阅读说明：本技术 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 (Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus ) 是由 关谷道代 关户邦彦 田上庆 西将史 于 2015-10-23 设计创作，主要内容包括：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供一种包括层压体的电子照相感光构件,所述层压体包括支承体、底涂层、和电荷产生层,所述底涂层包括：包含由以下式(1)表示的电子输送物质、交联剂、和具有可聚合官能团的热塑性树脂的组合物的聚合产物,所述层压体满足以下表达式(2)和(3)：Z<Sup>1</Sup>-X-Z<Sup>2</Sup> (1) 0.20≤|Vd2-Vd1|≤2.0 (2) τ≤10 (3)。(The invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an electrophotographic apparatus. Provided is an electrophotographic photosensitive member including a laminate, the laminateComprising a support, an undercoat layer, and a charge generation layer, the undercoat layer comprising: a polymerization product of a composition comprising an electron transporting substance represented by the following formula (1), a crosslinking agent, and a thermoplastic resin having a polymerizable functional group, the laminate satisfying the following expressions (2) and (3): z 1 ‑X‑Z 2 (1) 0.20≤|Vd2‑Vd1|≤2.0 (2) τ≤10 (3)。)

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

本申请是申请日为2015年10月23日、申请号为201510695658.3、发明名称为“电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种电子照相感光构件，和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术

含有有机光导电性物质(下文中称为“电荷产生物质”)的电子照相感光构件目前是用于处理盒或电子照相设备的主流电子照相感光构件。电子照相感光构件通常包括支承体和形成在所述支承体上的感光层(电荷产生层和空穴输送层)。另外，在很多情况下在支承体与感光层之间形成底涂层。

近年来，已经使用具有更加高的感光度的电荷产生物质。然而，随着电荷产生物质的感光度增加，所产生的电荷量增加，因此电荷易于滞留在感光层中。因此，正重影易于发生。作为抑制这样的正重影的技术，在日本专利申请特开No.2014-029480中，公开的是，底涂层含有通过将含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物聚合而获得的聚合产物(固化物)。进一步，在日本专利申请特开No.2007-148294和No.2008-250082中，公开的是包括将电子输送物质引入底涂层中的技术。还公开了包括将底涂层固化，以致当电子输送物质引入底涂层中时，在用作底涂层的上层的感光层形成时，电子输送物质不溶出至感光层用涂布液中的溶剂中的技术。

发明内容

现有技术的底涂层目前满足需要的图像品质。

近年来，存在进一步增加图像品质的需要，并且作为有效方法，提出的是空穴输送层的薄化。这是因为，当空穴输送层薄化时，可以抑制在形成静电潜像时的电荷的扩散。

本发明的发明人做出的研究已经发现：在其中空穴输送层薄化并且使用日本专利申请特开No.2014-029480的底涂层的情况下，虽然可以抑制例如黑点等的图像缺陷的发生，但观察到暗衰减增加的现象。然而，研究已经发现：随着空穴输送层薄化，会导致感光度的明显降低的现象，因此图像品质有改善的余地。

进一步，本发明的发明人已经做出了对正重影的降低的研究，结果，已经发现：在公开于日本专利申请特开No.2007-148294和No.2008-250082中的技术中，正重影的抑制(降低)，特别地，在连续图像输出之前和之后的正重影水平的波动依然有改善的余地。

本发明的目的是提供一种电子照相感光构件，其中即使当空穴输送层薄化时，也抑制例如黑点等的图像缺陷的发生并且增加感光度；和提供各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。本发明的另一目的是提供抑制了正重影的电子照相感光构件；和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

根据本发明的第一实施方案，提供一种电子照相感光构件，其包括：层压体；和在所述层压体上的空穴输送层，其中：

所述层压体包括：

支承体；

在所述支承体上的厚度为d1(μm)的底涂层；和

在所述底涂层上的厚度为d2(μm)的电荷产生层；并且

所述空穴输送层的厚度为15μm以下；

所述底涂层包括：包含由以下式(1)表示的电子输送物质、交联剂、和具有可聚合官能团的热塑性树脂的组合物的聚合产物：

Z¹-X-Z² (1)

在式(1)中：

Z¹和Z²各自表示具有电子输送性的基团；

X表示连接基团，并且所述连接基团是取代或未取代的亚烷基、取代或未取代的亚芳基、取代或未取代的杂环基、或通过将在所述取代或未取代的亚烷基的主链中的亚甲基之一用R¹取代而获得的基团；所述R¹表示氧原子、硫原子、SO₂、NR²、CO、或者取代或未取代的亚芳基，所述R²表示氢原子、烷基、或芳基；和

Z¹、Z²和X的至少之一具有可聚合官能团，并且所述可聚合官能团是羟基、硫羟基、氨基、羧基、或甲氧基；

所述层压体满足以下表达式(2)和(4):

0.20≤|Vd2-Vd1|≤2.0 (2)

Vd1＝-100×(d1+d2) (4)

其中Vd1表示从通过电晕充电使所述电荷产生层带电1.0秒之后的所述电荷产生层的表面电位，并且Vd2表示从通过电晕充电使所述电荷产生层带电0.80秒之后的所述电荷产生层的表面电位；和

τ满足以下表达式(3)：

τ≤10 (3)

在表达式(3)中，τ表示传输时间(ms)，其基于在具有电位为Vd1(V)的所述电荷产生层的表面曝露于光之后的所述电荷产生层的表面电位的时间变化速度来求得；所述光具有调节为从曝光0.04秒之后的所述电荷产生层的表面电位相对于Vd1(V)衰减20％的强度。

根据本发明的第二实施方案，提供一种电子照相感光构件，其包括：

支承体；

在所述支承体上的底涂层；和

在所述底涂层上的感光层，

其中所述底涂层包括以下(i)和(ii)之一的聚合产物：

(i)：由以下式(11)表示的化合物的聚合产物；和

(ii)：含有由式(11)表示的化合物和交联剂的组合物的聚合产物：

在式(11)中，

X¹和X²各自独立地表示通过从取代或未取代的芳香族四羧酸除去4个羧基而获得的残基，并且当所述残基具有取代基时，所述取代基是卤素原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基；

Y表示具有可聚合官能团的取代或未取代的亚烷基或具有可聚合官能团的取代或未取代的亚芳基；和

R⁷和R⁸各自独立地表示取代或未取代的烷基、通过将所述取代或未取代的烷基的亚甲基之一用氧原子取代而获得的基团、通过将所述取代或未取代的烷基的亚甲基之一用硫原子取代而获得的基团、通过将所述取代或未取代的烷基的亚甲基之一用NR⁹取代而获得的基团、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基、或烷氧基羰基，并且R⁷和R⁸可以各自具有可聚合官能团，

条件是所述氧原子、所述硫原子、和所述NR⁹不直接键合至与R⁷和R⁸键合的氮原子。

本发明还涉及一种处理盒，其包括：所述电子照相感光构件；和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一种单元，所述处理盒一体化支承所述电子照相感光构件和所述至少一种单元，所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备。

本发明还涉及一种电子照相设备，其包括：所述电子照相感光构件；充电单元；曝光单元；显影单元；和转印单元。

根据本发明的第一实施方案，可以提供一种电子照相感光构件，其中即使当空穴输送层薄化时，也抑制例如黑点等的图像缺陷的发生并且增加感光度；和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

根据本发明的第二实施方案，可以提供抑制了正重影的电子照相感光构件；和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明而变得明显。

附图说明

图1是示出用于进行本发明的判定方法的判定装置的示例性构成的一个实例的图。

图2是示出用于进行本发明的判定方法的判定装置的示例性构成的另一个实例的图。

图3A是说明表达式(2)的图。

图3B是说明表达式(3)的图。

图4A是示出不能通过本发明的判定方法来进行带电和光量设定的比较例的图。

图4B是示出不能通过本发明的判定方法来进行带电和光量设定的比较例的图。

图5是说明表达式(4)的图。

图6是示出使现有技术的电子照相感光构件通过本发明的判定方法进行测量的比较例的图。

图7是示出包括含有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意构成的图。

图8是研磨装置的示意性截面图。

图9是说明重影评价用图像(重影评价用打印件)的图。

图10是说明单点桂马跳跃图案图像的图。

具体实施方式

现在将依照附图具体地描述本发明的优选实施方案。

本发明的第一实施方案的电子照相感光构件包括层压体和在所述层压体上的空穴输送层。所述层压体包括支承体、在所述支承体上的底涂层和在所述底涂层上的电荷产生层。所述底涂层具有厚度为d1(μm)，所述电荷产生层具有厚度为d2(μm)，并且所述空穴输送层具有厚度为15μm以下。

另外，所述底涂层包括：包含由式(1)表示的电子输送物质、交联剂和具有可聚合官能团的热塑性树脂的组合物的聚合产物。

Z¹-X-Z² (1)

(在式(1)中，Z¹和Z²各自表示具有电子输送性的基团。

X表示连接基团，并且所述连接基团是取代或未取代的亚烷基、取代或未取代的亚芳基、取代或未取代的杂环基、或通过将在所述取代或未取代的亚烷基的主链中的亚甲基之一用R¹取代而获得的基团。所述R¹表示氧原子、硫原子、SO₂、NR²、CO、或者取代或未取代的亚芳基。所述R²表示氢原子、烷基、或芳基。

Z¹、Z²和X的至少之一具有可聚合官能团，并且所述可聚合官能团是羟基、硫羟基、氨基、羧基、或甲氧基。)

另外，电子照相感光构件的特征在于：层压体满足以下表达式(2)和(4)：

0.20≤|Vd2-Vd1|≤2.0 (2)

Vd1＝-100×(d1+d2) (4)

其中Vd1表示从通过电晕充电使电荷产生层带电1.0秒之后的电荷产生层的表面电位，并且Vd2表示从通过电晕充电使电荷产生层带电0.80秒之后的电荷产生层的表面电位。

进一步，电子照相感光构件的特征还在于：τ满足以下表达式(3)。

τ≤10 (3)

τ表示传输时间(ms)，其基于在电位为Vd1(V)的电荷产生层的表面曝露于光之后的电荷产生层的表面电位的时间变化速度来求得；所述光具有调节为从曝光0.04秒之后的电荷产生层的表面电位相对于Vd1(V)衰减20％的强度。

本发明的发明人已经如下推测当空穴输送层的厚度降低时，通过将上述聚合产物引入底涂层中并且使层压体满足表达式(2)和(3)来抑制感光度的降低同时抑制黑点的发生的原因。

在包括支承体以及依序形成在支承体上的底涂层、电荷产生层和空穴输送层的电子照相感光构件的情况下，在用曝光光(图像曝光光)照射的部分中，在产生于电荷产生层中的电荷(空穴和电子)中，空穴注入空穴输送层中，并且电子注入底涂层中。然后，注入底涂层的电子被认为进一步移动至支承体。因此，通过使空穴输送层薄化，施加至底涂层、电荷产生层和空穴输送层的电场强度增加。在公开于日本专利申请特开No.2014-029480中的包括具有可聚合官能团的电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的聚合产物的底涂层中，形成了均一的膜，因此例如黑点等的图像缺陷不发生。然而，随着空穴输送层薄化，电场强度增加，并且感光度的显著降低的现象在一些情况下发生。特别地，当空穴输送层具有厚度为15μm以下时，这样的现象趋于明显地发生。

