阅读说明：本技术 激光干涉光刻系统 (Laser interference photoetching system ) 是由 王磊杰 朱煜 张鸣 徐继涛 李鑫 成荣 杨开明 胡金春 于 2019-10-31 设计创作，主要内容包括：本发明属于光学仪器仪表设备技术领域,公开了一种激光干涉光刻系统,包括激光器、第一反射镜、光栅分束器、第二反射镜、第一万向反射镜、第一透镜、第二万向反射镜、第二透镜、分光棱镜、控制模块、角度测量模块、第三透镜和基底；所述控制模块包括信号处理端、控制器和驱动器,信号处理端与角度测量模块连接,控制器分别与信号处理端和驱动器连接,驱动器分别与第一万向反射镜和第二万向反射镜连接；激光器发出光源经过该系统分成两束光聚焦在基底上曝光；通过调节曝光的角度,实现渐变周期大面积光栅的制作。本发明以扫描干涉光刻方式制作的光栅尺寸不会受到曝光光斑大小的限制,可制造出大尺寸的渐变周期光栅。(The invention belongs to the technical field of optical instrument and meter equipment, and discloses a laser interference lithography system which comprises a laser, a first reflector, a grating beam splitter, a second reflector, a first universal reflector, a first lens, a second universal reflector, a second lens, a beam splitter prism, a control module, an angle measurement module, a third lens and a substrate; the control module comprises a signal processing end, a controller and a driver, the signal processing end is connected with the angle measuring module, the controller is respectively connected with the signal processing end and the driver, and the driver is respectively connected with the first universal reflector and the second universal reflector; the laser emits light which is divided into two beams by the system and focused on the substrate for exposure; and the manufacturing of the large-area grating with the gradually-changed period is realized by adjusting the exposure angle. The size of the grating manufactured by the scanning interference photoetching method is not limited by the size of the exposure facula, and the large-size gradient period grating can be manufactured.)

激光干涉光刻系统

技术领域

本发明属于光学仪器仪表设备技术领域，特别涉及一种激光干涉光刻系统，可用于大尺寸渐变周期光栅的制造。

背景技术

激光干涉光刻技术是一种利用两束或者多束激光干涉产生的周期性图形曝光感光基底制造微纳阵列器件的重要技术，主要应用于制造特征尺寸低于亚波长的柱阵、光栅、孔阵、点阵、微透镜阵列等器件，这些微阵列器件广泛应用于国防、民生、科研等领域。

光栅器件作为大型天文望远镜、惯性约束核聚变激光点火系统、光刻系统等重大工程系统中的关键器件，近年来对尺寸、栅线密度、精度等要求不断提高，同时，光栅的应用类型也不在局限于一维光栅，还包括二维光栅、弯曲光栅、变周期光栅等。光栅制造正在向米级尺寸、纳米级精度、亚万级栅线密度的量级迈进，多样化高精度密栅线的大尺寸光栅的制造成为了光栅制造领域的亟需解决的热点问题。机械刻划、激光直写、机械拼接等传统光栅制造技术均存在不同的技术缺陷，机械刻划主要缺点包括大面积制造精度低、加工周期长、制造的光栅存在鬼线等，激光直写主要缺点包括大面积制造精度低、加工周期长等，机械拼接则存在拼接精度差、拼接过程复杂、成本昂贵等缺点。因此，上述量级光栅的制造难以通过传统技术来实现，通过激光干涉光刻技术或全息光刻技术可实现密栅线高精度、且加工周期短的大面积光栅制造，激光干涉光刻技术也逐步成为了大面积高精度光栅制造技术中的主流。干涉光刻技术在大面积高精度光栅制造的应用中的主要难点为干涉光刻系统的研发，且高精度干涉光刻系统具有很大的研发难度。世界多个著名光栅制造系统公司及研究机构针对高精度干涉光刻系统的研发展开了一系列的研究，研究主要集中于高精度干涉光刻系统，研究成果在诸多专利中均有揭露。

