阅读说明：本技术 钟表用部件、机芯以及钟表 (Timepiece component, movement, and timepiece ) 是由 舟川刚夫 涩谷宗裕 于 2019-08-09 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种在硅制的钟表用部件中能够易于组装并且能够提高设计的自由度的钟表用部件、机芯以及钟表。钟表用部件的特征在于,具备：轴部件,其具有轴芯和凸缘部,所述凸缘部以向与轴芯的轴向交叉的方向突出的方式而被形成；硅制的主体部,其上设置有供轴芯插穿的插穿孔；固定部件,其在隔着主体部而与凸缘部相反的一侧被安装于轴芯上,主体部具有收纳凸缘部的收纳凹部,且通过被凸缘部和固定部件夹持而被固定在轴部件上。(The invention provides a timepiece component, a movement, and a timepiece, which can be easily assembled in a silicon timepiece component and can improve the degree of freedom of design. A timepiece component is characterized by comprising: a shaft member having a shaft core and a flange portion formed so as to protrude in a direction intersecting with an axial direction of the shaft core; a silicon body portion having an insertion hole through which the shaft core is inserted; and a fixing member that is attached to the shaft core on the side opposite to the flange portion with the body portion interposed therebetween, wherein the body portion has a housing recess that houses the flange portion, and is fixed to the shaft member by being sandwiched between the flange portion and the fixing member.)

钟表用部件、机芯以及钟表

技术领域

本发明涉及一种钟表用部件、机芯以及钟表。

背景技术

在机械式钟表中，搭载有以齿轮等为代表的数量众多的钟表用部件。一直以来，钟表用部件通过对金属材料进行机械加工而被形成，但是近年来，作为钟表用部件的材料而使用了包含硅的基材(例如，参照专利文献1)。

在专利文献1中，被用于机械式钟表的擒纵机构中的作为擒纵叉的主体部的擒纵叉体利用半导体工艺技术而被形成。由此，能够对擒纵叉体的形状进行精密地加工。

在专利文献1的擒纵叉中，在使擒纵叉轴与被设置在擒纵叉体上的孔间隙配合、且相对于擒纵叉轴的轴向而确定了擒纵叉体的位置之后，通过粘合剂而对擒纵叉体和擒纵叉轴进行固定。在这种情况下，由于需要对作为微小的部件的擒纵叉体以及擒纵叉轴涂覆微量的粘合剂，因此存在擒纵叉的组装较为困难的问题。

专利文献1：日本特开2017-44487号公报

发明内容

本发明的钟表用部件的特征在于，具备：轴部件，其具有轴芯和凸缘部，所述凸缘部以向与所述轴芯的轴向交叉的方向突出的方式而被形成；硅制的主体部，其上设置有供所述轴芯插穿的插穿孔；固定部件，其在隔着所述主体部而与所述凸缘部相反的一侧被安装于所述轴芯上，所述主体部具有收纳所述凸缘部的收纳凹部，且通过被所述凸缘部和所述固定部件夹持而被固定在所述轴部件上。

本发明的钟表用部件的特征在于，具备：轴部件，其具有轴芯和凸缘部，所述凸缘部以向与所述轴芯的轴向交叉的方向突出的方式而被形成；硅制的主体部，其上设置有供所述轴芯插穿的插穿孔；固定部件，其在隔着所述主体部而与所述凸缘部相反的一侧被安装于所述轴芯上，所述主体部具有收纳所述固定部件的收纳凹部，且通过被所述凸缘部和所述固定部件夹持而被固定在所述轴部件上。

在本发明的钟表用部件中，优选为，所述主体部具有保持部，所述保持部向所述插穿孔内突出且能够在与所述轴芯的轴向交叉的方向上进行弹性变形，通过利用所述保持部和所述插穿孔的壁面来夹持所述轴芯，从而使所述主体部和所述轴部件被定位。