当在其中每单位厚度的电场如表达式(4)中增加的情况下，观察到表面电位的时间变化速度时，如图5中所示暗衰减增加。本发明的发明人认为暗衰减的增加影响曝光之后的衰减。因为感光度由于大的暗衰减而降低的原因，本发明的发明人已经推测：产生于电荷产生层中的热载流子(heat carrier)的影响变得不可忽视，从而抑制光载流子(opticalcarrier)的移动。同时，本发明的发明人已经推测：通过满足表达式(2)和(3)获得即时在热载流子的产生下也抑制感光度降低的底涂层。

进一步，本发明的发明人已经如下推测凭借包含包括由式(1)表示的电子输送物质、交联剂和具有可聚合官能团的热塑性树脂的组合物的聚合产物的底涂层可以满足表达式(2)和(3)的原因。作为抑制电子的移动的一个因素，已知的是，电子移动物质(电子输送物质)的相邻分子之间的深阱(trap)的形成。大量的热载流子在高电场下进入阱从而存在于底涂层中。即，认为，在底涂层中已经进入阱的热载流子抑制了光载流子的移动。于是，认为，阱源自不具有电子移动功能的树脂或杂质，因此具有电子移动功能的部位和不具有电子移动功能的部位如何形成在底涂层中对于阱的存在和在阱的存在下电子的移动是重要的。因此，本发明的发明人认为：凭借本发明的底涂层的构成，聚合产物的形成和在电子输送物质的相邻分子之间的结构上适当的距离可以抑制热载流子进入阱并且抑制即使在阱的存在下电子移动的抑制。

现在，描述底涂层的构成和表达式(2)和(3)。首先，描述判定电子照相感光构件是否满足本发明的表达式(2)和(3)的判定方法(下文中有时称为“本发明的判定方法”)。

用于进行本发明的判定方法的温度和湿度条件是在其中使用包括电子照相感光构件的电子照相设备的环境下是充分的。温度和湿度条件优选在常温和常湿的环境(23±3℃,50±2％RH)下。

通过使用包括支承体、在支承体上的底涂层和在底涂层上的电荷产生层的层压体来进行上述判定方法。

在其中底涂层含有电子输送物质的情况下，当各自用作上层的电荷产生层和空穴输送层通过将电荷产生层用涂布液和空穴输送层用涂布液施涂来形成时，电子输送物质可能溶出。在这样的电子照相感光构件中，电子输送物质溶出，因此认为不能充分评价在底涂层中的电子的本来的移动。

因此，必要的是，电荷产生层和空穴输送层形成在底涂层上，然后将空穴输送层剥离从而获得包括底涂层和电荷产生层的层压体，并且将层压体进行判定。

进一步，在例如含有电子输送物质作为颜料的底涂层和其中分散了金属氧化物颗粒的底涂层等的具有低的均一性的底涂层中，黑点易于发生。在本发明的判定方法中，其中黑点如上述发生的底涂层不会带电至Vd1。基于此，认为当剥离空穴输送层后的层压体可以带电至Vd1时，可以抑制黑点。

因此，优选的是，将空穴输送层从包括层压体和在层压体上的空穴输送层的电子照相感光构件剥离并且将所得物进行判定。作为空穴输送层的剥离方法，给出的是，例如，包括将电子照相感光构件浸渍在溶解空穴输送层并且不可能溶解底涂层和电荷产生层的溶剂中从而剥离空穴输送层的方法和包括将空穴输送层研磨的方法。

作为溶解空穴输送层并且不可能溶解底涂层和电荷产生层的溶剂，优选使用用于空穴输送层用涂布液的溶剂。随后描述溶剂的种类。将电子照相感光构件浸渍在溶解空穴输送层的溶剂中，接着干燥，由此可以获得上述层压体。例如，基于空穴输送层的树脂组分通过在FTIR测量方法中的衰减全反射法(ATR法)没有观察到的事实，可以确认的是，空穴输送层已经剥离。

进一步，包括将空穴输送层研磨的方法通过例如使用在鼓研磨装置(drumgrinding device)中的缠绕带(wrapping tape)(C2000，Fujifilm Corporation制造)来进行。图8中示出研磨装置的示意性截面图。将缠绕带802从供给辊803供给从而由卷取辊804卷取并且以恒速移动。将缠绕带802用橡胶辊805加压从而研磨电子照相感光构件801。电子照相感光构件801的整个表面可以通过振动橡胶辊805在短期内均一地研磨。在此情况下，优选的是：顺次测量厚度从而防止空穴输送层被过度研磨而研磨电荷产生层；并且在其中空穴输送层整个消除的部位处进行测量同时观察电子照相感光构件的表面。进一步，已经确认的是，当在对电荷产生层进行研磨之后的电荷产生层的厚度是0.10μm以上时，与其中不研磨电荷产生层的情况相比，以上述测量方法获得实质上相同的值。因此，即使当研磨电荷产生层以及空穴输送层时，在其中电荷产生层的厚度是0.10μm以上的情况下，可以使用上述测量方法。

图1是示出用于进行本发明的判定方法的判定装置的示意性构成的一个实例的图。将圆筒状层压体101驱动从而以箭头方向旋转并且在透过脉冲光103L的透明探针104P的位置处停止。在停止时，将层压体101的表面电位使用测量层压体101的电荷产生层的表面电位的电位计104和透明探针104P来开始测量。之后，从构成为使脉冲激光振荡的装置(图像曝光振荡装置)103振荡的脉冲光(图像曝光光)103L穿过透明探针104P从而将层压体101曝露于光，并由此测量电荷产生层的表面电位的时间变化速度。

图2是示出用于进行本发明的判定方法的判定装置的示意性构成的另一个实例的图。将片状层压体201以箭头方向驱动并且在透过脉冲光203L的透明探针204P的位置处停止。在停止时，将层压体201的表面电位使用测量层压体201的电荷产生层的表面电位的电位计204和透明探针204P来开始测量。之后，从构成为使脉冲激光振荡的装置(图像曝光振荡装置)203振荡的脉冲光(图像曝光光)203L穿过透明探针204P从而将层压体201曝露于光，并由此测量电荷产生层的表面电位的时间变化速度。

将电晕充电器102(202)的位置、曝光的位置、和层压体的移动速度设定为通过电晕充电器102(202)带电与使用脉冲光103L(203L的光照射(也称为曝光)之间的时间是1.00秒。作为电晕充电器102(202)，优选使用具有施加恒定电位的特性的栅控式充电器(scorotron charger)。优选的是，具有波长为780nm和脉冲宽度为1μs的激光脉冲光用作脉冲光103L(203L)，并且将光量使用ND滤光器来调节。即，曝光时间是1μs(微秒)。

下一步，描述表达式(2)至(4)。

图3A和图3B是示出在表达式(2)和(3)中的Vd1、Vd2和τ的图。

以下带电条件C和光E在判定电子照相感光构件是否满足表达式(2)和(3)之前决定。

<带电条件C>

将层压体的电荷产生层的表面的带电的条件如下设定。将施加至电晕充电器的栅电压的值和放电线的电流值调节为从通过电晕充电器带电1.00秒之后的电荷产生层的表面电位是由表达式(4)表示的Vd1(V)。将栅电压的值和放电线的电流值定义为带电条件C。

Vd1＝-100×(d1+d2) (4)

<光E>

使电荷产生层的表面带电以致电荷产生层的表面电位在带电条件C下是由表达式(4)表示的Vd1(V)。然后，将光的强度使用ND滤光器来调节以致从曝光至具有波长为780nm的激光1微秒的0.04秒之后的电子照相感光构件的表面电位相对于Vd1(V)衰减20％。将设定至该强度的光定义为光E。

图3A是示出当在带电条件C下带电并且从带电1.00秒之后用光E照射时，层压体101的电荷产生层的表面电位的时间变化速度的衰减曲线的图。Vd2表示从带电0.80秒之后的电荷产生层的表面电位，即，从当将电荷产生层带电至Vd1(V)的表面电位时0.20秒之前的电荷产生层的表面电位。Vd2也表示从电荷产生层的表面曝露于光E 0.20秒之前的电荷产生层的表面电位。在本发明中，通过图1和图2中所示的方法，在将层压体101停止之后，测量层压体101的电荷产生层表面电位。因此，将层压体101在通过电晕充电器带电之后立即驱动，因此不能测量层压体101的电荷产生层的表面电位。因此，必要的是，在其中层压体101停止的状态下测量由表达式(2)表示的暗衰减的量。在本发明中，将表面电位在通过电晕充电器带电之后从0.80秒至1.00秒的0.20秒内测量。

Vd2和τ可以如上述通过设定带电条件C和光E的强度来测量。

在其中不能设定带电条件C和光E的强度的情况下，不能满足本发明的判定方法。图4A是示出其中不能设定带电条件C的实例的图，并且在由实线表示比较例中，不能设定带电条件C。这是其中电荷产生层的带电能力不充分的实例，因此从带电1.00秒之后的电荷产生层不能带电至由表达式(4)表示的Vd1(V)的表面电位。

图4B是示出不能设定光E的实例的图，并且在由实线表示比较例中，不能设定光E。这是其中电子移动功能不充分的实例，因此即使当光的强度增加时，曝光后0.04秒之后的电荷产生层的表面电位不能相对于Vd1(V)衰减20％。

由表达式(4)表示的Vd1(V)是指：将电荷产生层的表面电位设定为相对于具有厚度d1的底涂层和具有厚度d2的电荷产生层的总厚度(μm)每单位厚度(μm)为-100V。

在表达式(2)中的|Vd2-Vd1|表示在其中将充分强的电场施加至层压体的情况下的暗衰减量。图5是示出每单位厚度的电场和在0.2秒(0.2s)期间暗衰减量的图。理解的是，暗衰减量在电场强度为约-70V/μm至-80V/μm下急剧增加。

0.2≤|Vd2-Vd1|≤2.0 (2)

在推测通过空穴输送层的薄化导致的施加至层压体的电场增加的情况下，每单位厚度-100V的表面电位是充分强的电场。

表达式(3)表示传输时间τ(ms)，其基于在具有表面电位为Vd1(V)的电荷产生层的表面曝露于光E之后的电荷产生层的表面电位的时间变化速度来求得。传输时间τ参考公开于例如日本专利申请特开No.2006-251554中的Xerographic TOF(XTOF)法和Journal ofSociety of Electrophotography of Japan，第22卷，第1号(1983)，第69至76页来求得。具体地，使示出电荷产生层的表面电位的时间变化速度的衰减曲线(图3A)相对于与从曝光(0秒)至其后0.1秒(100毫秒)的时间期间表面电位的时间微分的关系来进行对数转换，从而获得图3B中示出的波形。图3B中示出的波形推测由两条直线形成，并且该两条直线通过使用最小二乘法的直线近似来获得。从通过使用最小二乘法的直线近似而获得的两条直线的交点的曝光经过的时间定义为τ(传输时间)。如果获得的波形没有清晰地具有弯曲点，则传输时间可以由曝光后的0.1秒之后的衰减曲线的对数转换来定义。

