阅读说明：本技术 柔抛砖用干粒釉及其应用 (Dry particle glaze for soft polished brick and application thereof ) 是由 刘一军 杨晓峰 李超 范周强 苏伟 于 2019-11-26 设计创作，主要内容包括：本发明公开了柔抛砖用干粒釉及其应用。所述柔抛砖用干粒釉包括低温干粒、中温干粒和高温干粒组成的混合干粒,其中低温干粒占15%～35%,中温干粒占40～70%,高温干粒占15%～35%。(The invention discloses dry grain glaze for soft polished tiles and application thereof. The dry grain glaze for the soft polished tile comprises mixed dry grains consisting of low-temperature dry grains, medium-temperature dry grains and high-temperature dry grains, wherein the low-temperature dry grains account for 15% -35%, the medium-temperature dry grains account for 40% -70%, and the high-temperature dry grains account for 15% -35%.)

柔抛砖用干粒釉及其应用

技术领域

本发明属于陶瓷建材领域，具体涉及一种柔抛砖用干粒釉及其应用。

背景技术

随着人们的需求和市场的发展，建筑装饰材料种类越来越多，要求也越来越高档、新颖，无论是对砖体材质和图案的层次、透感要求越来越来越高。目前市场上以抛釉砖为主，其透感较差、毛细孔较多，水波纹偏多；干粒釉类砖透感好，毛孔少，水波纹更少，目前市场上虽然干粒釉砖比较多，但是抛干粒釉砖比较少。比如申请号为201810542478.5的名为“一种干粒柔抛瓷砖生产工艺”的专利，其主要工艺流程包括：刷坯、喷水(8-10克/ 盘)、喷底釉(1.35比重100克/盘)、喷面釉(1.45比重40克/盘、喷墨印花、喷保护层 (1.15比重30克/盘)、高压喷枪喷干粒(1.22比重105克/盘)、干燥、入窑烧结。通过特定的配方工艺和抛光工艺，干粒柔抛工艺产品平均光度只有15度，解决了视觉不舒适的问题，抛光后期不需要打蜡，节省成本。干粒釉耐磨性能优于全抛釉，应用上也具备优势。但是该产品工艺复杂，干粒釉施釉量少，抛得少，抛釉水波纹差。

发明内容

本发明的目的是提供一种柔抛砖用干粒釉及其应用，可开发透感好、毛孔少、水波纹少的柔抛砖。

针对上述问题，本发明提供一种柔抛砖用干粒釉，包括低温干粒、中温干粒和高温干粒组成的混合干粒，其中低温干粒占15％～35％，中温干粒占40～70％，高温干粒占15％～ 35％。

较佳地，所述低温干粒的始融温度为1000～1030℃，中温干粒的始融温度为1030～ 1060℃，高温干粒的始融温度为1140～1170℃。

较佳地，所述混合干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL(烧失)0.3～1.0％；SiO₂ 55～65％；Al₂O₃ 9～13％；CaO 8.0～12％；MgO 0.5～1.5％；K₂O 4～6％；Na₂O 1.5.0～3.0％；ZnO 5～8％；SrO 2～3％；BaO 0.3～0.8％。

较佳地，所述混合干粒的颗粒级配为：60～80目：8～14％；80～100目8～14％；100～250目：65～80％；250目以上：小于10％。

较佳地，所述低温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉0～10％、氧化锌5～8％、碳酸钡1～4％、钾长石35～45％、钠长石15～25％、方解石20～30％、碳酸锶3.5～5.5％，烧滑石：3～5％；和/或所述低温干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL (烧失)：13～15％；SiO₂：46～50％；Al₂O₃：13～15％；CaO：13～15％；MgO：0.5～ 1.5％；K₂O：4～6％；Na₂O：1.0～2.0％；ZnO：5～7％；SrO：2.0～4％；BaO：0.3～ 2.0％。