在本发明的钟表用部件中，优选为，所述轴部件为擒纵叉轴，所述主体部为，具有擒纵叉臂和擒纵叉杆的擒纵叉主体。

本发明的机芯的特征在于具备上述钟表用部件。

本发明的钟表的特征在于具备上述机芯。

附图说明

图1为表示本发明的第一实施方式的钟表的主视图。

图2为表示第一实施方式的机芯的图。

图3为表示第一实施方式的擒纵叉的概要的立体图。

图4为表示第一实施方式的擒纵叉的概要的分解立体图。

图5为表示第一实施方式的擒纵叉的概要的剖视图。

图6为表示第一实施方式的擒纵叉的概要的剖视图。

图7为表示第一实施方式的擒纵叉主体的概要的主视图。

图8为表示第一实施方式的擒纵叉主体的概要的后视图。

图9A～图9G为表示第一实施方式的擒纵叉主体的制造工序的示意图。

图10为表示用于制造第一实施方式的擒纵叉主体的蚀刻装置的示意图。

图11为表示第一实施方式的擒纵叉主体的制造中途的示意图。

图12为表示本发明的第二实施方式的擒纵叉的概要的立体图。

图13为表示第二实施方式的擒纵叉的概要的分解立体图。

图14A～图14G为表示第二实施方式的擒纵叉主体的制造工序的示意图。

图15为表示第二实施方式的擒纵叉主体的制造中途的示意图。

图16为表示第三实施方式的擒纵叉的概要的剖视图。

图17为表示其他的实施方式的擒纵叉主体的概要的后视图。

具体实施方式

第一实施方式

以下，基于附图而对本发明的第一实施方式进行说明。

机芯以及钟表

图1为表示本实施方式的钟表1的主视图，图2为表示从背盖侧观察机芯100时的图。

钟表1为被佩戴于用户的手腕上的腕表，且具备外装壳体2、被设置于外装壳体2内的表盘3、时针4A、分针4B、秒针4C、日期轮6、被设置于外装壳体2的侧面上的表冠7。

钟表1具备图2所示那样的被收纳于外装壳体2内的机芯100。机芯100具备主夹板110、第一夹板140、摆轮夹板130。在主夹板110与第一夹板140之间，配置有收纳了省略图示的发条的条盒轮81、省略图示的第二轮、第三轮83、第四轮84、擒纵轮85。此外，在主夹板110与摆轮夹板130之间，配置有擒纵叉10、摆轮组件87等。机芯100对作为指针的时针4A、分针4B、秒针4C进行驱动。此外，在机芯100中，作为卷紧发条的卷紧机构90，而设置有柄轴91、离合轮92、立轮93、小钢轮94、第一中间轮95、第二中间轮96。由此，能够将基于表冠7的旋转操作的旋转传递至大钢轮18，且使省略图示的条轴旋转，进而卷紧发条。由于这些与一般的机械式机芯相同，因此省略说明。

擒纵叉

接下来，利用图3至图5而对擒纵叉10的结构进行说明。

图3为表示擒纵叉10的概要的立体图，图4为表示擒纵叉10的概要的分解立体图，图5为沿着图3的V-V线的剖视图，图6为沿着图5的VI-VI线的剖视图。

如图3至图6所示，擒纵叉10具有擒纵叉轴11、擒纵叉主体12、固定部件13。另外，擒纵叉10为本发明的钟表用部件的一个示例。

擒纵叉轴

擒纵叉轴11为金属制的轴部件，且具有轴芯111和以向与轴芯111的轴向交叉的方向、具体而言与轴向正交的方向突出的方式而被形成的凸缘部112。在轴芯111的两端部处形成有榫头，该榫头以能够旋转的方式而被支承在图2所示的主夹板110以及未图示的叉夹板上。

擒纵叉主体

图7为表示擒纵叉主体12的概要的主视图，图8为表示擒纵叉主体12的概要的后视图。另外，擒纵叉主体12为本发明的主体部的一个示例。

如图3至图8所示，擒纵叉主体12为单晶硅制的部件，且具有第一面120、第二面121、与第一面120以及与第二面121交叉的侧面122。在本实施方式中，擒纵叉主体12的厚度尺寸t在最厚的位置处被设为大约430μm。

在擒纵叉主体12形成有擒纵叉臂1231、1232和擒纵叉杆1233三个擒纵叉梁123。

在擒纵叉臂1231、1232的顶端处分别一体地形成有叉瓦部124。此外，在擒纵叉杆1233的顶端处一体地形成有叉头钉125。

此外，在擒纵叉主体12上，形成有在第一面120上的第一凹部126和在第二面121上开口的第二凹部127。

第一凹部126在俯视观察时成为在三角形的底面上结合了半圆那样的形状，且被形成在三个擒纵叉梁123相交的位置处。

此外，第二凹部127被形成在第一凹部126的底面部上。因此，在俯视观察时，在第一凹部126与第二凹部127重叠的位置上，形成有贯穿擒纵叉主体12的第一面120侧和第二面121侧的插穿孔128。该插穿孔128被形成在构成第二凹部127的壁面中的以预定的角度而交叉的两个壁面1271、1272和后述的两个保持部129的内侧，且被设为能够供擒纵叉轴11的轴芯111插穿的形状。