在表达式(3)中的传输时间τ表示表明曝光之后即刻在电荷产生层中产生的电子注入底涂层中并且在其中移动到达支承体需要的时间的值。在其中τ小的情况下，电子到达支承体需要的时间短，这意味着电子照相感光构件的感光度高。在其中τ大的情况下，电子到达支承体需要的时间长，这意味着电子照相感光构件的感光度低。在本发明中，当τ是10以下时，获得高的感光度。进一步，更优选满足表达式(5)的τ。

0.01≤τ≤2 (5)

从前述，当满足表达式(2)和(3)时，即使当暗衰减由于施加强的电场而增加时，电子迅速移动，并且获得充分高的感光度。

本发明的第二实施方案涉及一种电子照相感光构件，其包括：支承体；在所述支承体上的底涂层；和在所述底涂层上的感光层。另外，所述电子照相感光构件的特征在于：所述底涂层包括以下(i)和(ii)之一的聚合产物：

(i)：由以下式(11)表示的化合物的聚合产物；和

(ii)：含有由式(11)表示的化合物和交联剂的组合物的聚合产物：

在式(11)中，X¹和X²各自独立地表示通过从取代或未取代的芳香族四羧酸除去4个羧基而获得的残基。当所述残基具有取代基时，所述取代基是卤素原子、氰基、硝基、取代或未取代的直链状或支链状的烷基、或者取代或未取代的芳基。

Y表示具有可聚合官能团的取代或未取代的亚烷基或者具有可聚合官能团的取代或未取代的亚芳基。

R⁷和R⁸各自独立地表示取代或未取代的直链状或支链状的烷基、通过将所述取代或未取代的直链状或支链状的烷基的亚甲基之一用氧原子取代而获得的基团、通过将所述取代或未取代的直链状或支链状的烷基的亚甲基之一用硫原子取代而获得的基团、通过将所述取代或未取代的直链状或支链状的烷基的亚甲基之一用NR⁹取代而获得的基团、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基、或烷氧基羰基。R⁷和R⁸可以各自具有可聚合官能团。应该注意的是，所述氧原子、所述硫原子、和所述NR⁹不直接键合至与R⁷和R⁸键合的氮原子。

本发明的发明人已经如下推测了包括含有根据本发明的聚合产物的底涂层的电子照相感光构件在正重影的抑制效果方面特别优异的原因。本发明的化合物包括两个电子输送部位之间的间隔(spacer)。进一步，该间隔具有可聚合官能团。因此，认为的是，聚合相对于化合物的中心来进行，两个电子输送部位以等间隔存在，并且电子输送部位均一地存在于聚合产物中。因此，认为通过分子间跳跃的电子输送提高，并且获得高的对由电子滞留导致的正重影的抑制效果。

[底涂层]

底涂层包括：包含由式(1)表示的电子输送物质、交联剂、和具有可聚合官能团的热塑性树脂的组合物的聚合产物。在聚合产物中，由式(1)表示的电子输送物质可以包含上述(i)或(ii)的聚合产物。

在由式(1)表示的电子输送物质的Z¹和Z²中，具有电子输送性的基团是指具有电子输送性的结构的基团。具有电子输送性的结构的实例包括醌结构、酰亚胺结构、苯并咪唑结构、和亚环戊二烯基结构。

现在，示出具有电子输送性的基团的具体实例。给出的是，各自由以下(A1)至(A10)式的任何之一表示的基团。

在式(A1)至(A10)中，R¹⁰¹至R¹⁰⁶的任何之一、R²⁰¹至R²¹⁰的任何之一、R³⁰¹至R³⁰⁸的任何之一、R⁴⁰¹至R⁴⁰⁸的任何之一、R⁵⁰¹至R⁵¹⁰的任何之一、R⁶⁰¹至R⁶⁰⁶的任何之一、R⁷⁰¹至R⁷⁰⁸的任何之一、R⁸⁰¹至R⁸¹⁰的任何之一、R⁹⁰¹至R⁹¹⁰的任何之一、R¹⁰⁰¹至R¹⁰⁰⁸的任何之一表示键合至X的键合部位(单键)。

在式(A1)至(A10)中，R¹⁰¹至R¹⁰⁶、R²⁰¹至R²¹⁰、R³⁰¹至R³⁰⁸、R⁴⁰¹至R⁴⁰⁸、R⁵⁰¹至R⁵¹⁰、R⁶⁰¹至R⁶⁰⁶、R⁷⁰¹至R⁷⁰⁸、R⁸⁰¹至R⁸¹⁰、R⁹⁰¹至R⁹¹⁰、和R¹⁰⁰¹至R¹⁰⁰⁸各自独立地表示单键、由以下式(A)表示的基团、氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基、或者通过将在取代或未取代的烷基的主链中的亚甲基之一用R³取代而获得的基团。R³表示氧原子、硫原子或NR¹¹⁰¹(R¹¹⁰¹表示氢原子或烷基)。

取代的烷基的取代基是烷基、芳基、卤素原子、或烷氧基羰基。取代的芳基的取代基和取代的杂环基的取代基各自是卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤素取代的烷基、或烷氧基。

Z²⁰¹、Z³⁰¹、Z⁴⁰¹和Z⁵⁰¹各自独立地表示碳原子、氮原子、或氧原子。当Z²⁰¹表示氧原子时，R²⁰⁹和R²¹⁰不存在；并且当Z²⁰¹表示氮原子时，R²¹⁰不存在。当Z³⁰¹表示氧原子时，R³⁰⁷和R³⁰⁸不存在；并且当Z³⁰¹表示氮原子时，R³⁰⁸不存在。当Z⁴⁰¹表示氧原子时，R⁴⁰⁷和R⁴⁰⁸不存在；并且当Z⁴⁰¹表示氮原子时，R⁴⁰⁸不存在。当Z⁵⁰¹表示氧原子时，R⁵⁰⁹和R⁵¹⁰不存在；并且当Z⁵⁰¹表示氮原子时，R⁵¹⁰不存在。

在式(A)中，α、β和γ的至少之一表示具有可聚合官能团的基团。如上所述，可聚合官能团是羟基、硫羟基、氨基、羧基或甲氧基。l和m各自独立地表示0或1，并且l和m的和是0以上且2以下。

α表示在其主链中具有1至6个原子的取代或未取代的亚烷基或通过将在取代或未取代的亚烷基的主链中的亚甲基之一用R⁴取代而获得的基团，并且这些基团可以各自具有可聚合官能团。R⁴表示氧原子、硫原子、或NR¹¹⁰²(R¹¹⁰²表示氢原子或烷基)。取代的亚烷基的取代基是具有1至6个碳原子的烷基、苄基、烷氧基羰基、或苯基。

β表示亚苯基、由具有1至6个碳原子的烷基取代的亚苯基、硝基取代的亚苯基、卤素原子取代的亚苯基、或烷氧基取代的亚苯基。这些基团可以各自具有可聚合官能团。

γ表示氢原子、在其主链中具有1至6个原子的取代或未取代的烷基、或通过将在取代或未取代的烷基的主链中的亚甲基之一用R⁵取代而获得的基团。这些基团可以各自具有可聚合官能团。取代的烷基的取代基是具有1至6个碳原子的烷基。R⁵表示氧原子、硫原子、或NR¹¹⁰³(R¹¹⁰³表示氢原子或烷基)。

现在，示出各自由式(A1)至(A10)的任何之一表示的基团的具体实例。在表1中，A¹和A²是各自由式(A)表示的基团。在表1中，在其中γ是“-”的情况下，γ表示氢原子，并且γ的氢原子以包括于栏“α”或“β”的结构中的状态示出。在表1中，“*”表示键合至X的键合部位(单键)。

X表示连接基团，并且连接基团是取代或未取代的亚烷基、取代或未取代的亚芳基、取代或未取代的杂环基、或通过将在取代或未取代的亚烷基的主链中的亚甲基之一用R¹取代而获得的基团。R¹表示氧原子、硫原子、SO₂、NR²、CO、或者取代或未取代的亚芳基。R²表示氢原子、烷基、或芳基。例如，给出烷基、芳基、羟基、氨基和卤素基来作为取代的亚烷基的取代基、取代的亚芳基的取代基、和取代的杂环基的取代基。

现在，示出X的具体实例。在表11中，虚线表示键合至Z¹和Z²的键合部位。

表11-1

表11-2

现在，由式(1)表示的电子输送物质的具体实例在表12中示出。在表12中，在其中X是“-”的情况下，X表示单键。

表12

由式(1)表示的电子输送物质具有至少一个可聚合官能团，并且优选具有两个以上的可聚合官能团，这是因为网络结构的形成在聚合时特别加速。

具有由式(A1)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以通过使用公开于例如U.S.专利No.4,442,193；U.S.专利No.4,992,349；U.S.专利No.5,468,583；或Chemistry of materials，第19卷，第11号，第2703-2705页(2007)中的已知的合成方法来合成。进一步，该部分结构可以通过可购自Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、和Johnson Matthey Japan Inc.的萘四羧酸二酸酐与单胺衍生物之间的反应来合成。

具有由式(A2)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可购自例如Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey JapanInc。进一步，该部分结构可以基于菲衍生物或菲咯啉衍生物通过使用公开于Chem.Educator，第6号，第227-234页(2001)；Journal of Synthetic Organic Chemistry，Japan，第15卷，第29-32页(1957)；或Journal of Synthetic Organic Chemistry，Japan，第15卷，第32-34页(1957)中的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可以通过与丙二腈的反应来引入。

具有由式(A3)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可购自Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey JapanInc。进一步，该部分结构可以基于菲衍生物或菲咯啉衍生物通过使用公开于Bull.Chem.Soc.Jpn.，第65卷，第1006-1011页(1992)中的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可以通过与丙二腈的反应来引入。

具有由式(A4)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可购自例如Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey JapanInc。进一步，该部分结构可以基于苊醌(acenaphthenequinone)衍生物通过使用公开于Tetrahedron Letters，43(16)，第2991-2994页(2002)或Tetrahedron Letters，44(10)，第2087-2091页(2003)中的合成方法来合成。二氰基亚甲基也可以通过与丙二腈的反应来引入。

具有由式(A5)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可购自例如Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey JapanInc。进一步，该部分结构可以使用芴酮衍生物和丙二腈通过使用公开于中U.S.专利No.4,562,132的合成方法来合成。进一步，该部分结构也可以使用芴酮衍生物和苯胺衍生物通过使用公开于日本专利申请特开No.H05-279582或日本专利申请特开No.H07-070038中的合成方法来合成。