较佳地，所述中温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉10～20％、氧化锌 5～8％、碳酸钡0.5～2％、钾长石35～45％、钠长石10～20％、方解石15～25％、碳酸锶2.5～4％，烧滑石：3～5％；和/或所述中温干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL(烧失)：8～12％；SiO₂：52～56％；Al₂O₃：10～12％；CaO：8～12％；MgO：0.5～1.5％； K₂O：4～6％；Na₂O：1.0～2.0％；ZnO：5～7％；SrO：2～3％；BaO：0.3～1.0％。

较佳地，所述高温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉20～30％、氧化锌 6～9％、碳酸钡0.5～1％、钾长石30～40％、钠长石10～20％、方解石10～20％、碳酸锶1.5～3％，烧滑石：3～5％；和/或所述高温干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL(烧失)：7～10％；SiO₂：58～62％；Al₂O₃：9～11％；CaO：5～8％；MgO：0.5～1.5％；K₂O： 4～6％；Na₂O：1.0～2.0％；ZnO：5～7％；SrO：1～2.5％；BaO：0.3～0.6％。

较佳地，所述干粒釉包括：以质量百分比计，混合干粒48～58％；干粒悬浮剂胶水：25～40％；釉粉：2～6％；水：8～16％。

较佳地，所述干粒悬浮剂胶水包括：以质量百分比计，解胶剂：2～4％；增稠剂： 15～22％；分散剂5～8％；消泡剂：0.4～1.0％；防腐剂：0.5～1.5％；流平剂：1～2.5％；水65～75％。

本发明开发出一种干粒釉，包括由三种温度不同的干粒组成的混合干粒，使用其可获得具有透感好，毛孔少，水波纹少，光度低的柔抛产品。

另一方面，本发明还提供上述任一项所述的柔抛砖用干粒釉在柔抛砖中的应用，所述干粒釉的比重为1.48～1.55，布施量为1000～1300g/m²。

附图说明

图1为本发明一实施方式柔抛砖的抛光后毛孔效果图。

图2为本发明一实施方式柔抛砖的抛光后砖面效果图。

图3是对比例1柔抛砖的抛光后毛孔效果图。

图4是对比例2柔抛砖的抛光后毛孔效果图。

具体实施方式

以下通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。

本发明公开一种柔抛砖用干粒釉，包括低温干粒、中温干粒和高温干粒组成的混合干粒。干粒要求通透性好、耐磨度高、烧后气泡少。熔点偏低的干粒通透性好，但是熔点太低，烧成过程中过早熔融阻碍坯体和面釉排气，容易导致釉层气泡抛后形成针孔。熔点太高，熔融效果不好，导致透感差，并且干粒间的空气容易集中形成气泡。因此经过多方实验，采用高、中、低三种温度的透明干粒按一定的比例进行搭配。

在研发的过程中，首先尝试了单一干粒的使用。但是可以抛光后产品毛孔很多，且毛孔大。这是由于干粒都是同时在融化，没有支撑点，所以毛孔比较难排气。考虑到如果只使用两种高、低温度的干粒，高温或者低温的干粒量过大对毛孔排气都会产生不良效果。因此本发明中使用三种不同温度的干粒，其中高温干粒的比例不高，中温和低温的干粒温度差比较接近，这样可以促进排气，使得抛光前后砖面的毛孔效果均比较优异。

所述干粒配方为了达到透感好，毛孔少效果，干粒按三种温度研发，再根据不同温度需求，按一定的比例和颗粒级配进行匹配。通过使用由高温、中温、低温三种干粒组成的干粒配方，可以适应不同的烧成制度，确保产品的毛孔控制在较佳的范围内。熔块在熔融排气过程中，低温熔块在熔融过程中排气比较困难，因此需要高温熔块作为支持，利于排气。本发明通过使用三种不同温度的熔块，能够给更宽的范围，不间断的持续排气。确保在干粒釉完全熔融之前把气体排出。因而本公开的干粒釉使用了三种不同温度的干粒，排气好，烧成后毛细孔更少。

