阅读说明：本技术 用于射频烤箱的射频阻流器和界面结构 (Radio frequency flow plug and interfacial structure for radio frequency oven ) 是由 马尔科·卡卡诺 米歇尔·斯克洛奇 米歇尔·金蒂莱 于 2017-11-07 设计创作，主要内容包括：一种用于烤箱的RF阻流器,该烤箱具有可在打开位置和关闭位置之间移动以与限定在烤箱的烹饪室(102)中的开口对接的门(104),该RF阻流器包括基部(410)和成排形成的多个谐振元件(420)。烹饪室(102)至少部分地由顶壁(305)、底壁(310)、第一侧壁和第二侧壁(315,320)限定。当门(104)处于关闭位置时,RF阻流器(140)设置在门(104)面向烹饪室(102)的部分处。基部(410)是金属板,并且设置在基本上平行于门(104)所处的第二平面的第一平面中。谐振元件(420)朝向门(104)从第一平面向外折叠,以限定顶排谐振元件(420)、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件,这些谐振元件(420)在当门处于关闭位置时靠近烹饪室的顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁中的相应的那些。至少一排相对于第一平面以与其它排不同的角度折叠出第一平面。(A kind of RF flow plug for oven, for the oven with that can move between open and closed positions with the door (104) with the open butt joint in the cooking chamber (102) for being limited to oven, which includes base portion (410) and the multiple resonant elements (420) in a row formed.Cooking chamber (102) is at least partly limited by roof (305), bottom wall (310), the first side wall and second sidewall (315,320).When door (104) is in the closed position, RF flow plug (140) is arranged at the part of door (104) towards cooking chamber (102).Base portion (410) is metal plate, and is arranged in the first plane for being arranged essentially parallel to the second plane locating for door (104).Resonant element (420) is foldable outwardly towards door (104) from the first plane, to limit top row resonant element (420), bottom row's resonant element, the first side row's resonant element and second side row's resonant element, these resonant elements (420) are those of corresponding in the roof of cooking chamber, bottom wall, the first side wall and second sidewall when the door is in the closed position.An at least row folds out the first plane relative to the first plane with the angle different from other rows.)

用于射频烤箱的射频阻流器和界面结构

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年11月30日提交的美国申请号62/428,120和于2017年11月6日提交的美国申请号15/803,882的优先权，其全部内容通过引用整体并入本文。

技术领域

示例性实施例一般涉及烤箱，更具体地，涉及使用射频(RF)加热连同对流加热的烤箱以及与之一起使用的RF阻流器。

背景技术

能够使用多于一个的热源(例如对流、蒸汽、微波等)进行烹饪的组合烤箱已经使用了几十年。每个烹饪源具有其自己独特的特征组。因此，组合烤箱通常可以利用每个不同烹饪源的优点来试图提供在时间和/或质量方面得到改进的烹饪过程。

在一些情况下，微波烹饪可以比对流或其它类型的烹饪更快。因此，可以采用微波烹饪来加速烹饪过程。然而，微波通常不能用于烹制一些食品，也不能烹制褐色食品。考虑到褐变可能增加与味道和外观有关的某些所需特性，可能需要使用除微波烹饪之外的另一种烹饪方法以实现褐变。在一些情况下，出于褐变的目的施加热量可以包括使用在烤箱腔内提供的加热气流来将热量传递到食品的表面。

然而，即使采用微波和气流的组合，传统微波烹饪相对于食品渗透的限制仍可能使组合不够理想。此外，典型的微波在对食品施加能量的方式上有些无差别或不可控制。因此，可能希望对操作者获得优异烹饪结果的能力提供进一步的改进。然而，提供相对于烹饪食物具有可控制的RF能量和对流能量的组合的能力改进的烤箱可能需要基本上重新设计或重新考虑烤箱的结构和操作。

发明内容

因此，一些示例性实施例可以提供用于向烤箱中的食品施加热量的改进的结构和/或系统。此外，这种改进可能需要用于支撑或操作这种结构或系统的新装置。

在示例性实施例中，提供了一种烤箱。烤箱可包括可在打开位置和关闭位置之间移动的门、配置成接收食品的烹饪室、配置成向食品施加RF能量的RF能量源，以及当门处于关闭位置时设置在门面对烹饪室的部分处的RF阻流器。烹饪室可以至少部分地由顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁限定，烹饪室进一步限定与门对接的开口。RF阻流器可包括由金属片制成的基部和多个谐振元件。基部可以设置在基本上平行于门所处的第二平面的第一平面中。谐振元件可以朝向门折叠出第一平面。谐振元件可以成排形成以限定顶排谐振元件、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件，这些谐振元件在当门处于关闭位置时靠近烹饪室的顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁中的相应的那些。至少一排可以相对于第一平面以与其它排不同的角度折叠出第一平面。

