光标记，光罩上的曝光区域图案形成对应的第二曝光区域，第一曝光区域和第二曝光区域之间的重叠区域为拼接区域，第一左侧曝光标记，第一右侧曝光标记，第二左侧曝光标记和第二右侧曝光标记位于沉积层的非显示区域，第一曝光区域和第二曝光区域位于沉积层的显示区域。

可选的，请一并参阅图8，第一左侧曝光标记和所述第二左侧曝光标记位于所述拼接区域相对两边的外侧边缘，所述第一左侧曝光标记和所述第二左侧曝光标记不属于左侧曝光区域图案和右侧曝光区域图案，第一右侧曝光标记和所述第二右侧曝光标记位于所述拼接区域相对两边的外侧边缘，所述第一右侧曝光标记和所述第二右侧曝光标记不属于左侧曝光区域图案和右侧曝光区域图案，第一左侧曝光标记和第一右侧曝光标记位于拼接区域同一边的外侧边缘，第二左侧曝光标记和第二右侧曝光标记位于拼接区域另一边的外侧边缘。

可选的，光罩上设置的第一左侧曝光标记图案和第一右侧曝光标记图案的透光率不同，第二左侧曝光标记图案和第二右侧曝光标记图案的透光率不同，第一左侧曝光标记，第一右侧曝光标记，第二左侧曝光标记和第二右侧曝光标记的形状为规则图形，例如矩形、十字架等等，所述第一左侧曝光标记的面积大于第一右侧曝光标记的面积，第二左侧曝光标记的面积大于第二右侧曝光标记的面积。

步骤703、获取第一左侧曝光标记和第一右侧曝光标记之间的相对偏移量，获取第二左侧曝光标记和第二右侧曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数。

例如，获取沉积层上第一左侧曝光标记的第一左侧中心点，第一右侧曝光标记的第一右侧中心点，第二左侧曝光标记的第二左侧中心点和第二右侧曝光标记的第二右侧中心点，测量第一左侧中心点和第一右侧中心点在水平方向上的第一水平距离差值，测量第一左侧中心点和第一右侧中心点在竖直方向上的第一竖直距离差值，测量第二左侧中心点和第二右侧中心点在水平方向上的第二水平距离差值，测量第二左侧中心点和第二右侧中心点在竖直方向上的第二竖直距离差值，根据该第一水平距离差，第一竖直距离差，第二水平距离差值和第二竖直距离差值，调整曝光区域的参数。

其中，调整曝光区域的参数为根据水平距离差值和竖直距离差值，对曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转，直至第一左侧中心点和第一右侧中心点的显示效果为第一左侧中心点和第一右侧中心点重合，第二左侧中心点和第二右侧中心点的显示效果为第二左侧中心点和第二右侧中心点重合，且两个重合的中心点与拼接区域的中心点在一条直线上。

可选的，测量第一左侧中心点和第一右侧中心点在水平方向上的第一水平距离差值为零，测量第一左侧中心点和第一右侧中心点在竖直方向上的第一竖直距离差值为零，测量第二左侧中心点和第二右侧中心点在水平方向上的第二水平距离差值为零，测量第二左侧中心点和第二右侧中心点在竖直方向上的第二竖直距离差值为零，则不用调整曝光区域的参数，即不用对曝光区域进行平移和/或缩放和/或整体旋转和/或单边旋转。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本发明实施例所提供的一种屏幕显示的精度提升的方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。