上述低温干粒的化学成分可包括：以质量百分比计，IL：13～15％；SiO₂：46～50％；Al₂O₃：13～15％；CaO：13～15％；MgO：0.5～1.5％；K₂O：4～6％；Na₂O：1.0～ 2.0％；ZnO：5～7％；SrO：2.0～4％；BaO：0.3～2.0％。一些实施方式中，低温干粒的原料组成可包括：所述低温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉0～10％、氧化锌 5～8％、碳酸钡1～4％、钾长石35～45％、钠长石15～25％、方解石20～30％、碳酸锶 3.5～5.5％，烧滑石：3～5％。一些实施方式中，上述低温干粒可以是将上述各原料混合熔融成液态玻璃后水淬，再加工成所需的粒径而得。上述干粒的粒径可为60～250目。一个示例中，按上述配比称取各原料，放入熔块窑在1130～1170℃的温度下熔融成玻璃液，将玻璃液水淬后即可得到熔块，再将水淬后的熔块加工成60～250目的干粒得到低温干粒。

上述中温干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL：8～12％；SiO₂：52～56％；Al₂O₃：10～12％；CaO：8～12％；MgO：0.5～1.5％；K₂O：4～6％；Na₂O：1.0～2.0％； ZnO：5～7％；SrO：2～3％；BaO：0.3～1.0％。一些实施方式中，中温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉10～20％、氧化锌5～8％、碳酸钡0.5～2％、钾长石35～ 45％、钠长石10～20％、方解石15～25％、碳酸锶2.5～4％，烧滑石：3～5％。一些实施方式中，上述中温干粒可以是将上述各原料混合熔融成液态玻璃后水淬，再加工成所需的粒径而得。上述干粒的粒径可为60～250目。一个示例中，按上述配比称取各原料，放入熔块窑在1150～1200℃的温度下熔融成玻璃液，将玻璃液水淬后即可得到熔块，再将水淬后的熔块加工成60～250目的干粒得到中温干粒。

上述高温干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL：7～10％；SiO₂：58～62％；Al₂O₃：9～11％；CaO：5～8％；MgO：0.5～1.5％；K₂O：4～6％；Na₂O：1.0～2.0％； ZnO：5～7％；SrO：1～2.5％；BaO：0.3～0.6％。一些实施方式中，高温干粒的原料组成包括：以质量百分比计，石英粉20～30％、氧化锌6～9％、碳酸钡0.5～1％、钾长石30～ 40％、钠长石10～20％、方解石10～20％、碳酸锶1.5～3％，烧滑石：3～5％。一些实施方式中，上述高温干粒可以是将上述各原料混合熔融成液态玻璃后水淬，再加工成所需的粒径而得。上述干粒的粒径可为60～250目。一个示例中，按上述配比称取各原料，放入熔块窑在1240～1270℃的温度下熔融成玻璃液，将玻璃液水淬后即可得到熔块，再将水淬后的熔块加工成60～250目的干粒得到高温干粒。

一些实施方式中，所述混合干粒中，低温干粒占15％～35％，中温干粒占40～70％，高温干粒占15％～35％。若中温干粒的占比过低，则在烧成过程中，可能使得低温干粒多，整体配方始融点低，气体还没开始排气毛孔就提前封闭，气孔排不出；或可能使得高温干粒多，则始融点高，熔融效果不好，透感不好。

一些实施方式中，低温干粒的始融温度可为1000～1030℃。又，中温干粒的始融温度可为1030～1060℃。另外，高温干粒的始融温度可为1140～1170℃。优选地，中温干粒的始融温度高于低温干粒15～25℃，高温干粒的始融温度高于中温干粒90～100℃。

一些实施方式中，所述混合干粒的化学成分包括：以质量百分比计，IL 0.3～1.0％； SiO₂ 55～65％；Al₂O₃ 8～10％；CaO 8.0～12％；MgO 0.5～1.5％；K₂O 4～6％；Na₂O1.5.0～3.0％；ZnO 5～8％；SrO 2～3％；BaO 0.3～0.8％。Al₂O₃含量偏高，容易造成乳浊，透感差。本发明使用碳酸锶替代氧化铅，引入氧化锶，利于生产出高光泽，高流动性的低温釉。同样，碳酸钡与碳酸锶均可以降低釉料的粘度，并且釉料低粘度的温度范围较宽。