在第二凹部127中，形成有向插穿孔128内突出的两个保持部129。在本实施方式中，两个保持部129的基端侧分别从第二凹部127的两个壁面1271、1272起延伸，且顶端侧折弯而被形成为大致L字状。这两个保持部129被构成为，与***穿在插穿孔128中的轴芯111抵接，且能够在与该轴芯111的轴向正交的方向上进行弹性变形。由此，轴芯111被发生了弹性变形的保持部129施力，而被保持部129以及两个壁面1271、1272夹持。因此，擒纵叉主体12相对于轴芯111而被定位。

此外，在第一凹部126上形成有与侧面122连通的连通槽1261。连通槽1261在后述的擒纵叉主体12的制造工序中，作为排出第一凹部126内的空气时的通道而被利用。因此，连通槽1261被设为对于排出空气而言适合的尺寸，例如宽度W被设为大约为50μm。但是，连通槽1261的宽度W并不限于此，只需为在后述的擒纵叉主体12的制造工序中能够短时间地排出空气的尺寸即可，例如，只需被设为3μm以上即可。

固定部件

固定部件13为被形成为圆环状的金属制的部件。固定部件13的内径被构成为与擒纵叉轴11的轴芯111的外径相比而略小。而且，轴芯111被压入并安装在隔着擒纵叉主体12而与凸缘部112相反的一侧处。由此，擒纵叉主体12被凸缘部112和固定部件13夹持，因此相对于轴芯111的轴向而被固定。

另外，擒纵叉主体12通过被凸缘部112和固定部件13夹持，从而抑制了上述保持部129的弹性变形。由此，擒纵叉主体12也相对于与轴芯111的轴向正交的方向被固定。

而且，在擒纵叉主体12被固定于擒纵叉轴11上的状态下，凸缘部112被收纳在擒纵叉主体12的第一凹部126中。也就是说，第一凹部126为本发明的收纳凹部的一个示例。在本实施方式中，第一凹部126的深度尺寸被形成为与凸缘部112的厚度尺寸相比而较大。由此，凸缘部112相对于轴芯111的轴向而完全地被收纳在第一凹部126中。

以此方式而构成的擒纵叉10在以擒纵叉轴11为中心而进行旋转时，两个叉瓦部124中的任意一个会与图2所示的擒纵轮85的齿部的顶端发生接触。另外，此时，擒纵叉杆1233与被设置在主夹板110上的省略图示的两个限位销发生接触，由此擒纵叉10不会在同一方向上进一步旋转。其结果为，擒纵轮85的旋转也暂时停止。

擒纵叉主体制造工序

接下来，基于附图而对本实施方式的擒纵叉主体的制造方法进行说明。

图9A～图9G为表示擒纵叉的制造工序的剖视图。

在本实施方式中，通过将图9A所示那样的厚度尺寸t1的硅基板20设为母材，且对该硅基板20的一面部21侧和与一面部21为相反侧的面的另一面部22侧这两侧进行蚀刻，从而制造擒纵叉10。在本实施方式中，例如，将厚度尺寸t1为大约430μm的硅基板20作为母材来制造擒纵叉10。另外，硅基板20的厚度尺寸t1并不限于此，能够根据所制造的钟表用部件的规格而适当地进行选择。

具体而言，首先，对于图9A所示的硅基板20的一面部21，利用例如光刻法来形成第一抗蚀图案R1(第一抗蚀图案形成工序)。图9B为表示在硅基板20的一面部21上形成了第一抗蚀图案R1的状态的图。第一抗蚀图案R1具有开口部O1。另外，在后述的第一蚀刻工序中，与一面部21的开口部O1相对应的位置被蚀刻。

接下来，如图9C所示，将第一抗蚀图案R1设为掩膜，而对硅基板20实施蚀刻。作为蚀刻，例如能够利用由电感耦合等离子体(InductivelyCoupled Plasma：ICP)实现的深反应离子蚀刻(Deep Reactive Ion Etching：DRIE)。