具有由式(A6)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以通过使用公开于例如Chemistry Letters，37(3)，第360-361(2008)页或日本专利申请特开No.H09-151157中的合成方法来合成。进一步，该部分结构可购自Tokyo ChemicalIndustry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey Japan Inc。

具有由式(A7)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以通过使用公开于日本专利申请特开No.H01-206349或PPCI/Japan Hard Copy'98，论文集，第207页(1998)中的合成方法来合成。进一步，该部分结构可以使用可购自Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.或Sigma-Aldrich Japan的苯酚衍生物作为原料来合成。

具有由式(A8)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以通过使用公开于例如Journal of the American chemical society，第129卷，第49号，第15259-78页(2007)中的已知的合成方法来合成。进一步，该部分结构可以通过可购自TokyoChemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey Japan Inc.的苝四羧酸二酸酐与单胺衍生物之间的反应来合成。

具有由式(A9)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以例如通过使用可购自Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或JohnsonMatthey Japan Inc的化合物如下来合成。即，该部分结构可以通过将该化合物使用氧化剂在有机溶剂中氧化来合成。作为氧化剂，给出高锰酸钾，并且作为有机溶剂，给出氯仿。

具有由式(A10)表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构可以通过使用公开于例如Bulletin of Tokai Women's Junior College，第7卷，第1-11页(1980)中的已知合成方法来合成，并且可购自例如Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey Japan Inc。氰酸酯化的亚甲基(cyanatedmethylene)结构或亚胺结构可以通过氰酸酯化的亚甲基衍生物或苯胺衍生物的作用来引入。

于是，具有式(A1)至(A10)的任何之一表示的基团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构彼此连结，因此可以获得预期的由式(1)表示的电子输送物质。为了连结由式(1)表示的电子输送物质的部分结构，可以使用已知方法，其包括：基于具有其中引入的官能团的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构，使具有能够键合至引入的官能团的多个官能团的化合物反应，等。具体地，官能团可以通过下述反应引入。

例如，给出的是：包括基于由式(1)表示的电子输送物质的部分结构的卤化物通过交叉偶联反应来引入亚芳基的方法，所述反应包括使用钯催化剂和碱；包括基于由式(1)表示的电子输送物质的部分结构的卤化物通过交叉偶联反应来引入亚烷基的方法，所述反应包括使用FeCl₃催化剂和碱；包括基于具有引入其中的羧基的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构通过使二醇化合物或二氨基化合物反应经由酯键或酰胺键来引入连接基团的方法；包括基于具有引入其中的羟基的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构通过使二羧基化合物或二异氰酸酯化合物反应经由酯键或氨基甲酸酯键来引入连接基团的方法；和包括基于具有其中引入的氨基的由式(1)表示的电子输送物质的部分结构通过使二羧基化合物或二异氰酸酯化合物反应经由酰胺键或脲键来引入连接基团的方法。

可以用于上述反应的化合物可购自Tokyo Chemical Industry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey Japan Inc。

由式(1)表示的电子输送物质具有能够与交联剂反应的可聚合官能团(羟基、硫羟基、氨基或羧基)。作为将可聚合官能团引入由式(1)表示的电子输送物质的主骨架的方法，给出的是，包括将可聚合官能团直接引入由式(1)表示的电子输送物质的主骨架的方法。也可用的是，包括将具有可聚合官能团的结构或可以用作可聚合官能团的前体的官能团引入由式(1)表示的电子输送物质的主骨架的方法。作为后者方法，给出的是，包括基于由式(1)表示的电子输送物质的部分结构的卤化物通过交叉偶联反应来引入具有可聚合官能团的芳基的方法，所述反应包括使用钯催化剂和碱。也可用的是，包括基于卤化物通过交叉偶联反应来引入具有可聚合官能团的烷基的方法，所述反应包括使用FeCl₃催化剂和碱。也可用的是，包括将由式(1)表示的电子输送物质的部分结构的卤化物进行锂化，并且使环氧化合物或二氧化碳对所得物起作用从而引入羟基烷基或羧基的方法。

进一步，由式(1)表示的电子输送物质可以是由式(11)表示的化合物。在此情况下，优选的是，可聚合官能团是羟基、硫羟基、氨基、羧基或甲氧基。

在式(11)中，X¹和X²各自独立地表示通过从取代或未取代的芳香族四羧酸除去4个羧基而获得的残基。当所述残基具有取代基时，所述取代基是卤素原子、氰基、硝基、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。

Y表示具有可聚合官能团的取代或未取代的亚烷基或具有可聚合官能团的取代或未取代的亚芳基。

R⁷和R⁸各自独立地表示取代或未取代的烷基、通过将取代或未取代的烷基的亚甲基之一用氧原子取代而获得的基团、通过将取代或未取代的烷基的亚甲基之一用硫原子取代而获得的基团、通过将取代或未取代的烷基的亚甲基之一用NR⁹取代而获得的基团、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基、或烷氧基羰基。R⁷和R⁸可以各自具有可聚合官能团。

应该注意的是，氧原子、硫原子、和NR⁹不直接键合至与R⁷和R⁸键合的氮原子。

在由式(11)表示的化合物中的由X¹或X²表示的通过从芳香族四羧酸除去4个羧基而获得的残基的实例包括苯基、联苯基、对三联苯基、萘基、蒽基、和苝基。芳香族四羧酸的具体实例包括，但不限于，1,2,3,4-苯四羧酸、1,2,4,5-苯四羧酸、2,2′,3,3′-联苯四羧酸、3,3′,4,4′-联苯四羧酸、2,3,3′,4′-联苯四羧酸、3,3′,4,4′-对三联苯四羧酸、2,2′,3,3′-对三联苯四羧酸、2,3,3′,4′-对三联苯四羧酸、1,2,4,5-萘四羧酸、1,2,5,6-萘四羧酸、1,4,5,8-萘四羧酸、2,3,6,7-萘四羧酸、2,3,6,7-蒽四羧酸、和3,4,9,10-苝四羧酸。

X¹和X²的取代基列举为，但不限于：卤素原子，例如氟、氯、溴、或碘原子；烷基，例如甲基、乙基、丙基、或丁基；和芳基，例如苯基、萘基、联苯基、三联苯基、或芴基。另外，烷基可以进一步由卤素原子或芳基取代，并且芳基可以进一步由卤素原子或烷基取代。进一步，X¹和X²可以各自由一个或两个以上的取代基取代。

在由式(11)表示的化合物中的由Y表示的亚烷基的实例包括，但不限于，亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己基、亚环己基、亚庚基、亚辛基、亚壬基、和亚癸基。

在由式(11)表示的化合物中的由Y表示的亚芳基的实例包括，但不限于，亚苯基、亚萘基、亚联苯基、亚芴基、螺亚芴基(spirofluorenylylene group)、蒽基、和菲基。

Y具有的可聚合官能团的实例包括活性氢基、不饱和烃基、和甲氧基。活性氢基优选羟基、羟基烷基、羧基、氨基、和硫羟基。其中，更优选羟基和羧基。另外，不饱和烃基优选作为亚芳基的取代基的亚乙基、丙烯酰氧基、或甲基丙烯酰氧基。

作为Y的取代基，给出的是，例如，甲基、乙基、丙基、和丁基。由式(11)表示的化合物可以具有Y具有的一个或两个以上的可聚合官能团，并且可以具有其一种或两种以上。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的烷基的实例包括，但不限于，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、和环己基。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的通过将烷基的亚甲基之一用氧原子取代而获得的基团的实例包括，但不限于，甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基甲基、和乙氧基乙基。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的通过将烷基的亚甲基之一用硫原子取代而获得的基团的实例包括，但不限于，甲硫基甲基、甲硫基乙基、甲硫基丙基、甲硫基丁基、乙硫基甲基、乙硫基乙基、乙硫基丙基、和乙硫基丁基，以及巯甲基、巯乙基、巯丙基、巯丁基、巯戊基、巯己基、巯庚基、巯辛基、巯壬基、巯癸基、和巯环己基。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的通过将烷基的亚甲基之一用NR⁹取代而获得的基团的实例包括，但不限于，二甲基氨基甲基、二甲基氨基乙基、二甲基氨基丙基、甲基乙基氨基甲基、甲基乙基氨基乙基、甲基乙基氨基丙基、二乙基氨基甲基、二乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、乙基丙基氨基甲基、乙基丙基氨基乙基、乙基丙基氨基丙基、二丙基氨基甲基、二丙基氨基乙基、和二丙基氨基丙基。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的芳基的实例包括，但不限于，苯基、萘基、联苯基、三联苯基、和芴基。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的杂环基的实例包括，但不限于，噻吩、吡咯、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪、喹啉、异喹啉、噁唑、噁二唑、菲啶、吖啶、萘啶、喹喔啉、喹唑啉、噌啉、酞嗪、菲咯啉、吩嗪、二苯并呋喃、二苯并噻吩、咔唑、苯并呋喃、苯并噻吩、吲哚、苯并咪唑、苯并噻唑和苯并噻二唑。

在由式(11)表示的化合物中的由R⁷或R⁸表示的烷氧基羰基的实例包括，但不限于，甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、和丁氧基羰基。

作为烷基、通过将烷基的亚甲基之一用氧原子取代而获得的基团、通过将烷基的亚甲基之一用硫原子取代而获得的基团、和通过将烷基的亚甲基之一用NR⁹取代而获得的基团的取代基，给出的是，例如：芳烷基，例如苄基；芳基，例如苯基和联苯基；杂环基，例如吡啶基、吡咯基、苯并咪唑基、和苯并噻唑基；烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、和苯氧基；卤素原子，例如氟、氯、溴、和碘原子；氰基；硝基；羰基；羧基；和烷氧基羰基。

作为芳基和杂环基的取代基，给出的是，例如：烷基，例如甲基、乙基、丙基、和丁基；芳烷基，例如苄基；芳基，例如苯基和联苯基；杂环基，例如吡啶基、吡咯基、苯并咪唑基、和苯并噻唑基；烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、和苯氧基；卤素原子，例如氟、氯、溴、和碘原子；氰基；硝基；烷氧基羰基；烷氧基；和卤代烷基。

另外，当R⁷和R⁸各自具有可聚合官能团时，可聚合官能团的实例包括与Y具有的可聚合官能团的实例相同的官能团。如在Y的情况下，化合物可以具有一个或两个以上的R⁷和R⁸具有的可聚合官能团，并且可以具有其一种或两种以上。

在本发明的第二实施方案中，由式(11)表示的化合物作为(i)由式(11)表示的化合物的聚合产物或(ii)包含由式(11)表示的化合物和交联剂的组合物的聚合产物来使用。应该注意的是，在其中由式(11)表示的化合物作为(i)由式(11)表示的化合物的聚合产物来使用的情况下，Y的可聚合官能团优选不饱和烃基。不饱和烃基优选作为亚芳基的取代基的亚乙基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基。