麻省理工学院在美国专利US6,882,477B1中公开了一种扫描激光干涉光刻系统，该光刻系统利用两束经准直后的小尺寸光束干涉形成干涉图形曝光作步进扫描运动的基底实现大面积光栅制作，经准直后的小尺寸光束干涉有效的消除了干涉图形的相位非线性误差；同时，为防止系统干涉图形相对于运动的基底平台发生相位漂移引起误差，该光刻系统列举了一种基于外差测量原理的图形锁定装置，该装置通过在干涉光路中布置三个声光调制器产生外差相位测量的频差，利用光束采样器采样干涉光束至外差相位计进行图形相位检测，检测的相位反馈至控制模块控制声光调制器调制相位实现图形锁定，该装置具有高速、高精等图形相位锁定优点特点，但只适用于一维或二维均匀光栅的制作。

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在中国专利CN103698835A中公开了一种光刻系统，光刻系统利用一种全息曝光的方法实现全息光栅制造，并采用一种外差测量的方法使干涉条纹相对光栅基底的相位锁定于某一固定值。该光刻系统可以在曝光过程中较好抑制高频条纹的抖动，但无法实现大面积变周期光栅的制作。研究所在公开号CN1544994A、CN101718884A、CN101793988A等中国专利中仅公开了全息光刻系统的光路调整及栅线密度调整方法，未发现对干涉系统及图形锁定相关论述。苏州苏大维格光电科技股份有限公司在公开号CN101846890中国专利中公开了一种并行式干涉光刻系统，光刻系统利用光栅分光和透镜合光，但干涉光刻系统中不存在干涉图形相位锁定装置，因此该激光干涉光刻系统也难以实现大面积高精度光栅的制作。

因此，有关大尺寸渐变周期光栅的制造，特别是高精度大尺寸渐变周期光栅的制造一直是个行业难题。

发明内容

为了解决渐变周期大面积光栅的制造难题，本发明提供了一种激光干涉光刻系统，包括激光器、第一反射镜、光栅分束器、第二反射镜、第一万向反射镜、第一透镜、第二万向反射镜、第二透镜、分光棱镜、控制模块、角度测量模块、第三透镜和基底；所述控制模块包括信号处理端、控制器和驱动器，信号处理端与角度测量模块连接，控制器分别与信号处理端和驱动器连接，驱动器分别与第一万向反射镜和第二万向反射镜连接；该系统的光路结构如下：

激光器发出光源经过第一反射镜反射到光栅分束器，经光栅分束器分成第一束光和第二束光；

第一束光依次经过第二反射镜反射、第一万向反射镜反射和第一透镜透射至分光棱镜，经分光棱镜的反射光给角度测量模块，经分光棱镜的透射光给第三透镜透射聚焦在基底上曝光；

第二束光依次经过第二万向反射镜反射和第二透镜透射至分光棱镜，经分光棱镜的透射光给角度测量模块，经分光棱镜的反射光给第三透镜透射聚焦在基底上曝光；

角度测量模块测量输入的第一束光和第二束光的角度，并把测量结束信息传输给信号处理端，信号处理端处理后传输给控制器，控制器根据接到收的信息生成控制指令发送给驱动器，驱动器根据控制指令调节第一万向反射镜和第二万向反射镜的角度，改变第一束光和第二束光在基底上聚焦曝光的角度，通过聚焦曝光把基底制作成光栅。

优选地，激光干涉光刻系统还包括相位测量干涉仪、第三反射镜、第四反射镜、第三万向反射镜、第四透镜、光束提取镜、第一相位调制器、第二相位调制器和第三相位调制器；所述第三万向反射镜与驱动器连接，所述控制模块还包括相位调制执行器，所述相位调制执行器分别与控制器、第一相位调制器、第二相位调制器和第三相位调制器连接；所述相位测量干涉仪与信号处理端连接；

所述第一相位调制器设置在激光器和第一反射镜之间，激光器发出光源经第一相位调制器分出零级衍射光与一级衍射光，零级衍射光给第一反射镜，一级衍射光依次经过第三反射镜、第四反射镜、第三万向反射镜和第四透镜成为相位测量干涉仪的第三条输入光束；

第二相位调制器设置在光栅分束器和第二反射镜之间；第三相位调制器连接设置在光栅分束器和第二万向反射镜之间；

光束提取镜设置在分光棱镜和第三透镜之间；第一束光经光束提取镜反射光为相位测量干涉仪的第二条输入光束；第二束光经光束提取镜反射光为相位测量干涉仪的第一条输入光束；

第一条输入光束、第二条输入光束和第三条输入光束经相位测量干涉仪得到两个干涉测量电信号，两个干涉测量电信号传输至信号处理端，信号处理端给到控制器进行解算得到曝光条纹相位漂移信息，生成补偿指令传输给相位调制执行器，由相位调制执行器把补偿指令下达给第一相位调制器、第二相位调制器和第三相位调制器进行相位调制，以完成对曝光条纹相位漂移的锁定；驱动器根据控制指令调节第一万向反射镜、第二万向反射镜和第三万向反射镜的角度。