图10为表示蚀刻装置200的示意图。

图10所示的蚀刻装置200具有真空室201、载物台202、线圈203。

真空室201为实施蚀刻的反应室，且在其内部对载物台202以及线圈203进行收纳。

在上述的蚀刻装置200的载物台202上安置有图9B所示的硅基板20。此时，以硅基板20的另一面部22侧与载物台202的上表面对置的方式而进行安置。而且，使该真空室201内的气压下降至预定的真空压、例如1～30Pa左右。

接下来，例如，通过将SF₆等蚀刻气体导入真空室201内且使高频的大电流流过线圈203，从而产生由蚀刻气体形成的等离子体。而且，通过对载物台202施加偏压，从而由蚀刻气体形成的等离子体的粒子从第一抗蚀图案R1的开口部O1被引入至硅基板20的一面部21。由此，硅基板20从一面部21侧沿着第一抗蚀图案R1而在厚度方向上大致垂直地被蚀刻，从而形成了凹部。

接下来，例如，通过将C₄F₈等沉积气体导入真空室201内且使高频的大电流流过线圈203，从而产生由沉积气体形成的等离子体。而且，通过对载物台202施加偏压，从而由沉积气体形成的等离子体的粒子从第一抗蚀图案R1的开口部O1被引入至硅基板20的一面部21。由此，在通过上述蚀刻而被形成的凹部的侧壁上形成了保护膜。也就是说，凹部的侧壁被沉积。

而且，通过实施被称为所谓的波希法(Bosch process)的循环蚀刻处理，从而在硅基板20的一面部21上形成深度t2的凹部(第一蚀刻工序)，所述循环蚀刻处理为，反复地实施上述那样的蚀刻和沉积的处理。在本实施方式中，作为深度t2，例如形成了大约260μm的凹部。另外，在第一蚀刻工序中所形成的凹部的深度并不限于此，能够根据所制造的钟表用部件的形状而适当地进行变更。

另外，此时，硅基板20的另一面部22侧、即被安置于硅基板20的载物台202上的面侧通过氦气等冷却气体而被冷却。由此，在第一蚀刻工序中，硅基板20被维持在10℃左右的温度。因此，由于能够抑制硅基板20的温度上升，从而能够对因温度上升而导致由蚀刻气体形成的等离子体与硅基板20发生过剩反应的情况进行抑制。因此，能够防止蚀刻的垂直地被损害的情况，从而能够提高一面部21侧的蚀刻的加工精度。

接下来，将硅基板20从真空室201内取出，并去除第一抗蚀图案R1，从而成为图9D所示的状态。第一抗蚀图案R1的去除能够通过利用发烟硝酸或有机溶剂等中的湿蚀刻或者氧等离子体灰化等来实施。

图11为图9D的状态的硅基板20的立体图。

如图11所示，硅基板20在该阶段中成为形成有擒纵叉主体12的第一面120侧的状态。即，硅基板20的一面部21构成擒纵叉主体12的第一面120。此外，如上文所述，在擒纵叉主体12的第一面120侧上，形成有第一凹部126和将该第一凹部126与擒纵叉主体12的侧面122连通的连通槽1261。

另外，形成有用于将擒纵叉主体12的侧面122切出的外周凹部23，且该外周凹部23通过槽部24而与硅基板20的侧面部25连通。

接下来，如图9E所示，在硅基板20的一面部21上粘贴干膜F(干膜粘贴工序)。在本实施方式中，作为干膜F而利用对聚酯薄膜等的支承体均匀地涂覆了光刻胶而得到的物质。由此，在后述的第二蚀刻工序中，能够防止因等离子体化的蚀刻气体而使干膜F损坏的情况。

此外，使硅基板20反转，并对硅基板20的另一面部22而利用例如光刻法来形成第二抗蚀图案R2(第二抗蚀图案形成工序)。第二抗蚀图案R2具有开口部O2。在后述的第二蚀刻工序中，与另一面部22的开口部O2相对应的位置被蚀刻。

另外，在图9E中，示出了使硅基板20的上下反转且将另一面部22侧设为上侧的状态。

接下来，将图9E的状态下的硅基板20再次安置在真空室201内的载物台202上。此时，与上述相反，以使一面部21侧与载物台202的上表面对置的方式而进行安置。而且，与上述同样地，使真空室201内的气压下降至预定的真空压。此时，第一凹部126内的空气经由图11所示的连通槽1261、外周凹部23以及槽部24而从硅基板20的侧面部25被排出。