根据本发明的由式(11)表示的化合物在表13至16中示出，但本发明不限于此。各自由式(11)表示的化合物的多个可以以组合使用。

在本发明中的由式(11)表示的化合物可以通过使用公开于例如日本专利申请特开No.2007-108670或Journal of the Imaging Society of Japan，45(6)，第521-525页(2006)中的已知的合成方法来合成。另外，该化合物也可购得为来自例如Tokyo ChemicalIndustry Co.Ltd.、Sigma-Aldrich Japan、或Johnson Matthey Japan Inc的试剂。

作为当合成由式(11)表示的化合物时可聚合官能团的引入方法，存在两种方法。方法之一是(i)包括当合成由式(11)表示的化合物时，直接引入可聚合官能团的方法。另一个是(ii)包括当合成由式(11)表示的化合物时，形成具有用作引入可聚合官能团的基础的基团的由式(11)表示的化合物的骨架，然后引入具有可聚合官能团的结构的方法。作为(ii)的方法，给出的是，例如，包括使用钯催化剂和碱通过交叉偶联反应将包含官能团的芳基引入其中R⁷、R⁸或Y表示卤素取代的萘基的由式(11)表示的化合物的方法。进一步，可以使用FeCl₃催化剂来代替钯催化剂。进一步，也可用的是，包括将其中R⁷、R⁸或Y表示卤素取代的萘基的由式(11)表示的化合物进行锂化，并且使环氧化合物或CO₂对所得物起作用从而引入羟基烷基或羧基的方法。

进一步，作为当合成由式(11)表示的化合物时不饱和烃基(例如，丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯的引入方法，给出的是以下方法。即，给出的是，包括当合成由式(11)表示的化合物时，使用具有不饱和烃基的单胺作为R⁷或R⁸的结构或作为为二胺的Y部分的结构的方法。也给出的是，包括将丙烯酸或甲基丙烯酸的酯从具有羟基的由式(11)表示的化合物的羟基来获得从而引入丙烯酰基或甲基丙烯酰基的方法。

将根据本发明的化合物等通过以下方法来确认。

质量分析

将分子量通过使用质量分析仪(MALDI-TOF MS，ultraflex，Bruker DaltonicsInc.制造)在加速电压为20kV，Reflector的模式，和富勒烯C₆₀的分子量标准产物的条件下测量。将分子量基于获得的峰顶值来确认。

描述由式(11)表示的化合物的合成例。

(合成例)

将13.4g(50mmol)的1,4,5,8-萘四羧酸二酸酐和70ml的二甲基乙酰胺在室温、氮气流下装入300-ml的三颈烧瓶中。将5.7g(50mmol)的4-庚胺和30ml的二甲基乙酰胺的混合物在搅拌下滴加至三颈烧瓶中。在完成滴加之后，将所得物加热至50℃，然后在该温度下搅拌2小时。进一步，将5.4g(25mmol)的3,3′-二羟基联苯胺和30ml的二甲基乙酰胺添加至所得物并且将混合物加热回流6小时。在完成反应之后，将容器冷却并且将所得物在减压下浓缩。将所得物通过硅胶柱层析法来精制。进一步，将回收的产物使用甲苯/乙酸乙酯重结晶从而获得2.4g的示例化合物(E106)。

下一步，描述交联剂。具有与具有可聚合官能团的电子输送物质和具有可聚合官能团的热塑性树脂聚合或交联的反应性基团的化合物可以用作交联剂。具体地，例如，可以使用由Shinzo Yamashita和Tosuke Kaneko编辑并且由TAISEISHA LTD.(1981)出版的“交联剂手册”中记载的化合物。

用于底涂层的交联剂优选具有2至6个异氰酸酯基、2至6个封端异氰酸酯基或2至6个各自由-CH₂-OR⁶(R⁶表示烷基)表示的基团的化合物。该化合物具体地是具有异氰酸酯基或封端异氰酸酯基的异氰酸酯化合物或具有各自由-CH₂-OR⁶表示的基团的胺化合物。其中，优选具有2至6个异氰酸酯基或2至6个封端异氰酸酯基的异氰酸酯化合物。异氰酸酯化合物的实例包括三异氰酸酯基苯；三异氰酸酯基甲基苯；三苯基甲烷三异氰酸酯；赖氨酸三异氰酸酯；和例如甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、异氟尔酮二异氰酸酯、苯二甲撑二异氰酸酯、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、甲基2,6-二异氰酸酯基己酸酯、或降冰片烷二异氰酸酯等二异氰酸酯的异氰脲酸酯改性产物、缩二脲改性产物、脲基甲酸酯改性产物、和三羟甲基丙烷或季戊四醇加成改性产物。其中，更优选异氰脲酸酯改性产物和加成改性产物。

封端异氰酸酯基是具有由-NHCOX³(其中X³表示保护基团)表示的结构的基团。虽然只要该保护基团可以引入异氰酸酯基，则X³可以表示任何保护基团，但X³优选表示由以下式(H1)至(H7)的任何之一表示的基团。

以下示出异氰酸酯化合物的具体实例(B1)至(B21)。

作为胺化合物，例如，优选具有2至6个各自由-CH₂-OR⁶表示的基团的胺化合物。作为胺化合物，例如，给出的是，蜜胺化合物、胍胺化合物、和尿素化合物。胺化合物的优选的具体实例包括由以下式(C1)至(C5)的任何之一表示的化合物和由以下式(C1)至(C5)的任何之一表示的化合物的低聚物。

在式(C1)至(C5)中，R¹¹至R¹⁶、R²²至R²⁵、R³¹至R³⁴、R⁴¹至R⁴⁴、和R⁵¹至R⁵⁴各自独立地表示氢原子、羟基、酰基、或由-CH₂-OR⁶表示的一价基团。R¹¹至R¹⁶的至少一种、R²²至R²⁵的至少一种、R³¹至R³⁴的至少一种、R⁴¹至R⁴⁴的至少一种、和R⁵¹至R⁵⁴的至少一种各自表示由-CH₂-OR⁶表示的一价基团。R⁶表示氢原子或具有1个以上且10个以下的碳原子的烷基。从聚合性的观点，烷基优选甲基、乙基、丙基(正丙基或异丙基)、丁基(正丁基、异丁基、或叔丁基)等。R²¹表示芳基、由烷基取代的芳基、环烷基、或由烷基取代的环烷基。

以下示出由式(C1)至(C5)的任何之一表示的化合物的具体实例。进一步，胺化合物可以含有由式(C1)至(C5)的任何之一表示的化合物的低聚物(多聚体)。

多聚体的聚合度优选2以上且100以下。进一步，上述多聚体和单体也可以作为两种以上的混合物使用。

可以通常作为由式(C1)表示的化合物而购买的化合物列举为：SUPER MELAMINo.90(NOF CORPORATION制造)，SUPER BECKAMINE(商标)TD-139-60、L-105-60、L127-60、L110-60、J-820-60或G-821-60(DIC Corporation制造)，U-VAN 2020(Mitsui Chemicals,Inc.)，Sumitex Resin M-3(Sumitomo Chemical Company)，或NIKALAC MW-30、MW-390或MX-750LM(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。

可以通常作为由式(C2)表示的化合物而购买的化合物列举为：SUPER BECKAMINE(商标)L-148-55、13-535、L-145-60或TD-126(DIC Corporation制造)，或NIKALAC BL-60或BX-4000(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。

可以通常作为由式(C3)表示的化合物而购买的化合物列举为：NIKALAC MX-280(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。

可以通常作为由式(C4)表示的化合物而购买的化合物列举为：NIKALAC MX-270(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。

可以通常作为由式(C5)表示的化合物而购买的化合物列举为：NIKALAC MX-290(NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO.,INC.制造)。

以下示出由式(C1)表示的化合物的具体实例。

以下示出由式(C2)表示的化合物的具体实例。

以下示出由式(C3)表示的化合物的具体实例。

以下示出由式(C4)表示的化合物的具体实例。

以下示出由式(C5)表示的化合物的具体实例。

下一步，描述具有可聚合官能团的热塑性树脂。具有可聚合官能团的热塑性树脂优选具有由以下式(D)表示的结构单元的热塑性树脂。

在式(D)中，R⁶¹表示氢原子或烷基，Y¹表示单键、亚烷基、或亚苯基，并且W¹表示羟基、硫羟基、氨基、羧基、或甲氧基。

具有由以下式(D)表示的结构单元的热塑性树脂的实例包括乙缩醛树脂、聚烯烃树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、聚酰胺树脂、和纤维素树脂。由式(D)表示的结构单元可以存在于以下表示的特征结构中，或可以与特征结构分别存在。特征结构在以下式(E-1)至(E-6)中表示。式(E-1)表示乙缩醛树脂的结构单元。式(E-2)表示聚烯烃树脂的结构单元。式(E-3)表示聚酯树脂的结构单元。式(E-4)表示聚醚树脂的结构单元。式(E-5)表示聚酰胺树脂的结构单元。式(E-6)表示纤维素树脂的结构单元。

在式中，R²⁰⁰¹至R²⁰⁰⁵各自独立地表示取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基，并且R²⁰⁰⁶至R²⁰¹⁰各自独立地表示取代或未取代的亚烷基或者取代或未取代的亚芳基。当R²⁰⁰¹表示C₃H₇时，由E-1表示的树脂包括丁缩醛部分。R²⁰¹¹至R²⁰¹⁶各自表示乙酰基、羟基乙基、羟基丙基、或氢原子。

具有由式(D)表示的结构单元的树脂(下文中有时称为"树脂D")通过例如将可以购买自Sigma-Aldrich Japan or Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.的具有可聚合官能团(羟基、硫羟基、氨基、羧基或甲氧基)的单体聚合来获得。

另外，通常可以购买树脂D。可以购买的树脂的实例包括：聚醚多元醇系树脂，例如Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.制造的AQD-457或AQD-473，或Sanyo ChemicalIndustries,Ltd.制造的SANNIX GP-400或GP-700；聚酯多元醇系树脂such as例如HitachiChemical Co.,Ltd.制造的PHTHALKYD W2343，DIC Corporation制造的WATERSOL S-118或CD-520或BECKOLITE M-6402-50或M-6201-40IM，Harima Chemicals,Inc.制造的HARIDIPWH-1188，或Japan U-Pica Company Ltd.制造的ES3604或ES6538；聚丙烯酸多元醇系树脂，例如DIC Corporation制造的BURNOCK WE-300或WE-304；聚乙烯醇系树脂，例如KURARAYCO.,LTD.制造的KURARAY POVAL PVA-203；聚乙烯醇缩乙醛系树脂，例如Sekisui ChemicalCo.,Ltd.制造的BX-1或BM-1；聚酰胺系树脂，例如Nagase ChemteX Corporation制造的TORESIN FS-350；含羧基的树脂，例如Nippon Shokubai CO.,LTD.制造的AQUALIC或Namariichi Co.,Ltd.制造的FINELEX SG2000；聚胺树脂，例如DIC Corporation制造的LUCKAMIDE；和聚硫醇树脂，例如Toray Fine Chemicals Co.,Ltd.制造的QE-340M。其中，从聚合性和底涂层的均一性的观点，更优选聚乙烯醇缩乙醛系树脂和聚酯多元醇系树脂等。