在示例性实施例中，提供了一种用于烤箱的RF阻流器，该烤箱具有可在打开位置和关闭位置之间移动的门，以与限定在烤箱的烹饪室中的开口相接。RF阻流器可包括基部和成排形成的多个谐振元件。烹饪室可以至少部分地由顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁限定。当门处于关闭位置时，RF阻流器可设置在门面向烹饪室的部分处。基部可以是具有***边缘的金属片。基部可以设置在基本上平行于门所处的第二平面的第一平面中。谐振元件可以朝向门从第一平面折叠出，以限定顶排谐振元件、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件，这些元件在当门处于关闭位置时靠近烹饪室的顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁中的相应的那些。至少一排可以相对于第一平面以与其它排不同的角度折叠出第一平面。

当使用采用示例性实施例的烤箱烹饪时，一些示例性实施例可以改善烹饪性能或操作者体验。

附图说明

已经如此概括地描述了本发明，现在将参考附图，附图不必按比例绘制，并且其中：

图1示出了根据示例性实施例的能够采用至少两个能量源的烤箱的透视图；

图2示出了根据示例性实施例的图1的烤箱的功能框图；

图3A示出了根据示例性实施例的门被移除的烤箱的烹饪室的正视图；

图3B示出了根据示例性实施例的从后部透视图向前看的烹饪室的横截面视图；

图3C示出了根据示例性实施例的烹饪室的顶角部分的更近的视图；

图3D示出了根据示例性实施例的烹饪室的底角部分的更近的视图；

图4A示出了根据示例性实施例的处于打开位置的门和设置在门上的RF阻流器的侧视图；

图4B示出了根据示例性实施例的从烤箱的同一侧截取的横截面侧视图，以示出门和与处于关闭位置的RF阻流器的界面；

图5A示出了根据示例性实施例的可以被切割成预折叠阻流器组件的片材的顶视图；以及

图5B示出了根据示例性实施例的在切割和折叠之后的阻流器的顶视图。

具体实施方式

现在将在下文中参考附图更全面地描述一些示例性实施例，其中示出了一些但不是所有的示例性实施例。实际上，本文描述和图示的实施例不应被解释为限制本公开的范围，适用性或配置。相反，提供这些示例性实施例以便本公开将满足适用的法律要求。相同的附图标记始终表示相同的元件。此外，如本文所使用，术语“或”应被解释为每当其操作数中的一者或一者以上为真时产生真的逻辑运算符。如本文所使用，可操作耦接应当被理解为涉及直接或间接连接，在任一情况下，所述直接或间接连接能够实现可操作地彼此耦接的组件的功能性互连。

一些示例性实施例可以改进烤箱的烹饪性能和/或可以改进采用示例性实施例的个人的操作者体验。就此而言，基于可控制的RF能量的应用，烤箱可以相对快速地烹饪食物，并且还能够通过用如本文所述的对流系统向烤箱中提供热空气来使食物褐变。然而，为了提高使用RF能量的烹饪速度，防止RF泄漏成为重要的考虑因素。同时，烤箱的清洁性也是提供优质产品的关键部件。因此，一些示例性实施例可以提供改进的阻流器设计和界面结构，以实现在烤箱的烹饪室内保持RF能量的目的，同时还允许改善门和烹饪室之间的界面。

图1示出了根据示例性实施例的烤箱1的透视图。如图1所示，烤箱100可以包括烹饪室102，食品可以放置在烹饪室102中，用于由烤箱100可以使用的至少两个能量源中的任一个施加热量。烹饪室102可以包括门104和界面板106，当门104关闭时，界面板106可以位于门104附近。门104可通过把手105操作，把手105可平行于支撑烤箱的表面而延伸穿过烤箱100的前部。在一些情况下，在替代实施例中，界面板106可以基本上位于门104上方(如图1所示)或在门104旁边。在示例性实施例中，界面板106可以包括触摸屏显示器，其能够向操作者提供视觉指示并且还能够接收来自操作者的触摸输入。界面板106可以是向操作者提供指令的机构，也是向操作者提供关于烹饪过程状态、选项等的反馈的机构。门104可以经由铰链组件107在打开位置(图1中示出)和关闭位置之间旋转。