接下来，对图9E的状态下的硅基板20实施由波希法(Bosch process)实现的蚀刻(第二蚀刻工序)。由此，如图9F所示，硅基板20从另一面部22侧沿着第二抗蚀图案R2而在厚度方向上大致垂直地被蚀刻，从而形成深度t3的凹部。在本实施方式中，作为深度t3，例如形成有大约260μm的凹部。另外，与第一蚀刻工序同样地，在第二蚀刻工序中被形成的凹部的深度并不限于此，能够根据所制造的钟表用部件的形状而适当地进行变更。

此外，在一面部21侧和另一面部22侧进行了蚀刻的位置相重叠的部分上，形成有从一面部21侧到另一面部22侧贯穿硅基板20的贯穿孔。即，形成有图7所示的插穿孔128。

此时，虽然与第一蚀刻工序同样地，一面部21侧通过冷却气体而被冷却，但是由于在该一面部21侧上粘贴有干膜F，因此冷却气体不会经由插穿孔128而从一面部21侧穿到另一面部22侧。因此，在第二蚀刻工序中，由于能够有效地冷却硅基板20，因此也能够对因温度上升而导致由蚀刻气体形成的等离子体与硅基板20发生过剩反应的情况进行抑制。因此，能够防止蚀刻的垂直性被损坏的情况，从而能够提高另一面部22侧的蚀刻的加工精度。

而且，将硅基板20从真空室内取出，且将第二抗蚀图案R2以及干膜F去除，从而成为如图9G所示的状态。

最后，从硅基板20上拆下构成擒纵叉主体12的部分，从而制造擒纵叉主体12。

第一实施方式的作用效果

根据这样的实施方式，能够获得以下的效果。

在本实施方式中，由于利用凸缘部112和固定部件13来进行夹持，从而能够将擒纵叉主体12固定在擒纵叉轴11上，因此能够容易地对擒纵叉10进行组装。此时，由于凸缘部112被收纳在擒纵叉主体12的第一凹部126中，因此凸缘部112相对于擒纵叉主体12而不向轴芯111的轴向突出。即，能够减薄擒纵叉10。因此，能够防止与其他的钟表用部件的干涉，从而在擒纵叉10的配置等中能够提高设计的自由度。

此外，能够缩短凸缘部112与固定部件13的轴芯111的轴向上的距离。由此，能够提高对凸缘部112相对于轴芯111的位置进行设计时的自由度。即，能够将凸缘部112配置在轴芯111的一端部侧，或者配置在另一端部侧。因此，能够在轴芯111的轴向上扩大可调节擒纵叉主体12的位置的宽度。

另外，通过利用凸缘部112和固定部件13来进行夹持，从而将擒纵叉主体12固定在擒纵叉轴11上。由此，例如无需通过将擒纵叉轴11的轴芯111压入擒纵叉主体12中从而将擒纵叉主体12固定在擒纵叉轴11上。因此，能够防止因擒纵叉轴11被压入擒纵叉主体12中而使擒纵叉主体12破裂或缺失的情况。

在本实施方式中，擒纵叉主体12具有向插穿孔128内突出且能够在与轴芯111的轴向交叉的方向上进行弹性变形的两个保持部129。而且，通过利用与两个保持部129交叉的两个壁面1271、1272来夹持轴芯111，从而使擒纵叉主体12和擒纵叉轴11被定位。由此，仅通过使轴芯111插穿在插穿孔128中而使擒纵叉主体12相对于擒纵叉轴11被定位，因此，能够容易地实施擒纵叉10的组装。

在本实施方式中，通过设置将第一凹部126与侧面122连通的连通槽1261，从而能够在通过冷却气体而进行冷却的同时，对硅基板20的两侧进行蚀刻。因此，能够以较高的加工精度来对一块硅基板20的两侧进行蚀刻。

在此，假设在第一凹部126中未形成有连通槽1261的情况下，当在一面部21上粘贴干膜F时，第一凹部126成为封闭空间。因此，即便使真空室201内的气压下降至真空压，第一凹部126的内部也会被维持在大气压。这样，会在第一凹部126的内外产生气压差，因此可能会导致干膜F被损坏。