树脂D的重均分子量(Mw)优选落在5,000至400,000的范围内。

在树脂中的可聚合官能团的定量化的方法包括：将羧基使用氢氧化钾滴定；将氨基使用亚硝酸钠滴定；将羟基使用乙酸酐和氢氧化钾滴定；将硫羟基使用5,5′-二硫基双(2-硝基苯甲酸)滴定；和校正曲线法，其包括从可聚合官能团引入率已经改变的样品的IR光谱来获得可聚合官能团的量。

树脂D的具体实例在以下表17中示出。在表17的栏“特征结构”中，由式(E-1)至(E-6)的任何之一表示的结构单元，和在“丁缩醛”、“聚烯烃”、“聚酯”、“聚醚”、“纤维素”、“聚酰胺”、和“乙缩醛”的情况下在结构单元中的主要结构分别是“聚乙烯醇缩丁醛”、“聚乙烯”、“聚琥珀酸丁二酯”、“聚氧化亚苯基”、“纤维素三乙酸酯”、“聚已二酰已二胺”和“聚乙烯醇缩甲醛”。

表17

相对于包括具有可聚合官能团的电子输送物质、交联剂、和具有可聚合官能团的树脂的组合物的总质量，具有可聚合官能团的电子输送物质的含量优选50质量％以上且85质量％以下。当电子输送物质的含量是50质量％以上且85质量％以下时，黑点不发生，并且感光度进一步增加。当电子输送物质的含量是50质量％以上时，可以在电子输送物质的相邻分子之间保持结构上适当的距离，因此感光度进一步增加。进一步，当电子输送物质的含量是85质量％以下时，认为电子输送物质聚合从而使网络结构的形成加速，并且黑点的抑制效果进一步提高。

相对于底涂层的总质量，在底涂层中的根据本发明的聚合产物的含量优选50质量％以上且100质量％以下，更优选80质量％以上且100质量％以下。

底涂层的厚度d1优选0.7μm以上且3.0μm以下。当厚度d1是0.7μm以上且3.0μm以下时，满足表达式(2)和(3)，并且在高电场下的感光度进一步增加。当厚度d1是0.7μm以上时，抑制暗衰减的增加，因此感光度进一步增加。进一步，当厚度d1是3.0μm以下时，满足表达式(3)，因此感光度进一步增加。

在(ii)的聚合产物中，在底涂层的组合物中由式(11)表示的化合物与交联剂之间的质量比优选100:50以上且100:750以下。进一步，质量比更优选100:50以上且100:500以下。当质量比落在上述范围内时，认为抑制交联剂的聚集，结果，在底涂层中的阱部位降低，由此进一步提高重影的抑制效果。

进一步，在其中底涂层包含(i)或(ii)的聚合产物的情况下，从重影的抑制效果的观点，底涂层的厚度优选0.5μm以上且15μm以下。底涂层的厚度更优选0.5μm以上且5μm以下。

现在，描述层压体的支承体、空穴输送层和其它层。

[支承体]

支承体优选具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如，可以使用由例如铝、镍、铜、金或铁等的金属，或其合金制成的支承体。其实例包括：通过将例如铝、银或金等的金属的薄膜形成在例如聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰亚胺树脂或玻璃等的绝缘性支承体上而获得的支承体；和已经形成在例如氧化铟或氧化锡等的导电性材料的薄膜上的支承体。

为了可以改善电子照相感光构件的电特性并且可以抑制干涉条纹，支承体的表面可以进行电化学处理，例如阳极化、湿式珩磨处理、喷砂处理、或切削处理。

导电层可以形成在支承体与层压体的底涂层之间。导电层通过以下来获得：在支承体上，形成通过将导电性颗粒分散在树脂中而获得的导电层用涂布液的涂膜；并且干燥该涂膜。

导电性颗粒的实例包括炭黑，乙炔黑，例如铝、镍、铁、镍铬铁合金(nichrome)、铜、锌、或银等的金属的粉末，和例如导电性氧化锡或ITO等的金属氧化物的粉末。

另外，树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、丙烯酸类树脂、硅酮树脂、环氧树脂、蜜胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。

导电层用涂布液的溶剂的实例包括醚系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、和芳香族烃溶剂。导电层的厚度优选0.2μm以上且40μm以下，更优选1μm以上且35μm以下，又更优选5μm以上且30μm以下。

[电荷产生层]

在层压体中，感光层形成在底涂层上。感光层包括：含有电荷产生物质和粘结剂树脂的电荷产生层。进一步，优选的是，感光层是包括电荷产生层和含有空穴输送物质的空穴输送层的层压型感光层。

电荷产生物质的实例包括偶氮颜料、苝颜料、蒽醌衍生物、蒽嵌蒽醌衍生物、二苯并芘醌衍生物、皮蒽酮衍生物、蒽酮紫衍生物、异蒽酮紫衍生物、靛蓝衍生物、硫靛衍生物、例如金属酞菁和无金属酞菁等的酞菁颜料、和双苯并咪唑衍生物。其中，优选选自由偶氮颜料和酞菁颜料组成的组的至少一种。在酞菁颜料中，优选氧钛酞菁、氯镓酞菁、和羟基镓酞菁。

用于电荷产生层的粘结剂树脂的实例包括：例如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯、或三氟乙烯等的乙烯基化合物的聚合物和共聚物；聚乙烯醇树脂；聚乙烯醇缩乙醛树脂；聚碳酸酯树脂；聚酯树脂；聚砜树脂；聚苯醚树脂；聚氨酯树脂；纤维素树脂；酚醛树脂；蜜胺树脂；硅酮树脂；和环氧树脂。其中，优选聚酯树脂、聚碳酸酯树脂和聚乙烯醇缩乙醛树脂，并且更优选聚乙烯醇缩乙醛。

在电荷产生层中，电荷产生物质与粘结剂树脂的质量比(电荷产生物质/粘结剂树脂)落在优选10/1至1/10，更优选5/1至1/5的范围内。用于电荷产生层用涂布液的溶剂是例如醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂或芳香烃溶剂。

电荷产生层的厚度优选0.05μm以上且5μm以下。

[空穴输送层]

空穴输送层形成在电荷产生层上。空穴输送层包含空穴输送物质和粘结剂树脂。

空穴输送物质的实例包括多环芳香族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物、三苯胺、和在其主链或侧链中具有来源自这些化合物的任何之一的基团的聚合物。其中，优选选自由三芳基胺化合物、联苯胺化合物和苯乙烯基化合物组成的组的至少一种。

用于空穴输送层的粘结剂树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚甲基丙烯酸酯树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、和聚苯乙烯树脂。其中，优选聚碳酸酯树脂和聚芳酯树脂。另外，优选的是，任何这样的粘结剂树脂的重均分子量(Mw)落在10,000至300,000的范围内。

在空穴输送层中，空穴输送物质与粘结剂树脂的比(空穴输送物质/粘结剂树脂)优选10/5至5/10，更优选10/8至6/10。

当根据本发明的空穴输送层的厚度是15μm以下时，有效地获得效果。当空穴输送层的厚度是3μm以上且10μm以下时，更有效地获得本发明的效果。当厚度是3μm以上时，可能满足表达式(2)。当厚度是10μm以下时，施加至底涂层的电场强度变得高，因此与现有技术的底涂层相比，更明显地获得本发明的效果。进一步，在其中底涂层包含(i)或(ii)的聚合产物的情况下，即使当空穴输送层的厚度大于15μm时，获得了重影的抑制效果。在此情况下的空穴输送层的厚度优选大于15μm且40μm以下。

用于空穴输送层用涂布液的溶剂是例如醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香烃溶剂。

应该注意的是，在底涂层与电荷产生层之间可以形成例如没有涉及本发明的聚合产物的第二底涂层等的其它层。

另外，表面保护层可以形成在空穴输送层上。表面保护层包含导电性颗粒或电荷输送物质和粘结剂树脂。另外，表面保护层可以进一步包含例如润滑剂等的添加剂。另外，保护层的粘结剂树脂本身可以拥有导电性或电荷输送性，并且在此情况下，除了树脂以外的导电性颗粒或电荷输送物质不会引入保护层。另外，保护层的粘结剂树脂可以是热塑性树脂，或可以是使用热、光、或放射线(例如电子束)来聚合的固化性树脂。

以下方法优选作为各层的形成方法：施涂通过将构成各层的材料溶解和/或分散在溶剂中而获得的涂布液，并且将所得涂膜干燥和/或固化从而形成层。涂布液的施涂方法是例如浸渍涂布法(浸涂法)、喷涂法、帘式涂布法、或旋涂法。其中，从效率性和生产性的观点，优选浸渍涂布法。

[处理盒和电子照相设备]

图7是示出包括含有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构成的图。

在图7中，具有圆筒状的电子照相感光构件1以预定的圆周速度沿由箭头表示的方向围绕轴2旋转驱动。将旋转驱动的电子照相感光构件1的表面(外周表面)用充电单元3(一次充电单元，例如充电辊)均一地充电至预定的正或负电位。下一步，该表面接收来自例如狭缝曝光或激光束扫描曝光等的曝光单元(未示出)的曝光光(图像曝光光)4。由此，对应于目标图像的静电潜像顺次形成在电子照相感光构件1的表面上。

形成在电子照相感光构件1的表面上的静电潜像然后用在显影单元5的显影剂中的调色剂显影从而变为调色剂图像。下一步，形成在电子照相感光构件1的表面上并且由其承载的调色剂图像通过来自转印单元6(例如转印辊)的转印偏压顺次转印至转印材料P(例如纸)上。应该注意的是，将转印材料P与电子照相感光构件1的旋转同步地从转印材料供给单元(未示出)取出并且供给至在电子照相感光构件1与转印单元6之间的空间(邻接部)。

将其上已经转印了调色剂图像的转印材料P与电子照相感光构件1的表面分离并且引入定影单元8，在其中将图像定影。由此，将转印材料作为图像形成产品(打印件或复印件)打印至设备的外部。

将在调色剂图像转印之后的电子照相感光构件1的表面通过将转印残余显影剂(调色剂)通过清洁单元7(例如清洁刮板)除去而清洁。下一步，将该表面通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光11来进行除电处理，然后重复地用于图像形成。应该注意的是，当充电单元3是如图7中所示的使用充电辊等的接触充电单元时，预曝光不是必需必要的。