进一步地，所述相位测量干涉仪包括第一波片、第一偏振分光棱镜、第二波片、第二偏振分光棱镜、偏振片、第一光电探测器、第二光电探测器、第三偏振分光棱镜、反射镜、第三波片、后向反射镜和第四波片；相位测量干涉仪的光路结构如下：

第三条输入光束从第一波片处输入，经第一波片变为圆偏振态入射第一偏振分光棱镜，经第一偏振分光棱镜的反射光经第四波片到后向反射镜，经后向反射镜反射转向回到第四波片，变为p偏振态，再依次经第一偏振分光棱镜、第二偏振分光棱镜透射后，经过偏振片形成第一条参考光；经第一偏振分光棱镜的透射光经过第三波片到反射镜，经反射镜反射回第三波片后变为s偏振态到第一偏振分光棱镜，再经第一偏振分光棱镜反射至第二波片后变为p偏振态，再依次经第二偏振分光棱镜透射和偏振片形成第二条参考光；

第一条输入光束以s偏振态由第三偏振分光棱镜处输入，经第三偏振分光棱镜反射至第二偏振分光棱镜，再经第二偏振分光棱镜反射到偏振片形成第一路测量光；

第二条输入光束与第一条输入光束平行，以s偏振态由第三偏振分光棱镜处输入，经第三偏振分光棱镜反射至第二偏振分光棱镜，再经第二偏振分光棱镜反射到偏振片形成第二路测量光；

第一路测量光与第一条参考光合光形成了一束干涉测量信号入射至第一光电探测器，第二路测量光与第二条参考光合光形成了另一束干涉测量信号入射至第二光电探测器；

第一光电探测器和第二光电探测器分别把接收到的干涉测量信号转换为电信号再传输至信号处理端。

进一步地，所述第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜都是凸透镜。

进一步地，所述第二相位调制器和第三相位调制器采用声光调制器。

进一步地，所述第一波片为四分之一波片。

进一步地，所述第二波片为二分之一波片。

进一步地，所述第三波片为四分之一波片。

进一步地，所述第四波片为四分之一波片。

进一步地，所述控制模块还包括显示屏，显示屏与控制器连接，实现数据可视化。

本发明的激光干涉光刻系统采用角度测量模块对曝光光束进行角度测量，在系统进行变周期光栅的干涉光刻时，由控制器根据角度测量模块输出的测量结果及光栅制造的周期变化需求，发出角度变化控制指令给驱动器，由驱动器对第一万向反射镜和第二万向反射镜进行相应的角度调节，完成对曝光光束角度的控制。在光刻过程中，光栅基底沿着曝光光束聚焦平面以扫描步进的方式移动，可完成对变周期光栅的制造。以扫描干涉光刻方式制作的光栅尺寸不会受到曝光光斑大小的限制，可制造出大尺寸的渐变周期光栅。

附图说明

图1为本发明的激光干涉光刻系统实施例一示意图；

图2为本发明的激光干涉光刻系统实施例二示意图；

图3为相位测量干涉仪的光路结构示意图。

图中：1-激光器，2-第一反射镜，3-光栅分束器，401-第二反射镜，402-第一万向反射镜，403-第一透镜，501-第二万向反射镜，502-第二透镜，6-分光棱镜，7-相位测量干涉仪，701-第一波片，702-第一偏振分光棱镜、703-第二波片，704-第二偏振分光棱镜，705-偏振片，706-第一光电探测器，707-第二光电探测器，708-第三偏振分光棱镜，709-第二条输入光束，710-第一条输入光束，711-反射镜，712-第三波片，713-后向反射镜，714-第四波片，715-第三条输入光束；8-控制模块，801-信号处理端，802-控制器，803-驱动器，804-相位调制执行器；9-角度测量模块，10-第三透镜，11-基底，12-第三反射镜，13-第四反射镜，14-第三万向反射镜，15-第四透镜，16-光束提取镜，17-第一相位调制器，18-第二相位调制器，19-第三相位调制器。