另一方面，在本实施方式中，如上文所述，第一凹部126内的空气经由连通槽1261、外周凹部23以及槽部24而被排出。即，第一凹部126的内部成为真空压，因此在第一凹部126的内外不会产生气压差。因此，能够防止干膜F因气压差而损坏的情况。

第二实施方式

接下来，基于附图而对本发明的第二实施方式进行说明。第二实施方式的擒纵叉10A在未形成连通槽1261的这一点上与第一实施方式不同。另外，在第二实施方式中，对与第一实施方式相同或类似的结构标注相同的符号，并省略说明。

擒纵叉

图12为表示擒纵叉10A的概要的立体图，图13为表示擒纵叉10A的概要的分解立体图。

如图12以及图13所示，擒纵叉10A具有擒纵叉轴11、擒纵叉主体12A、固定部件13。

虽然在擒纵叉主体12A上，在第一面120侧形成有第一凹部126A，但是与上述第一实施方式不同，在第一凹部126A中未形成有与侧面122连通的连通槽。

擒纵叉主体的制造工序

接下来，基于附图而对本实施方式的擒纵叉主体的制造方法进行说明。

图14A～图14G为表示擒纵叉的制造工序的剖视图。

在本实施方式中，与第一实施方式同样地，将图14A所示的厚度尺寸t1的硅基板20A作为母材。而且，通过对硅基板20A的一面部21A侧和与一面部21A为相反侧的面的另一面部22A侧的这两侧进行蚀刻，从而制造擒纵叉10A。

具体而言，首先，对于图14A所示的硅基板20A的一面部21A，例如使用光刻法来形成第一抗蚀图案R1A(第一抗蚀图案形成工序)。图14B为表示在硅基板20A的一面部21A上形成了第一抗蚀图案R1A的状态的图。第一抗蚀图案R1A具有开口部O1A。在此，在本实施方式中，在与连通槽相对应的位置上形成了第一抗蚀图案R1A。即，在后述的第一蚀刻工序中未形成有连通槽。

接下来，如图14C所示，将第一抗蚀图案R1A设为掩膜，且与上述第一实施方式同样地，对硅基板20A实施由波希法(Bosch process)实现的蚀刻(第一蚀刻工序)。由此，硅基板20A从一面部21A侧沿着第一抗蚀图案R1A而在厚度方向上大致垂直地被蚀刻，从而形成深度t2的凹部。

此外，与第一实施方式同样地，硅基板20A的另一面部22A侧、即被安置于硅基板20A的载物台202上的面侧通过氦气等冷却气体而被冷却。

接下来，将第一抗蚀图案R1A去除，从而成为图14D所示的状态。

图15为图14D的状态下的硅基板20A的立体图。

如图15所示，在本实施方式中，由于未形成连通槽，因此第一凹部126A与外周凹部23A不连通。此外，在本实施方式中，未形成有对硅基板20A的侧面部25A和外周凹部23A进行连通的槽。

接下来，如图14E所示，在硅基板20A的一面部21A上形成薄膜FA。在本实施方式中，薄膜FA沿着一面部21A而形成，或者沿着在第一蚀刻工序中所形成的凹部的底面以及壁面而形成。因此，未形成由薄膜FA和上述凹部构成的封闭空间。

另外，在本实施方式中，作为薄膜FA而能够利用TEOS(Tetraethylorthosilicate：四乙氧基硅烷)膜或金属膜。

而且，对于硅基板20A的另一面部22A，而使用例如光刻法来形成第二抗蚀图案R2A(第二抗蚀图案形成工序)。第二抗蚀图案R2A具有开口部O2A。

接下来，将图14E的状态下的硅基板20A再次安置在真空室201内的载物台202上。此时，与上述相反地，以使一面部21A侧与载物台202的上表面对置的方式来进行安置。而且，与上述同样地，使真空室201内的气压下降至预定的真空压。此时，由于在第一凹部126A内不存在封闭空间，因此不会产生气压差。因此，在本实施方式中，薄膜FA不会因气压差而损坏。

接下来，与上述同样地，对硅基板20A实施由波希法(Bosch process)实现的蚀刻(第二蚀刻工序)。由此，如图14F所示，硅基板20A从另一面部22A侧沿着第二抗蚀图案R2A而在厚度方向上大致垂直地被蚀刻，从而形成深度t3的凹部。