可以选择例如电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5、和清洁单元7等的组件的两种以上，将它们贮存在容器中，并且一体化结合从而形成处理盒。在此情况下，处理盒优选可拆卸地安装至例如复印机或激光束打印机等的电子照相设备的主体。在图7中，将电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5、和清洁单元7一体化支承从而形成处理盒。另外，将该盒用作通过使用例如电子照相设备的主体的导轨等的引导单元10可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒9。

实施例

下一步，描述电子照相感光构件的生产和评价。

(实施例1)

具有长度为260.5mm和直径为30mm的铝制圆筒(JIS-A3003，铝合金)用作支承体(导电性支承体)。

然后，将50份的各自由氧缺少型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒(粉末电阻率：120Ω·cm，氧化锡的覆盖率：40％)、40份的酚醛树脂(Plyophen J-325，DIC Corporation制造，树脂固含量：60％)、和50份的用作溶剂(分散介质)的甲氧基丙醇装入使用各自具有直径为1mm的玻璃珠的砂磨机并且进行分散处理3小时，从而制备导电层用涂布液(分散液)。将该导电层用涂布液通过浸渍涂布施涂至支承体上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在150℃下进行干燥并且热聚合30分钟从而形成具有厚度为16μm的导电层。

将在导电层用涂布液中的各自用氧缺少型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒的平均粒径使用粒径分布分析仪(商品名：CAPA 700，Horiba,Ltd.制造)、使用四氢呋喃作为分散介质、以5,000rpm的转数、通过离心沉降法来测量。结果，平均粒径是0.31μm。

下一步，将6.1份的电子输送物质(1-1)-1、5.2份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.3份的树脂(D1)、和0.05份的用作催化剂的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热聚合40分钟，由此形成具有厚度(UC厚度)为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是52质量％。

下一步，准备在CuKα特性X射线衍射中布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)。将10份的该羟基镓酞菁晶体、5份的聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LEC BX-1，SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)、和250份的环己酮装入使用各自具有直径为1mm的玻璃珠的砂磨机，并且将混合物进行分散处理1.5小时。下一步，将250份的乙酸乙酯添加至所得物从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸渍涂布施涂至底涂层从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在100℃下干燥10分钟从而形成具有厚度为0.15μm的电荷产生层。

下一步，将8份的由式(12-1)表示的化合物(空穴输送物质)和10份的以5/5的比具有由式(13-1)表示的结构单元和由式(13-2)表示的结构单元并且具有重均分子量(Mw)为100,000的聚芳酯溶解在40份的二甲氧基甲烷和60份的氯苯的混合溶剂中从而制备空穴输送层用涂布液。将空穴输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷产生层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在120℃下干燥40分钟从而形成具有厚度(CT厚度)为7μm的空穴输送层。

由此，生产用于评价正重影和电位波动的电子照相感光构件。进一步，以与上述相同的方式来生产其它电子照相感光构件，并由其制备上述层压体并且进行本发明的测量方法。

(判定试验)

将电子照相感光构件浸渍在40份的二甲氧基甲烷和60份的氯苯的混合溶剂中5分钟从而剥离空穴输送层。然后，将所得物在100℃下干燥10分钟从而获得层压体。通过FTIR-ATR法确认，空穴输送层没有存在于表面上。

下一步，将层压体在温度为25℃和湿度为50％RH的环境下静置24小时，然后将|Vd2-Vd1|(表达式(2))和传输时间τ(表达式(3))如上所述通过上述判定方法来计算。测量结果在表18中示出。

(黑点的评价)

将上述电子照相感光构件安装至上述激光束打印机的处理盒上，并且将处理盒安装至青色处理盒站上。输出实白图像。通过目测来进行判定。

(感光度和暗衰减的评价)

将感光度基于在用相同的光照射时的亮区电位来评价。可以评价的是，当亮区电位低时，感光度高；并且当亮区电位高时，感光度低。将暗衰减基于在施加相同的电压时的暗区电位来评价。判定当暗区电位低时，暗衰减大；并且当暗区电位高时，暗衰减小。通过将电子照相感光构件安装至激光束打印机(商品名：LaserJet P4510，Hewlett-PackardJapan,Ltd.制造)的改造机来做出评价。

进行改造，以致将外部电源用于充电从而将AC的Vpp设定至1,800V并且频率设定至870Hz，并且将DC的施加电压设定至-700V，并且曝光光(图像曝光光)的光量变得可变。

将电子照相感光构件的表面电位通过以下来测量：将显影用盒从评价机器移除并且将电位测量装置***其中。电位测量装置具有其中电位测量探针配置在显影用盒的显影位置处的构成，并且将电位测量探针相对于电子照相感光构件的位置设定至鼓轴方向的中央。

首先，测量没有用光照射的暗区电位(Vd)。结果，暗区电位(Vd)是-670V。然后，将光E设定至0.40μJ/cm²，并且测量亮区电位(Vl)。结果，亮区电位(Vl)是-180V。

(实施例2至15)

除了将实施例1的电子输送物质(1-1)-1改变为表18中示出的电子输送物质以外，以与实施例1相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例16至19)

除了将实施例1的树脂(D1)改变为表18中示出的树脂以外，以与实施例1相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例20)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将5.2份的电子输送物质(1-1)-10、5.6份的交联剂(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.9份的树脂(D1)、和0.05份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是44质量％。

(实施例21)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将5.9份的电子输送物质(1-1)-1、5.4份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.5份的树脂(D1)、和0.03份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是50质量％。

(实施例22)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将6.7份的电子输送物质(1-1)-1、4.3份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.3份的树脂(D1)、和0.03份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是59质量％。

(实施例23)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将6.8份的电子输送物质(1-1)-4、1.4份的作为交联剂的氨基化合物(C1-3)、1.8份的树脂(D1)、和0.1份的用作催化剂的十二烷基苯磺酸溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.50μm的底涂层

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是68质量％。

(实施例24至36)

除了将实施例23的电子输送物质(1-1)-4改变为表18中示出的电子输送物质以外，以与实施例23相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例37至40)

除了将实施例1的树脂(D1)改变为表18中示出的树脂以外，以与实施例23相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例41)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例23相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将7.3份的电子输送物质(1-1)-4、1.3份的氨基化合物(C1-3)、1.4份的树脂(D1)、和0.1份的用作催化剂的十二烷基苯磺酸溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.50μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是73质量％。

(实施例42)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例23相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将7.8份的电子输送物质(1-1)-4、1.2份的氨基化合物(C1-3)、1.0份的树脂(D1)、和0.1份的用作催化剂的十二烷基苯磺酸溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.50μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是78质量％。

(实施例43)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例23相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将8.3份的电子输送物质(1-1)-4、1.0份的氨基化合物(C1-3)、0.5份的树脂(D1)、和0.1份的用作催化剂的十二烷基苯磺酸溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.50μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是85质量％。

(实施例44)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例23相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将8.8份的电子输送物质(1-1)-4、1.0份的氨基化合物(C1-3)、0.2份的树脂(D1)、和0.1份的用作催化剂的十二烷基苯磺酸溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.50μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是88质量％。

(实施例45至49)

除了将实施例1的交联剂(B1:保护基团(H1))改变为表18中示出的交联剂以外，以与实施例1相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例50至54)

除了将实施例23的交联剂(C1-3)改变为表18中示出的交联剂以外，以与实施例23相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例55至59)

除了将实施例23的底涂层的厚度从1.50μm改变为0.63μm(实施例55)、0.77μm(实施例56)、2.00μm(实施例57)、3.00μm(实施例58)、和3.50μm(实施例59)以外，以与实施例23相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例60)

除了将电荷产生层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

准备在CuKα的X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有峰的氧钛酞菁晶体。将10份的氧钛酞菁晶体和聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)溶解在环己酮和水(97:3)的混合溶剂中从而制备166份的5质量％的溶液。将该溶液和150份的环己酮和水(97:3)的混合溶剂通过使用400份的各自具有直径为

的玻璃珠各自分散在砂磨装置中4小时。然后，将210份的环己酮和水(97:3)的混合溶剂和260份的环己酮添加至所得物从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸渍涂布施涂至底涂层从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在80℃下干燥10分钟从而形成具有厚度为0.20μm的电荷产生层。

(实施例61)

除了将电荷产生层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

将20份的由式(14)表示的双偶氮颜料和10份的聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LEC BX-1，Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)与150份的四氢呋喃一起混合和分散从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸涂法施涂至底涂层，并且将所得物在110℃下加热干燥30分钟从而形成具有厚度为0.30μm的电荷产生层。

(实施例62)

除了将实施例1的由式(12-1)表示的化合物(空穴输送物质)改变为由式(12-2)表示的联苯胺化合物(空穴输送物质)以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(实施例63)

除了将实施例1的由式(12-1)表示的化合物(空穴输送物质)改变为由式(12-3)表示的苯乙烯基化合物(空穴输送物质)以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表18中示出。

(比较例1)

除了将实施例1的电子输送物质(1-1)-1改变为由式(15)表示的电子输送物质以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

(比较例2)

除了将比较例1的底涂层的厚度从1.25μm改变为0.58μm以外，以与比较例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

(比较例3)

除了将底涂层如下形成以外，以与比较例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

将4.0份的由式(15)表示的电子输送物质、7.3份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.9份的树脂(D1)、和0.05份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为0.58μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是33质量％。

(比较例4)

除了将底涂层如下形成以外，以与比较例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

将3.6份的电子输送物质(1-6)-3、7.5份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、1.1份的树脂(D1)、和0.05份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为0.58μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是30质量％。

(比较例5)

除了将底涂层如下形成以外，以与比较例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

将9.0份的电子输送物质(1-6)-3、0.7份的异氰酸酯化合物(B1:保护基团(H1)＝5.1:2.2(质量比))、0.3份的树脂(D1)、和0.05份的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的甲基乙基酮的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是90质量％。

(比较例6)

除了将底涂层如下形成以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

将10.0份的电子输送物质(1-1)-3和12.0份的用作粘结剂树脂的聚碳酸酯树脂(Iupilon Z400，Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.制造)溶解在80份的四氢呋喃(THF)中从而制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而聚合，由此形成具有厚度为1.25μm的底涂层。

相对于含有电子输送物质、交联剂和树脂的组合物的总质量，电子输送物质的含量是45质量％。

(比较例7)

除了实施例9的树脂(D1)没有添加至底涂层以外，以与实施例9相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表19中示出。

(实施例64)

除了将实施例23的底涂层的厚度从1.50μm改变为2.50μm并且将空穴输送层的厚度从7μm改变为3μm以外，以与实施例23相同的方式来生产电子照相感光构件。

除了将光E从0.40μJ/cm²改变为0.62μJ/cm²从而测量亮区电位(Vl)以外，以与实施例23相同的方式来评价电子照相感光构件的感光度。结果在表20中示出。

(比较例8)

除了将实施例64的电子输送物质改变为用于比较例1的由式(15)表示的电子输送物质以外，以与实施例64相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表20中示出。

(实施例65)