一些实施方式中，所述混合干粒的颗粒级配为：60～80目：8～14％；80～100目8～14％；100～250目：65～80％；250目以上：小于10％。在一些实施方式中，使用淋釉工艺，干粒用量更少，淋出来后砖面更平。另外由于是淋釉工艺，要求干粒的颗粒级配不能太大，容易沉淀，不能稳定生产。另外颗粒太大不利于排气，毛孔较多。

一些实施方式中，所述干粒釉包括：以质量百分比计，混合干粒48～58％；干粒悬浮剂胶水：25～40％；釉粉：2～6％；水：8～16％。其中，干粒悬浮剂胶水主要作用是防止干粒沉淀；釉粉一方面防止干粒沉淀，另一方面施釉后利于干粒在坯体上的固定，特别在氧化过程中，干粒还没熔融前，防止被风吹走。另外，采用上述干粒釉的组成，可以避免胶水含量过多，导致干燥缓慢，排水困难，容易炸砖。

一些实施方式中，所述干粒悬浮剂胶水包括：以质量百分比计，解胶剂：2～4％；增稠剂：15～22％；分散剂5～8％；消泡剂：0.4～1.0％；防腐剂：0.5～1.5％；流平剂：1～2.5％；水65～75％。

本发明还公开了上述干粒釉在柔抛砖中的应用。其工艺过程可为：干粒与釉粉加悬浮剂胶水按一定比例制成干粒釉，再施釉在喷墨后的砖坯上，烧制而成；再配以特殊抛光，达到高仿真石材效果。

一些实施方式中，可通过淋釉的方式施釉。优选地，干粒釉的比重为1.48～1.55。又，干粒釉的施加量为1000～1300g/m²。

一些实施方式中，所述最高烧成温度为1200～1240℃，烧成周期为80～140min。根据产品的开发需求，可以配置不同温度的干粒釉。在1000℃前按常规的烧成制度，烧成周期20-40分钟；在1000～1180℃范围内烧成时间25～40分钟，且底温比面温高，利于排气；在1200～1240℃范围内烧成时间20～40分钟。温度要求面温和底温接近或者面温比底温略高，要求气体尽量被压到面釉和干粒层之间，减少毛孔；1240℃后降温冷却段烧成时间为15-30分钟。

本发明的抛光采用斜齿磨块+树脂磨块+斜齿磨块+颗粒磨块+尼龙纤维磨块，以控制表面的水波纹和光度。一些实施方式中，采用斜齿磨块目数为240的2～4组、树脂磨块目数为320的8～12组、斜齿磨块目数为400的7～9组、颗粒磨块目数为600的6～8组，以及目数为180～320的尼龙纤维磨块12～20组。尼龙纤维磨块可以是单一目数规格，也可以 2～4目数规格。一些实施方式中，先用斜齿磨块把砖表层0.03～0.1mm范围内的厚度刮开，利于后面用树脂磨块切削平整。再采用尼龙纤维磨块进行精抛处理，抛光打磨、上光。如此可以实现所需要的光泽度。

本发明采用上述技术方案后可达到如下有益效果：

创造性：干粒釉由几种不同温度的干粒组成，排气好，减少毛孔，提高透感；本发明通过使用三种温度不同的干粒，并配合干粒配方，获得毛孔效果良好的柔抛砖。

装饰效果好：相对普通的抛光砖和其他的干粒抛釉，该产品通透感好，防污好，光度更接近石材。

适用范围广：本发明产品不受环境因素影响，能广泛应用于各种内外墙及地面装饰。

易清扫：本产品完全烧结，吸水率控制在0.5％以内，经抛光后打超洁亮，防污效果好，易于打理。

持久耐用：本发明产品性能稳定，受时间、环境影响因素较小，耐磨度高，可长久保持如新感觉，使用寿命长，具有广阔的市场经济效益。

在本发明具体实施方式中，本发明主要是开发出一种干粒釉，该釉由三种不同温度的干粒组成，再结合釉粉和悬浮性好的胶水按一定比例组成，通过淋釉工艺在砖坯施上一层厚的干粒釉，烧制而成，在经过特殊抛光工艺，研发出具有透感好，毛孔少，水波纹少，光度低的柔抛产品。