具体实施方式

为了更进一步阐述本发明为解决技术问题所采取的技术手段及功效，以下结合附图和具体实施例对本发明做进一步详细描述，需要说明的是所提供的附图是示意性的，相互间并没有完全按照尺寸或者比例绘制，因此附图和具体实施例并不作为本发明要求的保护范围限定。

如图1所示的激光干涉光刻系统可选实施例，包括激光器1、第一反射镜2、光栅分束器3、第二反射镜401、第一万向反射镜402、第一透镜403、第二万向反射镜501、第二透镜502、分光棱镜6、控制模块8、角度测量模块9、第三透镜10和基底11；所述控制模块8包括信号处理端801、控制器802和驱动器803，信号处理端801与角度测量模块9连接，控制器802分别与信号处理端801和驱动器803连接，驱动器803分别与第一万向反射镜402和第二万向反射镜501连接；该系统的光路结构如下：

激光器1发出光源经过第一反射镜2反射到光栅分束器3，经光栅分束器3分成第一束光和第二束光；

第一束光依次经过第二反射镜反射401、第一万向反射镜402反射和第一透镜403透射至分光棱镜6，经分光棱镜6的反射光给角度测量模块9，经分光棱镜6的透射光给第三透镜10透射聚焦在基底11上曝光；

第二束光依次经过第二万向反射镜501反射和第二透镜502透射至分光棱镜6，经分光棱镜6的透射光给角度测量模块9，经分光棱镜6的反射光给第三透镜10透射聚焦在基底11上曝光；

角度测量模块9测量输入的第一束光和第二束光的角度，并把测量结束信息传输给信号处理端801，信号处理端801处理后传输给控制器802，控制器802根据接到收的信息生成控制指令发送给驱动器803，驱动器803根据控制指令调节第一万向反射镜402和第二万向反射镜501的角度，改变第一束光和第二束光在基底11上聚焦曝光的角度，通过聚焦曝光把基底11扫描光刻制作成光栅。

如图2所示的激光干涉光刻系统可选实施例，包括激光器1、第一反射镜2、光栅分束器3、第二反射镜401、第一万向反射镜402、第一透镜403、第二万向反射镜501、第二透镜502、分光棱镜6、相位测量干涉仪7、控制模块8、角度测量模块9、第三透镜10、基底11、第三反射镜12、第四反射镜13、第三万向反射镜14、第四透镜15、光束提取镜16、第一相位调制器17、第二相位调制器18和第三相位调制器19；所述控制模块8包括信号处理端801、控制器802、驱动器803和相位调制执行器804，信号处理端801与角度测量模块9和相位测量干涉仪7连接，控制器802分别与信号处理端801、驱动器803和相位调制执行器804连接，驱动器803分别与第一万向反射镜4002、第二万向反射镜501和第三万向反射镜14连接；所述相位调制执行器804分别与第一相位调制器17、第二相位调制器18和第三相位调制器19连接；第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜都是凸透镜，第二相位调制器18和第三相位调制器19可以采用声光调制器；该系统的光路结构如下：

激光器1发出光源经过第一相位调制器17分出零级衍射光与一级衍射光；其中零级衍射光给第一反射镜2反射到光栅分束器3，经光栅分束器3分成第一束光和第二束光；

第一束光依次经过第二相位调制器18、第二反射镜反射401、第一万向反射镜402反射和第一透镜403透射至分光棱镜6，经分光棱镜6的反射光给角度测量模块9，经分光棱镜6的透射光给光束提取镜16，经光束提取镜16反射分出的光束成为相位测量干涉仪7的第二条输入光束709，经光束提取镜16透射再经第三透镜10透射聚焦在基底11上曝光；

第二束光依次经过第三相位调制器19、第二万向反射镜501反射和第二透镜502透射至分光棱镜6，经分光棱镜6的透射光给角度测量模块9，经分光棱镜6的反射光给光束提取镜16，经光束提取镜16反射分出的光束成为相位测量干涉仪7的第一条输入光束710，经光束提取镜16透射再经第三透镜10透射聚焦在基底11上曝光；

第一相位调制器17分出的一级衍射光依次经过第三反射镜12、第四反射镜13和第三万向反射镜14反射，再经第四透镜15透射成为相位测量干涉仪7的第三条输入光束715；