除了将实施例1的空穴输送层的厚度从7μm改变为5μm以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。

除了为了与实施例1的Vl电位匹配，将光E从0.40μJ/cm²改变为0.50μJ/cm²从而测量亮区电位(Vl)以外，以与实施例1相同的方式来评价电子照相感光构件的感光度。结果在表20中示出。

(比较例9)

除了将实施例65的电子输送物质改变为用于比较例1的由式(15)表示的电子输送物质以外，以与实施例65相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表20中示出。

(实施例66)

除了将实施例1的空穴输送层的厚度从7μm改变为10μm以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。

除了为了与实施例1的Vl电位匹配，将光E从0.40μJ/cm²改变为0.34μJ/cm²从而测量亮区电位(Vl)以外，以与实施例1相同的方式来评价电子照相感光构件的感光度。结果在表20中示出。

(实施例67)

除了将实施例1的空穴输送层的厚度从7μm改变为15μm以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件。

除了为了与实施例23的Vl电位匹配，将光E从0.40μJ/cm²改变为0.20μJ/cm²从而测量亮区电位(Vl)以外，以与实施例1相同的方式来评价电子照相感光构件的感光度。结果在表20中示出。

(实施例68和69)

除了将实施例1的电子输送物质(1-1)-1改变为表21中示出的电子输送物质以外，以与实施例1相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表21中示出。

(实施例70和71)

除了将实施例23的电子输送物质(1-1)-4改变为表21中示出的电子输送物质以外，以与实施例23相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价。结果在表21中示出。

如上所述，从实施例1至71和比较例1至9的结果理解的是，当使用包括本发明的底涂层的电子照相感光构件时，即使当空穴输送层薄化时，也抑制黑点的发生并且感光度也增加。

(实施例72)

具有长度为260.5mm和直径为30mm的铝制圆筒(JIS-A3003，铝合金)用作支承体(导电性支承体)。

然后，将50份的各自由氧缺少型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒(粉末电阻率：120Ω·cm，氧化锡的覆盖率：40％)、40份的酚醛树脂(Plyophen J-325，DIC Corporation制造，树脂固含量：60％)、和55份的甲氧基丙醇装入使用各自具有直径为1mm的玻璃珠的砂磨机并且进行分散处理3小时从而制备导电层用涂布液。

将在导电层用涂布液中的各自由氧缺少型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒的平均粒径使用粒径分布分析仪(商品名：CAPA 700，Horiba,Ltd.制造)、使用四氢呋喃作为分散介质、以5,000rpm的转数、通过离心沉降法来测量。结果，平均粒径是0.30μm。

将导电层用涂布液通过浸渍涂布施涂至支承体上从而形成涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下干燥和热固化30分钟从而形成具有厚度为18μm的导电层。

下一步，将4份的用作由式(11)表示的化合物的示例化合物(E101)、将1.5份的聚乙烯醇缩丁醛树脂(BX-1，Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)、和0.0005份的用作催化剂的月桂酸二辛基锡溶解在100份的二甲基乙酰胺和100份的四氢呋喃的混合溶剂中。向该溶液中，添加相对于8份固成分的封端异氰酸酯树脂(BL3175，Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制造)，从而制备底涂层用涂布液。

将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上从而获得涂膜。将由此获得的涂膜在160℃下加热40分钟从而固化，由此形成具有厚度为2.0μm的底涂层。

下一步，准备在CuKα特性X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有峰的晶体形式的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)。将10份的羟基镓酞菁晶体、5份的聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LEC BX-1，SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)、和250份的环己酮装入使用各自具有直径为1mm的玻璃珠的砂磨机，并且将混合物进行分散处理2小时。下一步，将250份的乙酸乙酯添加至所得物从而制备电荷产生层用涂布液。

将电荷产生层用涂布液通过浸渍涂布施涂至底涂层上从而形成涂膜，并且将所得涂膜在95℃下干燥10分钟从而形成具有厚度为0.15μm的电荷产生层。

下一步，将8份的由以下式(12-1)表示的化合物(空穴输送物质)和10份的具有由以下式(16)表示的结构单元并且具有重均分子量(Mw)为100,000的聚芳酯溶解在40份的二甲氧基甲烷和60份的氯苯的混合溶剂中从而制备空穴输送层用涂布液。

将空穴输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷产生层上从而形成涂膜，并且将所得涂膜在120℃下干燥40分钟从而形成具有厚度为15μm的空穴输送层。

由此，制备在支承体上包括导电层、底涂层、电荷产生层和空穴输送层的电子照相感光构件。

将由此生产的电子照相感光构件在具有温度为23℃和湿度为50％RH的环境下安装至激光束打印机(商品名：LBP-2510，Canon Inc.制造)的改造机(一次充电：辊接触DC充电，处理速度：120mm/sec，激光曝光)。然后，评价初始表面电位和在输出15,000张图像之后的表面电位以及输出的图像。以下描述关于前述的细节。

(表面电位的测量)

将用于激光束打印机的青色用的处理盒改造并且将电位探针(model6000B-8：TREK JAPAN制造)安装在显影位置处。然后，将在电子照相感光构件的中央部处的电位使用表面电位计(model 344：TREK JAPAN制造)来测量。在测量感光鼓的表面电位期间，将图像曝光的光量设定为初始暗区电位(Vd)变为-600V并且初始亮区电位(Vl)变为-150V。

接着，将在各实施例中生产的电子照相感光构件安装至用于激光束打印机的青色用的处理盒上，并且将处理盒安装至青色处理盒站，接着输出图像。首先，将一张实白图像、五张重影评价用图像、一张实黑图像、和五张重影评价用图像依次连续地输出。

各重影评价用图像通过以下来获得：如图9中所示，在图像的前端的白色图像(21)中，输出四边形实心图像(22)；然后产生图10中所示的“单点桂马跳跃图案的半色调图像”。应该注意的是，在图9中的重影部(23)是其中由实心图像(22)导致的重影(24)会出现的部分。

通过测量单点桂马跳跃图案的半色调图像的图像浓度与重影部的图像浓度之间的差来进行正重影的评价。将浓度差使用分光浓度计(商品名：X-Rite 504/508，X-Rite制造)在一个重影评价用图像的十个部位处测量。对全部十张重影评价用图像进行该操作，并且计算总计100个测量值的平均值。结果在表22中示出。随着浓度差(Macbeth浓度差)扩大，正重影更牢固地发生。浓度差(Macbeth浓度差)降低的事实意味着抑制了正重影。

(实施例73)

除了将2份的示例化合物(E101)和2份的示例化合物(E106)用作由式(11)表示的化合物以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(实施例74至121)

除了将由式(11)表示的化合物、交联剂和树脂的种类和质量份数如表22中所示改变以外，以与实施例72相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(实施例122至125)

除了：将由式(11)表示的化合物如表22中所示改变；使用由式(17)表示的丙烯酸类交联剂(A-TMPT，Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)来代替异氰酸酯化合物而不使用树脂；并且使用偶氮二异丁腈(AIBN)来代替用作催化剂的月桂酸二辛基锡以外，以与实施例72相同的方式来各自制备底涂层用涂布液。然后，除了形成该底涂层用涂布液的涂膜，并且将该涂膜在氮气流下加热以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(实施例126)

除了将由式(12-1)表示的化合物改变为由式(12-4)表示的化合物以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(实施例127)

除了将由式(12-1)表示的胺化合物改变为由式(12-2)表示的化合物以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(实施例128)

除了将支承体通过将铝制圆筒在以下条件下进行液体珩磨处理而不形成导电层来获得以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件。

结果在表22中示出。

<液体珩磨条件>

研磨剂颗粒＝各自具有粒径为70μm至125μm的氧化锆珠(商品名：Zirblast B120，Materials Science,Inc.制造)

悬浮介质＝水

研磨剂/悬浮介质＝1/9(体积比)

将珩磨之后的圆筒的表面粗糙度根据JIS B 0601(1994)通过使用表面粗糙度测量仪器(Surfcorder SE3500，Kosaka Laboratory Ltd.制造)来测量。结果，最大高度(RmaxD)是2.09μm，十点平均粗糙度(Rz)是1.48μm，并且算术平均粗糙度(Ra)是0.21μm。

(实施例129至134)

除了将实施例72、76、78、87、90或95的空穴输送层的厚度从15μm改变为20μm以外，以与实施例72、76、78、87、90或95相同的方式来各自生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(比较例11)

除了使用下述底涂层用涂布液以外，以与实施例1相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。通过使用4质量份的公开于日本专利申请特开No.2010-145506中的以下化合物(18)、4.8质量份的聚碳酸酯Z-型树脂(IupilonZ400，Z-型聚碳酸酯，Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.制造)、100质量份的二甲基乙酰胺、和100质量份的四氢呋喃来制备底涂层用涂布液。结果在表22中示出。

(比较例12)

除了使用记载于比较例11中的化合物(18)来代替由式(11)表示的化合物以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

(比较例13)

除了使用以下底涂层用涂布液以外，以与实施例72相同的方式来生产电子照相感光构件；并且将电子照相感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

将10份的由式(19)表示的化合物和5份的酚醛树脂(PL-4804，Gun Ei ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造)溶解在200份的二甲基甲酰胺和150份的苯甲醇的混合溶剂中从而制备底涂层用涂布液。

(比较例14)

除了使用公开于日本专利申请特开No.2003-330209中的化合物(20)来代替由式(11)表示的化合物以外，以与实施例122相同的方式来生产感光构件；并且将感光构件类似地评价重影。结果在表22中示出。

在表22中，交联剂1是异氰酸酯系交联剂(商品名：DESMODUR BL3575，SumikaBayer制造(固含量：75％))，交联剂2是异氰酸酯系交联剂(商品名：DESMODUR BL3175，Sumika Bayer制造(固含量：75％))，交联剂3是丁基化蜜胺系交联剂(商品名：SUPERBECKAMINE J821-60，DIC Corporation制造(固含量：60％))，交联剂4是丁基化尿素系交联剂(商品名：BECKAMINE P138，DIC Corporation制造(固含量：60％))，并且交联剂5是丙烯酸交联剂(A-TMPT：Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)。

在表22中，树脂1(具有可聚合官能团的树脂)是聚乙烯醇缩乙醛树脂，其具有每1g的羟基摩尔数为3.3mmol和分子量为1×10⁵；树脂2是聚乙烯醇缩乙醛树脂，其具有每1g的羟基摩尔数为3.3mmol和分子量为2×10⁴；并且树脂3是聚乙烯醇缩乙醛树脂，其具有每1g的羟基摩尔数为2.5mmol和分子量为3.4×10⁵。

如上所述，从实施例72至134和比较例11至14的结果理解的是，正重影能够通过使用包括本发明的底涂层的电子照相感光构件被抑制。

虽然参考示例性实施方案已经描述了本发明，但要理解的是本发明不限于公开的示例性实施方案。权利要求的范围符合最广泛的解释从而涵盖全部这样的修改和等同的结构和功能。