在一些实施例中，烤箱100可以包括多个支架或可以包括支架(或平底锅)支撑件108或引导槽以便于容纳有待烹饪的食品的一个或多个支架110或平底锅的***。在示例性实施例中，空气输送孔口112可以被定位成靠近这些支架支撑件108(例如，在一个实施例中刚好在这些支架支撑件的水平之下)，以使得热空气能够经由热空气循环风扇(图1中未示出)被迫进入烹饪室102中。热空气循环风扇可经由设置在烹饪室102的后壁(即，与门104相对的壁)处的室出口端口120从烹饪室102吸入空气。空气可以从室出口端口120经由空气输送孔口112循环回到烹饪室102中。在经由室出口端口120从烹饪室102移除之后，在清洁的、热的和速度受控的空气返回到烹饪室102中之前，空气可以被其他部件清洁、加热并且推动通过系统。包括室出口端口120、空气输送孔口112、热空气循环风扇、清洁部件以及它们之间的所有管道的该空气循环系统可以在烤箱100内形成第一空气循环系统。

在示例性实施例中，可以至少部分地使用射频(RF)能量来加热放置在平底锅或支架110之一上(或者在不使用支架110的实施例中仅仅是烹饪室102的基部上)的食品。同时，可提供的气流可被加热以实现进一步加热或甚至褐变。注意，金属盘可以放置在一些示例性实施例的支架支撑件108或支架110中的一个上。然而，烤箱100可以被配置为采用频率和/或缓解策略来检测和/或防止可能另外通过将RF能量与金属部件一起使用而产生的任何电弧。

在示例性实施例中，RF能量可以经由布置在烹饪室102附近的天线组件130传递到烹饪室102。在一些实施例中，可以在天线组件130中提供多个部件，并且这些部件可以放置在烹饪室102的相对侧上。天线组件130可以包括被配置为将RF能量耦接到烹饪室102中的功率放大器、发射器、波导和/或类似物的一个或多个实例。

烹饪室102可以配置为在其五侧(例如，顶侧、底侧、后侧以及右侧和左侧)上提供RF屏蔽，但门104可包括阻流器140以为前侧提供RF屏蔽。阻流器140因此可以被配置为与在烹饪室102的前侧处限定的开口紧密配合，以防止当门104关闭并且RF能量经由天线组件130被施加到烹饪室102中时RF能量从烹饪室102泄漏。

在示例性实施例中，可以提供垫圈142以围绕阻流器140的周边延伸。就此而言，垫圈142可以由诸如金属丝网、橡胶、硅之类的材料形成，或者可以在门104和进入烹饪室102的开口的周边之间有些可压缩的其它这样的材料形成。在一些情况下，垫圈142可以提供基本上气密的密封。然而，在其他情况下(例如，在使用金属丝网的情况下)，垫圈142可以允许空气从中穿过。特别是在垫圈142基本上气密的情况下，可能希望提供与上述第一空气循环系统相关的空气净化系统。

天线组件130可以配置为使用固态组件产生进入烹饪室102中的可控RF发射。因此，烤箱100可以不使用任何磁控管，而是仅使用固态部件来产生和控制施加到烹饪室102中的RF能量。固态部件的使用可以在允许RF能量的特性(例如，功率/能级、相位和频率)被控制到比使用磁控管可能的程度更大的程度方面提供明显的优点。然而，由于烹饪食物需要相对高的功率，固态成分本身也将产生相对高的热量，为了保持固态成分冷却并避免对其的损坏，必须有效地移除该热量。为了冷却固态部件，烤箱100可以包括第二空气循环系统。

