阅读说明：本技术 一种相位多普勒粒子分析仪基座转台 (Phase Doppler particle analyzer base rotary table ) 是由 刘正江 汪文涛 陈卫星 邓建军 于 2019-10-18 设计创作，主要内容包括：本发明属直升机模型旋翼试验技术领域,涉及一种相位多普勒粒子分析仪专用基座转台。该基座转台包括：直线运动平台机构和旋转运动平台机构,其中,直线运动平台机构与旋转运动平台机构固定连接,直线运动平台机构中设置有丝杆,旋转运动平台机构上设置有齿轮副。本发明的转台同时具有直线运动和绕轴转动功能,最终使得该相位多普勒粒子分析仪专用基座转台能够完成直线运动和旋转运动功能,能够满足相位多普勒粒子分析仪大范围测量的需求。(The invention belongs to the technical field of helicopter model rotor tests, and relates to a special base turntable for a phase Doppler particle analyzer. This base revolving stage includes: the device comprises a linear motion platform mechanism and a rotary motion platform mechanism, wherein the linear motion platform mechanism is fixedly connected with the rotary motion platform mechanism, a screw rod is arranged in the linear motion platform mechanism, and a gear pair is arranged on the rotary motion platform mechanism. The turntable simultaneously has the functions of linear motion and axial rotation, so that the special base turntable for the phase Doppler particle analyzer can complete the functions of linear motion and rotary motion, and can meet the requirement of large-range measurement of the phase Doppler particle analyzer.)

一种相位多普勒粒子分析仪基座转台

技术领域

本发明属直升机模型旋翼试验技术领域，涉及一种相位多普勒粒子分析仪基座转台。

背景技术

随着旋翼模型试验技术的不断发展，相位多普勒粒子分析仪也在不断发展以满足试验过程中的测量需求。目前，相位多普勒粒子分析仪使用形式主要由两种，一种形式是固定位置测量，只能测量固定区域；另一种形式是利用移动平台进行移动测量，可以测量移动范围以内的大区域。

目前，相位多普勒粒子分析仪使用的移动平台只能实现直线位移运动，且移动距离短，更无法实现旋转移动，从而限制了相位多普勒粒子分析仪的测量范围和效率，降低了相位多普勒粒子分析仪的通用性。

发明内容

本发明的目的：提供一种相位多普勒粒子分析仪基座转台，其同时具有直线运动和绕轴转动功能，最终使得该相位多普勒粒子分析仪专用基座转台能够完成直线运动和旋转运动功能，能够满足相位多普勒粒子分析仪大范围测量的需求，从而提升相位多普勒粒子分析仪试验测量效率和能力。

本发明的技术方案：

第一方面，提供一种相位多普勒粒子分析仪基座转台，包括：直线运动平台机构1和旋转运动平台机构2，其中，直线运动平台机构与旋转运动平台机构固定连接，直线运动平台机构1中设置有丝杆13，旋转运动平台机构2上设置有齿轮副22。

可选地，直线运动平台机构1还包括平台基座11、直线导轨12、谐波减速器14、伺服电机15和移动平台16，其中，直线导轨12设置在平台基座11两侧，直线导轨12通过螺钉固定在平台基座11，丝杆13的一端与平台基座11固定连接，丝杆13的另一端与谐波减速器14的一端固定连接，谐波减速器14的另一端与电机15连接。

可选地，平台基座11中设置有镂空结构。

可选地，直线导轨12为直线滚动摩擦导轨。

可选地，丝杆13为滚珠丝杆。

可选地，移动平台16中设置有镂空结构。

可选地，旋转运动平台机构2还包括上安装平台21、谐波减速器23、伺服电机24和下支撑平台25，其中，下支撑平台25与移动平台16连接，齿轮副22与下支撑平台25连接，上安装平台21与下支撑平台25连接，谐波减速器23一端与齿轮副22连接，谐波减速器23另一端与伺服电机24连接。

可选地，上安装平台21和下支撑平台25的形状为类跑道形状。

可选地，齿轮副22为平面直齿啮合副。

本发明的有益效果：本发明的相位多普勒粒子分析仪基座转台，具有同时具有直线运动和绕轴转动功能，最终使得该相位多普勒粒子分析仪专用基座转台能够完成直线运动和旋转运动功能，能够满足相位多普勒粒子分析仪大范围测量的需求，从而提升相位多普勒粒子分析仪试验测量效率和能力。