其中相位测量干涉仪7的结构详见图3所示，相位测量干涉仪7包括第一波片701、第一偏振分光棱镜702、第二波片703、第二偏振分光棱镜704、偏振片705、第一光电探测器706、第二光电探测器707、第三偏振分光棱镜708、反射镜711、第三波片712、后向反射镜713和第四波片714；信号处理端801与相位测量干涉仪7的第一光电探测器706和第二光电探测器707连接；第一波片701、第三波片712和第四波片714都是四分之一波片，第二波片703为二分之一波片，所述相位测量干涉仪7的光路结构如下：

第三条输入光束715附加频率f_s3，从第一波片701处输入，以s偏振态经第一波片701变为圆偏振态入射第一偏振分光棱镜702，经第一偏振分光棱镜702的反射光经第四波片714到后向反射镜713，经后向反射镜713反射转向回到第四波片714，变为p偏振态，再依次经第一偏振分光棱镜702、第二偏振分光棱镜704透射后，经过偏振片705形成第一条参考光；经第一偏振分光棱镜702的透射光经过第三波片712到反射镜711，经反射镜711反射回第三波片712后变为s偏振态到第一偏振分光棱镜702，再经第一偏振分光棱镜702反射至第二波片703后变为p偏振态，再依次经第二偏振分光棱镜704透射和偏振片705形成第二条参考光；

第一条输入光束710附加频率f_s1，以s偏振态由第三偏振分光棱镜708处输入，经第三偏振分光棱镜708反射至第二偏振分光棱镜704，再经第二偏振分光棱镜704反射到偏振片705形成第一路测量光；

第二条输入光束709与第一条输入光束710平行，附加频率f_s2，以s偏振态由第三偏振分光棱镜708处输入，经第三偏振分光棱镜708反射至第二偏振分光棱镜704，再经第二偏振分光棱镜704反射到偏振片705形成第二路测量光；

第一路测量光与第一条参考光合光形成了一束干涉测量信号入射至第一光电探测器706，第二路测量光与第二条参考光合光形成了另一束干涉测量信号入射至第二光电探测器707；第一光电探测器706和第二光电探测器707分别把接收到的干涉测量信号转换为电信号；

第一条输入光束710、第二条输入光束709和第三条输入光束715经相位测量干涉仪7得到两个干涉测量电信号，在进行变周期光栅干涉光刻时，两个干涉测量电信号传输至信号处理端801，信号处理端801给到控制器802进行解算得到曝光条纹相位漂移信息，生成补偿指令传输给相位调制执行器804，由相位调制执行器804把补偿指令下达给第一相位调制器17、第二相位调制器18和第三相位调制器19进行相位调制，以完成对曝光条纹相位漂移的锁定；角度测量模块9探测到的第一束光和第二束光的角度信息传输至信号处理端801，信号处理端801给到控制器802，由控制器802计算曝光光束角度所需调节量，结合测量结果将角度调节量信息传输至驱动器803，由驱动器803控制第一万向反射镜402、第二万向反射镜501和第三万向反射镜14调整角度，达到调整曝光角度的目的，如果要增大/减小光栅周期，则曝光光束角度对应减小/增大，曝光光束间距同样减小/增大，控制模块通过其驱动器输出指令调整第一万向反射镜402和第二万向反射镜501逆时针/顺时针旋转，同时调整第三万向反射镜14顺时针/逆时针旋转，保证干涉测量信号始终保持合束，测量信号强度不会随之减弱，保持曝光过程中精确的条纹控制，从而提高对大面积变周期光栅的干涉光刻精度。

以下对本发明所采用的相位测量干涉仪的干涉测量信号形成原理做进一步说明：

第一条输入光束s1的光矢量矩阵可表示为：

式中：

E_s1表示第一条输入光束s1的光矢量矩阵；

E₁表示第一条输入光束s1的振幅；

i表示虚数单位；

f_s1表示包含附加频率的第一条输入光束s1的振动频率；

t表示激光在空间中向前传播的时间；

表示第一条输入光束s1的初始相位；

第二条输入光束s2的光矢量矩阵可表示为：

式中：

E_s2表示第二条输入光束s2的光矢量矩阵；

E₂表示第二条输入光束s2的振幅；

f_s2表示包含附加频率的第二条输入光束s2的振动频率；

表示第二条输入光束s2的初始相位；

第三条输入光束s3是外差测量参考光束，其的光矢量矩阵可表示为：

式中：

E_s3表示第三条输入光束s3的光矢量矩阵；

E₃表示第三条输入光束s3的振幅；

f_s3表示包含附加频率的第三条输入光束s3的振动频率；

表示第三条输入光束s3的初始相位；

第一路测量光由第一条输入光束s1经由光路：s1→PBSR3(第三偏振分光棱镜反射)→PBSR2(第二偏振分光棱镜反射)→PF(45°布置的偏振片)形成，所以第一路测量光的光矢量为：