第二空气循环系统可以在烤箱100的烤箱体150内操作以循环冷却空气，用于防止为烹饪室102供电并控制RF能量施加的固态部件过热。第二空气循环系统可以包括形成在烤箱体150的底部(或底座)部分的入口阵列152。具体地，烤箱体150的底座区域可以是布置在烹饪室102下方的烤箱体150内的基本上中空的腔。入口阵列152可以包括多个入口端口，这些入口端口被布置在靠近底座的烤箱体150的每个相对侧上(例如，当从前方观察烤箱100时的右侧和左侧)，并且还被布置在靠近底座的烤箱体150的前部上。入口阵列152的设置在烤箱体150侧面上的部分可以相对于每个相应侧面上的烤箱体150的大部分以一定角度形成。就此而言，入口阵列152的设置在烤箱体150的侧面上的部分可以以大约20度(例如，在10度和30度之间)的角度朝向彼此渐缩。这种渐缩可确保即使当烤箱100被***到尺寸精确地足够宽以容纳烤箱体150的空间中时(例如，由于壁或其它设备靠近烤箱体150的侧面)，也在底座附近形成空间以允许空气进入入口阵列152。在靠近底座的烤箱体150的前部，当门104关闭时，入口阵列152的相应部分可以位于与烤箱100的前部相同的平面中(或至少位于与烤箱100的前部平行的平面中)。不需要这样的渐缩来提供空气进入烤箱体150前部的入口阵列152的通道，因为该区域必须保持畅通以允许门104打开。

管道可以从底座为通过入口阵列152进入底座的空气提供路径，以通过烤箱体150向上(在来自冷空气循环风扇的影响下)移动到控制电子器件(例如固态部件)位于其中的顶格部分。顶格部分可以包括各种结构，用于确保从地下室到顶格并最终经由出口散热孔154离开烤箱体150的空气在控制电子器件附近通过，以从控制电子器件移除热量。然后，热空气(即，已经从控制电子器件移除热量的空气)从出口散热孔154排出。在一些实施例中，出口散热孔154可以设置在烤箱体150的右侧和左侧以及靠近顶格的烤箱体150的后部。将入口阵列152放置在底座处并且将出口散热孔154放置在顶格处确保了较热空气上升的正常趋势将防止排出的空气(从出口散热孔154)通过被吸入入口阵列152而通过系统回流。照此，吸入到入口阵列152中的空气可以可靠地预期为在环境室温下的空气，而不是再循环的、排出的冷却空气。

图2示出了根据示例性实施例的烤箱100的功能框图。如图2所示，烤箱100可以包括至少第一能量源200和第二能量源210。第一能量源200和第二能量源210可以各自对应于各自不同的烹饪方法。在一些实施例中，第一能量源200和第二能量源210可以分别是RF加热源和对流加热源。然而，应当理解，在一些实施例中还可以提供附加的或替代的能量源。此外，一些示例性实施例可以在仅包括单个能量源(例如，第二能量源210)的烤箱的上下文中实践。照此，示例性实施例可以在使用例如用于加热的气体或电力施加热量的其他常规烤箱上实践。

如上所述，第一能量源200可以是RF能量源(或RF加热源)，其被配置为产生相对广谱的RF能量或特定的窄带相控能量源以烹饪放置在烤箱100的烹饪室102中的食品。因此，例如，第一能量源200可以包括天线组件130和RF发生器204。一个示例性实施例的RF发生器204可以被配置为以所选择的水平并且以所选择的频率和相位来产生RF能量。在一些情况下，可以在大约6MHz到246GHz的范围内选择频率。然而，在一些情况下可以采用其它RF能量带。在一些实例中，可从ISM频带中选择频率以供RF产生器204应用。

在一些情况下，天线组件130可以被配置为将RF能量发射到烹饪室102中并且接收反馈以指示食品中各个不同频率的吸收水平。然后可以使用吸收水平来控制RF能量的产生，以提供食品的平衡烹饪。然而，在所有实施例中不必采用指示吸收水平的反馈。例如，一些实施例可以采用用于基于针对所选择的烹饪时间、功率水平、食物类型、食谱和/或类似物的特定组合而识别的预定策略来选择频率和相位的算法。在一些实施例中，天线组件130可以包括提供天线组件130和烹饪室102之间的界面的多个天线、波导、发射器和RF透明覆盖物。因此，例如，可以提供四个波导，并且在一些情况下，每个波导可以接收由在控制电子器件220的控制下操作的RF发生器204的其自己的相应功率模块或功率放大器产生的RF能量。在可选实施例中，可以采用单个多路复用发生器来将不同的能量输送到每个波管道或波管道对中，以将能量提供到烹饪室102中。