下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。

实施例1

1.将普通坯体粉料压制成坯体。

2.将坯体使用干燥窑干燥，干燥坯体水分控制在0.5％以内。

3.在干燥后的坯体上喷墨打印图案。

4.制备干粒釉。所述干粒釉配方为：混合干粒52％；干粒悬浮剂胶水：31％；釉粉：4％；水：13％。所述干粒悬浮剂胶水包括：解胶剂：3％；增稠剂：19％；分散剂6％；消泡剂：0.5％；防腐剂：0.6％；流平剂：1.5％；水69.4％。

混合干粒包括：低温干粒：20％，中温干粒：60％，高温干粒：20％。混合干粒的化学成分包括：IL：0.4％；SiO₂：60.8％；Al₂O₃：11.6％；CaO：9.4％；MgO：1.1％； K₂O：5.1％；Na₂O：2.0％；ZnO：6.6％；SrO：2.5％；BaO：0.5％。所述混合干粒颗粒级配为：60～80目：11.2％；80～100目9.2％；100～250目：73.4％；250目以上：6.2％。

其中，低温干粒的原料组成包括：石英粉3％、氧化锌6％、碳酸钡1％、钾长石38％、钠长石20％、方解石25％、碳酸锶3％，烧滑石：4％。化学成分包括：IL：13.5％； SiO₂：48％；Al₂O₃：13.5％；CaO：14％；MgO：1.0％；K₂O：5％；Na₂O：1.8％；ZnO：5％；SrO：2.0％；BaO：0.35％。

中温干粒的原料组成包括：石英粉12％、氧化锌7％、碳酸钡1％、钾长石38％、钠长石15％、方解石20％、碳酸锶3％，烧滑石：4％。化学成分包括：IL：9.5％；SiO₂： 53.75％；Al₂O₃：11％；CaO：10％；MgO：1％；K₂O：5％；Na₂O：1.5％；ZnO：5.8％； SrO：2.0％；BaO：0.35％。

高温干粒的原料组成包括：石英粉22％、氧化锌8％、碳酸钡1％、钾长石32％、钠长石15％、方解石15％、碳酸锶3％，烧滑石：4％。化学成分包括：IL：7.5％；SiO₂： 59.15％；Al₂O₃：9.5％；CaO：8％；MgO：1％；K₂O：4.5％；Na₂O：1.5％；ZnO：6.5％； SrO：2％；BaO：0.35％。

5.在喷墨打印后的坯体上淋干粒釉。干粒釉的比重为1.53，施加量为1210g/m²。

6.将淋干粒釉后的坯体烧成。具体烧成参数为：最高烧成温度1221℃，烧成周期90min。

7.抛光。具体抛光工艺见表1。

表1抛光工艺参数

从图1和图2可以看出，通过放大镜看砖面上的毛孔，毛孔少。并且，本发明抛光前后砖面毛孔效果几乎没有差别。本发明通过使用三种不同温度的干粒，使得窑炉的调节范围更宽，排气充分，利于烧成制度的调整。

对比例1

与实施例1基本相同，区别在于：其中低温干粒占70％，中温干粒占20％，高温干粒占10％。

图3是抛光后的毛孔效果图，放大倍数是100倍。图3中可以看出有明显的毛孔缺陷。从该示例可以看出，虽然整体的干粒配方是三种不同温度组成的，但是低温干粒过多，高温中温干粒减少，毛孔变多。

对比例2

与实施例1基本相同，区别仅在于：

低温干粒的原料组成包括：石英粉3％、氧化锌6％、碳酸钡1％、钾长石38％、钠长石23％、方解石25％、烧滑石：4％；

中温干粒的原料组成包括：石英粉12％、氧化锌7％、碳酸钡1％、钾长石39％、钠长石17％、方解石20％、，烧滑石：4％；

高温干粒的原料组成包括：石英粉23％、氧化锌8％、碳酸钡1％、钾长石32％、钠长石17％、方解石15％、，烧滑石：4％。

从图4可以看出毛孔效果并不理想。该示例虽然使用三种温度和配方的干粒，但是由于干粒的配方不当，仍然无法解决毛孔缺陷。