式中：

E_S11表示第一路测量光的光矢量矩阵；

J_PF表示偏振片透射光路的琼斯矩阵；

J_PBSR2表示第二偏振分光棱镜反射光路的琼斯矩阵；

J_PBSR3表示第二偏振分光棱镜反射光路的琼斯矩阵；

第一条参考光束由第三条输入光束s3分光后形成，经历的光路为：s3→QW1(快轴呈45°布置的第一波片)→PBSR1(第一偏振分光棱镜反射)→QW4(快轴呈45°布置的第四波片)→RR(后向反射镜)→QW4(快轴呈45°布置的第四波片)→PBST1(第一偏振分光棱镜透射)→PBST2(第二偏振分光棱镜透射)→PF(45°布置的偏振片)，所以第一条参考光束的光矢量为：

式中：

E_S31表示第一条参考光束的光矢量矩阵；

J_PBST1表示第一偏振分光棱镜透射光路的琼斯矩阵；

J_PBST2表示第二偏振分光棱镜透射光路的琼斯矩阵；

J_QW1表示第一波片透射光路的矩阵；

J_QW4表示第四波片透射光路的矩阵；

第一路测量光与第一条参考光束合光形成一束干涉测量信号入射至第一光电探测器706，所以可得到第一光电探测器706所获得的干涉测量信号的光强值：

式中：

I₁表示第一路测量光与第一条参考光束合光形成的干涉测量光信号光强；

Δf₁表示第一路测量光与第一条参考光束合光形成的干涉测量光信号的振动频率；

表示第一路测量光与第一条参考光束合光形成的干涉测量光信号的相位；

第二路测量光由第二条输入光束s2经由光路：s2→PBSR3(第三偏振分光棱镜反射)→PBSR2(第二偏振分光棱镜反射)→PF(45°布置的偏振片)形成，所以第二路测量光的光矢量为：

式中：

E_S21表示第二路测量光的光矢量矩阵；

第二条参考光束由第三条输入光束s3分光后形成，经历光路为：s3→QW1(快轴呈45°布置的第一波片)→PBST1(第一偏振分光棱镜透射)→QW3(快轴呈45°布置的第三波片)→R(反射镜)→QW3(快轴呈45°布置的第三波片)→PBSR1(第一偏振分光棱镜反射)→HW(呈45°布置的第二波片)→PBST2(第二偏振分光棱镜透射)→PF(45°布置的偏振片)，所以第二条参考光束的光矢量为：

式中：

E_S32表示第二条参考光束的光矢量矩阵；

J_PBSR1表示第一偏振分光棱镜反射光路的琼斯矩阵；

J_QW3表示第三波片透射光路的矩阵；

J_HW表示第二波片透射光路的矩阵；

第二路测量光与第二条参考光束合光形成另一束干涉测量信号入射至第二光电探测器707，所以可得到第二光电探测器707所获得的干涉测量信号的光强值：

式中：

I₂表示第二路测量光与第二条参考光束合光形成的干涉测量光信号光强；

Δf₂表示第二路测量光与第二条参考光束合光形成的干涉测量光信号的振动频率；

表示第二路测量光与第第二条参考光束合光形成的干涉测量光信号的相位；

合光形成的两束干涉测量光信号具有相同频差，包含测量输入的光束s1、s2与输入的外差参考光s3的相位信息，转换为电信号后通过信号处理端传递到控制器处理，即可解算出曝光光束的相位，完成对曝光光束的相位测量。

需要说明的是上述参数全部采用国际标准单位。

当然，本发明还可有其它多种实施例，例如控制模块可包括显示屏，显示屏与控制器连接，实现数据可视化。在不背离本发明精神及其实质的情况下，本领域技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都属于本发明的权利要求的保护范围。