在一个示例性实施方案中，第二能量源210可以是能够诱导食品褐变和/或对流加热的能量源。因此，例如，第二能量源210可以是包括气流发生器212和空气加热器214的对流加热系统。气流发生器212可以实施为或包括热空气循环风扇或能够驱动气流通过烹饪室102(例如，经由空气输送孔口112)的另一装置。空气加热器214可以是电加热元件或其它类型的加热器，其加热由气流发生器212朝向食品驱动的空气。空气的温度和气流速度都将影响使用第二能量源210，以及更具体地使用第一能量源200和第二能量源210的组合实现的烹饪时间。

在示例性实施例中，第一能量源200和第二能量源210可以直接或间接地由控制电子器件220控制。控制电子器件220可以被配置为接收描述所选择的食谱、食品和/或烹饪条件的输入，以便向第一能量源200和第二能量源210提供指令或控制来控制烹饪过程。在一些实施例中，控制电子器件220可以被配置为接收关于食品和/或烹饪条件的静态和/或动态输入。动态输入可以包括关于施加到烹饪室102的RF能量的相位和频率的反馈数据。在一些情况下，动态输入可以包括在烹饪过程期间由操作者进行的调节。静态输入可以包括由操作者作为初始条件输入的参数。例如，静态输入可以包括食物类型、初始状态或温度、最终期望状态或温度、待烹饪部分的数量和/或尺寸、待烹饪物品的位置(例如，当采用多个托盘或水平面时)、食谱的选择(例如，限定一系列烹饪步骤)和/或类似物的描述。

在一些实施例中，控制电子器件220可以被配置为还向气流发生器212和/或空气加热器214提供指令或控制以控制通过烹饪室102的气流。然而，不是简单地依赖于气流发生器212的控制来影响烹饪室102中的气流特性，一些示例性实施例还可以使用第一能量源200来施加用于烹饪食品的能量，从而由控制电子器件220来管理由每个源施加的能量的量的平衡或管理。

在示例性实施例中，控制电子器件220可以被配置为访问算法和/或数据表，这些算法和/或数据表定义了RF烹饪参数，这些RF烹饪参数用于驱动RF发生器204来基于描述食品的初始条件信息和/或基于定义烹饪步骤序列的食谱针对由这些算法或数据表确定的对应时间以对应水平、相位和/或频率产生RF能量。照此，控制电子器件220可以被配置为使用RF烹饪作为用于烹饪食品的主要能量源，而对流加热应用是用于褐变和更快烹饪的次要能量源。然而，在烹饪过程中也可以使用其它能量源(例如，第三或其它能量源)。

在一些情况下，可以提供烹饪签名、程序或食谱来定义可以为食品定义的多个潜在烹饪阶段或步骤中的每个所采用的烹饪参数，并且控制电子器件220可以被配置为访问和/或执行烹饪签名、程序或食谱(所有这些通常在本文可以被称为食谱)。在一些实施例中，控制电子器件220可以被配置为基于除了提供动态输入(即，当程序已经被执行时改变烹饪参数)的程度之外的由用户提供的输入来确定执行哪个食谱。在示例性实施例中，控制电子器件220的输入还可以包括褐变指令。就此而言，例如，褐变指令可以包括关于设定的空气速度和温度组合的空气速度、空气温度和/或施加时间(例如，对于某些速度和加热组合的开始和停止时间)的指令。褐变指令可以经由操作者可访问的用户界面提供，或者可以是烹饪标记、程序或食谱的一部分。

如上所述，第一能量源200可为RF能量源，其经配置以将选定RF频率(例如，在ISM频带中)产生到烹饪室102中。可以提供阻流器140以在门104关闭的情况下在烤箱100的操作期间密封烹饪室102中的RF频率。阻流器140因此在烹饪室102和门104之间的界面处操作。该界面是进入烹饪室102前部的相对大的开口。

提供阻流器140以通过提供基本上是调谐反射器组件以将RF能量保持在烹饪室102中而在界面处密封RF能量。阻流器140是基于提供四分之一波谐振电路而构造的。更具体地，阻流器140采用1/4波长(λ)谐振元件，该谐振元件具有围绕阻流器140的周边基本上均匀的宽度。通常，提供这些类型的1/4波长谐振元件是相对常规的。然而，由于烹饪室102的形状的性质，以及门105的尺寸和重量，示例性实施例可以采用独特结构的阻流器140设计。此外，因为阻流器140具有独特的结构设计，所以制造阻流器140的方法也可以是独特的。