此时，在一面部21A侧和另一面部22A侧进行了蚀刻的位置相重叠的部分上，形成有从一面部21A侧到另一面部22A侧贯穿硅基板20A的贯穿孔。

在此，虽然一面部21A侧通过冷却气体而被冷却，但是由于在该一面部21A侧上形成有薄膜FA，因此冷却气体不会经由贯穿孔而从一面部21A侧穿到另一面部22A侧。

而且，将硅基板20A从真空室201内拆下，且将第二抗蚀图案R2A以及薄膜FA去除，从而成为图14G所示的状态。

最后，从硅基板20A上拆下构成擒纵叉主体12A的部分，从而制造擒纵叉主体12A。

第二实施方式的作用效果

根据这样的实施方式，能够获得以下的效果。

在本实施方式中，在擒纵叉主体12A中，第一凹部126A与侧面122不连通。因此，能够提高擒纵叉主体12A的部件强度。

在本实施方式中，将薄膜FA沿着一面部21A而形成，进而沿着在第一蚀刻工序中所形成的凹部的底面以及壁面而形成。由此，能够在通过冷却气体而进行冷却的同时，对硅基板20A的两侧进行蚀刻。因此，能够以较高的加工精度来对一块硅基板20A的两侧进行蚀刻。

第三实施方式

接下来，基于附图而对本发明的第三实施方式进行说明。第三实施方式的擒纵叉10B在固定部件13B被收纳在第一凹部126中的这一点上与第一实施方式、第二实施方式不同。另外，在第三实施方式中，对与第一实施方式相同或类似的结构标注相同的符号，并省略说明。

擒纵叉

图16表示擒纵叉10B的概要的剖视图。

如图16所示，擒纵叉10B具有擒纵叉轴11B、擒纵叉主体12、固定部件13B。

在本实施方式中，与第一、第二实施方式不同，在第一凹部126中收纳有固定部件13B。在此，第一凹部126的深度尺寸被形成为，与固定部件13B的厚度尺寸相比而较大。由此，固定部件13B在轴芯111的轴向上完全地被收纳在第一凹部126中。

此外，擒纵叉轴11B的凸缘部112B被配置在擒纵叉主体12的第二面121侧。由此，由于擒纵叉主体12被凸缘部112B和固定部件13B夹持，从而相对于轴芯111B的轴向而被固定。

另外，在本实施方式中，也能够将凸缘部112B收纳在第一凹部126中，且将固定部件13B配置在第二面121侧处。即，在图16中，使擒纵叉轴11B的上下反转，并通过将凸缘部112B配置在上侧，从而也能够使凸缘部112B收纳在第一凹部126中。在这种情况下，由于凸缘部112B被配置在图16中的上侧，因此擒纵叉主体12相对于擒纵叉轴11B的位置也移动到图16中的上侧。

第三实施方式的作用效果

根据这样的实施方式，能够获得以下的效果。

在本实施方式中，由于固定部件13B被收纳在擒纵叉主体12的第一凹部126中，因此固定部件13B相对于擒纵叉主体12而不向轴芯111的轴向突出。即，能够减薄擒纵叉10B。因此，能够防止与其他的钟表用部件的干涉，从而在擒纵叉10B的配置等中能够提高设计的自由度。

在本实施方式中，通过使擒纵叉轴11B的上下反转，从而也能够将凸缘部112收纳在第一凹部126中。在这种情况下，擒纵叉主体12相对于擒纵叉轴11B的位置被变更。即，即使不准备多个种类的凸缘部的位置不同的擒纵叉轴，也能够通过使擒纵叉轴11B的上下反转，从而以两个等级来对擒纵叉主体12的位置进行调节。

其他的实施方式

另外，本发明并不限定于上述的各个实施方式，能够达成本发明的目的的范围内的变形、改良等也被包含在本发明中。

虽然在上述各个实施方式中形成有向插穿孔128内突出且能够进行弹性变形的两个保持部129，但是并不限定于此。

图17为表示其他的实施方式的擒纵叉主体12C的概要的后视图。如图17所示，也可以采用如下方式，即，形成向插穿孔128内突出且能够进行弹性变形的一个保持部129C。通过采用这种方式，从而能够利用保持部129C和两个壁面1271、1272来对轴芯111进行夹持，由此能够相对于擒纵叉轴11而使擒纵叉主体12C定位。此外，也可以形成三个以上的保持部。