附图说明

图1为相位多普勒粒子分析仪基座转台结构图；

图2为直线运动平台机构1结构图；

图3为旋转运动平台机构2结构图；

图4为移动平台16外形尺寸图。

其中，1为直线运动平台机构，2为旋转运动平台机构，11为平台基座，12为直线导轨，13为滚珠丝杆，14为谐波减速器，15为伺服电机，16为移动平台，21为上安装平台，22为齿轮副，23为谐波减速器，24为伺服电机，25为下支撑平台。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

相位多普勒粒子分析仪基座转台包括二个部分：直线运动平台机构1和旋转运动平台机构2，直线运动平台机构与旋转运动平台机构固定连接。

(1)直线运动平台机构

直线运动平台机构1包括：平台基座11、直线导轨12、滚珠丝杆13、谐波减速器14、伺服电机15和移动平台16。

旋转运动平台2通过16个均布的螺栓和直线运动平台1的移动平台16相连。

左右2个直线导轨12(见附图2)通过8个均布的螺栓和平台基座11相连；滚珠丝杆13通过其一端的端盖的螺栓和和平台基座11相连；谐波减速器14一端通过螺栓和滚珠丝杆13相连，谐波减速器14另一端通过螺栓和电机15相连；移动平台16设置在左右2个直线导轨12上。

平台基座11采用50号钢板材焊接而成,为减轻重量进行了中间镂空(镂空尺寸为426mm(长)×900mm(高))，平台基座尺寸为7450mm(长)×1400mm(宽)×490mm(高)。

直线导轨12采用直线滚动摩擦导轨，摩擦系数为0.05，导轨尺寸为7000mm(长)×40mm(宽)，材料为淬硬钢。

滚珠丝杆13采用60号钢，尺寸为7400mm(长)×40mm(直径)，滚珠丝杠螺距为1.2mm,滚珠丝杠导程为16，效率为0.9，滚珠丝杠扭矩为4.24N.m。

谐波减速器14型号XB1-60-42，额定输出扭矩25N.m，速比1：42。

伺服电机15型号HG-KR43BK400w/3000r，额定扭矩1.27N.m，额定转速3000rpm，最大转速6000rpm，控制精度优于0.5mm。

移动平台16(见附图4)采用50号钢板材切割而成，高度为210mm，正方形边长为1310mm，弧形直径为1468mm。为减轻重量进行了中间半月牙镂空(镂空尺寸为月弧直径770mm，月牙长570mm)，

(2)旋转运动平台机构

旋转运动平台机构2包括：上安装平台21、齿轮副22、谐波减速器23、伺服电机24和下支撑平台25。

下支撑平台25通过螺栓和移动平台16相连；齿轮副22通过螺栓和下支撑平台25相连；上安装平台21通过螺栓和下支撑平台25相连；谐波减速器23一端通过螺栓和上安装平台21相连，谐波减速器23另一端通过螺栓和伺服电机24相连。

上安装平台21采用50号钢板材整体切割而成，厚度为60mm，形状为类跑道形状，正方形边长为1310mm，弧形外径为1420mm，弧形内径为1000mm。

齿轮副22为中空圆形，厚度为60mm，外径为1000mm，弧形内径为570mm，采用小齿轮带大齿轮方式，小齿轮齿数为25，大齿轮齿数为258。

谐波减速器23型号XB1-60-160，额定输出扭矩50N.m，速比160。

伺服电机24型号HG-KR43BK400w/3000r，额定扭矩1.27N.m，额定转速3000rpm(0～3000rpm可调),控制精度优于0.2°。

下支撑平台25采用50号钢板材整体切割而成，厚度为30mm，形状为类跑道形状，正方形边长为1310mm，弧形外径为1420mm，弧形内径为1000mm。

工作过程如下:

工作前先将设备安装在转台上，工作时基座电机控制丝杆旋转带动转台做水平方向前后运动，同时转台电机带动齿轮转动，齿轮带动转台转动，这样设备可精确到达需要的水平位置和角度。

以上所述，仅为本发明的具体实施例，对本发明进行详细描述，未详尽部分为常规技术。但本发明的保护范围不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。