在描述阻流器140的具体结构之前，将讨论烹饪室102的总体形状和界面的独特方面，以更好地理解包括以上参照图3所述的独特结构设计方面的潜在期望，图3由图3A、3B、3C和3D限定。就此而言，图3A示出了移除了门104的烹饪室102的前视图，图3B示出了从后透视图向前看的烹饪室102的横截面视图。图3C示出了烹饪室102的顶角部分的更近的视图，该部分在图3B中标记为圆B。图3D示出烹饪室102的底角部分的更近视图，该部分在图3B中标记为圆C。

主要参照图3A、3B、3C和3D，烹饪室102由五个固定壁和门104(在图1中示出，但在图3中未示出)限定。五个固定壁包括后壁300、顶壁305、底壁310、第一侧壁315和第二侧壁320。当通过门104打开时形成的开口观察烹饪室102时，第一侧壁315和第二侧壁320是相对的侧壁并且可以分别被认为是右侧壁和左侧壁。后壁300包括入口空气穿孔330和出口空气穿孔335，作为第一空气循环系统的一部分，空气通过所述入口空气穿孔330和出口空气穿孔335(并且RF能量不能通过)。后壁300、顶壁305、底壁310以及第一侧壁315和第二侧壁320各自在形状上基本上是平面的(例如，形成基本上矩形的平面表面)，并且每个壁的平面表面终止于在相应的交叉点处接合到相邻的壁的线性布置的端部处。

如图3所示，顶壁305和第一侧壁315之间的交叉点形成基本上90度的交叉点。换句话说，不仅顶壁305基本上垂直于第一侧壁315延伸，而且顶壁305和第一侧壁315之间的交叉点也基本上沿其整个长度形成直角。类似地，顶壁305和第二侧壁320之间的交叉点形成大致90度的交叉点。换句话说，不仅顶壁305基本上垂直于第二侧壁320延伸，而且顶壁305和第二侧壁320之间的交叉点也基本上沿其整个长度形成直角。顶壁305和后壁300之间的交叉点也是类似的。

然而，底壁310与第一侧壁315和第二侧壁320(以及由此形成的相应拐角)之间的交叉点是不同的。就此而言，尽管底壁310基本上垂直于第一侧壁315延伸，但是底壁310和第一侧壁315之间的交叉点并不沿其整个长度形成直角。相反，底壁310和第一侧壁315之间的交叉点部分沿其整个长度弯曲。类似地，尽管底壁310基本上垂直于第二侧壁320延伸，但是底壁310和第二侧壁320之间的交叉点并不沿其整个长度形成直角。相反，底壁310和第二侧壁320之间的交叉点部分也沿其整个长度弯曲。底壁310与第一侧壁315和第二侧壁320之间的相应界面的曲线关于将烹饪室102划分在相应拐角中间的中心线基本对称。除了在第一侧壁315和第二侧壁320与底壁310交叉点的区域之外，后壁300与第一侧壁315和第二侧壁320中的每个以及底壁310之间的交叉点基本上是直角交叉点。

具体参考图3C和3D，第一侧壁315和顶壁305之间的交叉点可以形成直角拐角350。如上所述，第二侧壁320也可以在与图3C的直角拐角350类似结构的界面处与顶壁305相遇。同时，第一侧壁315和底壁310之间的交叉点可以形成弯曲拐角355。弯曲拐角355可提供基本上比在该位置(即，在烹饪室102的底部)的直角拐角更容易清洁的表面。就此而言，例如，如果弯曲拐角355改为直角拐角，则由烹饪过程或在将食品***烹饪室102中之后产生的溢出物或飞溅物会留下非常难以(有时不可能)清洁的材料。此外，在溢出物或飞溅物暴露于高热之后，材料可能变得难以移除，进一步加剧上述问题，并导致材料随时间累积。通过提供弯曲拐角355、通过施加清洁剂、施加清洁力和/或通过使用否则难以施加到直角拐角的工具，可以更容易地清洁与其相关联的表面。同时，对于烹饪室102顶部附近的拐角，飞溅物或飞溅物到达这些表面的可能性小得多，因此是直角拐角(以及设计和建造烹饪室102的简单性)。特别地，在示例性实施例中，底壁310以及第一侧壁315和第二侧壁320两者可以由单片材料(例如，金属)制成。因此，单片可被弯曲以形成底壁310与第一侧壁315和第二侧壁320中的每个之间的弯曲拐角355的实例。然后，顶壁310和后壁300可以固定到形成底壁310以及第一侧壁315和第二侧壁320的单片材料上，顶壁310和后壁300中的每个可以是单独的平面金属片。此外，在一些情况下，后壁300和顶壁305可以是在它们的交叉点处以直角弯曲的单片。因此，在一些情况下，烹饪室102可以由少至两片材料或多至三片材料形成。