另外，未形成保持部的情况也被包含在本发明中。在这种情况下，通过在将轴芯111按压至两个壁面1271、1272中的状态下，利用凸缘部112和固定部件13来夹持擒纵叉主体12，从而擒纵叉主体12相对于轴芯111而被定位。

虽然在上述各个实施方式中保持部129被形成为大致L字状，但是并不限定于此。例如，保持部可以被形成为弧状，并且只需为在与轴芯的轴向正交的方向上能够进行弹性变形的形状即可。

虽然在上述第一实施方式、第二实施方式中，在擒纵叉主体12、12A上形成有对擒纵叉轴11的凸缘部112进行收纳的第一凹部126、126A，但是除此之外，也可以在擒纵叉主体的第二面上形成对固定部件进行收纳的凹部。由此，固定部件相对于擒纵叉主体而不向轴芯的轴向突出，因此能够进一步减薄擒纵叉。

此外，虽然在上述第一实施方式、第二实施方式中，凸缘部112被收纳在形成于擒纵叉主体12、12A的第一面120侧上的第一凹部126、126A中，但是并不限定于此。例如，也可以在第二面侧设置能够收纳凸缘部的收纳凹部，且在该收纳凹部中收纳有凸缘部。在这种情况下，固定部件被配置在第一面侧。

另外，虽然在上述第一实施方式、第二实施方式中，凸缘部112相对于轴芯111的轴向而完全地被收纳在第一凹部126、126A中，但是并未被限定于此。例如，第一凹部的深度尺寸被形成为与凸缘部的厚度尺寸相比而较小、且凸缘部的一部分被收纳在第一凹部中的情况也包含在本发明中。

虽然在上述第三实施方式中，固定部件13B被收纳在形成于擒纵叉主体12的第一面120侧的第一凹部126中，但是并未被限定于此。例如，也可以在第二面121侧设置能够收纳固定部件的收纳凹部，且在该收纳凹部中收纳有固定部件。在这种情况下，凸缘部被配置在第一面侧。

此外，虽然在上述第三实施方式中，固定部件13B相对于轴芯111的轴向而完全地被收纳在第一凹部126中，但是并未被限定于此。例如，第一凹部的深度尺寸被形成为与固定部件的厚度尺寸相比而较小、且固定部件的一部分被收纳在第一凹部中的情况而被包含在本发明中。

虽然在上述各个实施方式中固定部件13被压入轴芯111中，但是并未被限定于此。例如，可以在轴芯上螺合有固定部件，也可以被构成为通过凸缘部和固定部件能够对擒纵叉主体进行夹持。此外，虽然固定部件13的形状为圆环状，但是并不限定于此，例如，固定部件也可以为C字状等。另外，固定部件13并不限于金属制，也可以为例如树脂制。

虽然在上述各个实施方式中，对由一块硅基板20、20A来制造一个擒纵叉主体12、12A的情况进行了例示并说明，但是并不限于此，也可以采用由一块硅基板来制造多个擒纵叉主体的方式。

虽然在上述各个实施方式中，擒纵叉主体12、12A被设为单晶硅制部件，但是并未被限定于此。例如，擒纵叉主体可以为多晶硅制部件，只需由包含硅的基板形成即可。

虽然在上述各个实施方式中，作为钟表用部件而例示了擒纵叉10、10A、10B，但是并不限于此，例如，也可以为小钢轮等。此外，这些钟表用部件既可以以一种而单独地搭载于机芯上，或者将两种以上组合而搭载于机芯上。

符号说明

1…钟表；2…外装壳体；3…表盘；4A…时针；4B…分针；4C…秒针；6…日期轮；7…表冠；10、10A、10B…擒纵叉；11、11B…擒纵叉轴(轴部件)；12、12A、12C…擒纵叉主体(主体部)；13、13B…固定部件；20、20A…硅基板；21、21A…一面部；22、22A…另一面部；23、23A…外周凹部；24…槽部；25、25A…侧面部；100…机芯；111、111B…轴芯；112、112B…凸缘部；120…第一面；121…第二面；122…侧面；123…擒纵叉梁；1231、1232…擒纵叉臂；1233…擒纵叉杆；124…叉瓦部；125…叉头钉；126、126A…第一凹部(收纳凹部)；127…第二凹部；128…插穿孔；129、129C…保持部。