假定烹饪室102在与门104的界面处具有特定形状(例如，两个圆形底角和两个直角顶角)，阻流器140也必须具有相应的形状。此外，要求门104在打开位置和关闭位置之间旋转，同时根据界面的特定形状将阻流器140置于适当位置以适当地起作用，这对阻流器140造成了进一步的设计限制，并且可能影响制造阻流器140的最有效和/或有利的方式。

图4A示出了处于打开位置的门104的侧视图，图4B示出了从烤箱100的同一侧截取的横截面侧视图，以示出门104处于关闭位置。从图4A可以理解，当把手105被提升时，门104可以沿箭头400所示的方向旋转。当门104旋转到与烹饪室102开口的界面接触时，阻流器140将需要***开口中。

参照图4A和4B，可以看出阻流器140通常包括基部410和多个谐振元件420，该谐振元件420从基部410延伸出，并且围绕基部410的周边设置。基部410的形状基本上类似于烹饪室102中的开口的形状，并且利用安装结构415安装到门104的内侧部分上。安装结构415在门104处于关闭位置时沿向内方向延伸，或者在门104处于打开位置时沿向上方向延伸。基部410可以由具有足以赋予基部410强度和耐久性的厚度的金属板形成。就此而言，当门104处于打开位置时，平底锅或容器可以常规地设置在基部410上(或落在基部410上)。因此，基部410的厚度应当足以处理冲击并避免对基部410的任何刺穿损坏或过度的凹痕或损坏。

如图4B所示，当门104处于关闭位置时，基部410可以完全***烹饪室102中。同时，谐振元件420朝向门104向后延伸，并终止于与烹饪室102的开口大致在平面内(或附近)的点处。换句话说，连接顶壁305、底壁310以及第一侧壁315和第二侧壁320的前端的平面可以关注谐振元件420的远端。谐振元件420可以围绕基部410的所有***边缘朝向门410向后延伸，使得基部410最终以基本上等于谐振元件420的长度的距离***烹饪室100中。

从图4B可以理解，门104从图4A的打开位置沿箭头400的方向(也在图4A中示出)的旋转可以导致阻气门140的顶部440撞击或冲击烹饪室102的顶部边缘450。因此，为了确保在门104关闭期间阻流器140的顶部440不接触烹饪室102的顶部边缘450。沿着阻流器140顶部的谐振元件420(术语“顶部”指的是当门104关闭时的位置)随着它们向内前进而向下逐渐变细(再次参考当门104关闭时)。换句话说，基部410与第一侧壁315和第二侧壁320以及底壁310基本等距。然而，基部410与顶壁305的间隔比与第一侧壁315和第二侧壁320以及底壁310的间隔更远。此外，谐振元件420在阻流器140的靠近第一侧壁315和第二侧壁320以及底壁310的部分处基本上垂直于基部410。因此，谐振元件420基本上平行于第一侧壁315和第二侧壁320以及底壁310中的相应侧壁。然而，谐振元件420相对于顶壁305形成角度，并且既不垂直于基部410也不平行于顶壁305。此外，由于烹饪室102开口处的界面的形状，阻流器140将需要具有两个圆角和两个大致直角的拐角。因此，上述关系在存在圆角的区域中可以稍微不同。

阻流器140的制造因此也可能需要小心地实现与制造圆角和一组锥形谐振元件相关的必要的形状变化。图5A示出了根据示例性实施例的可被切割成预折叠阻流器组件的片材的顶视图。图5B示出了在切割和折叠之后阻流器140的顶视图。

如图5A所示，可以提供具有长度L1和宽度W1的金属板500。金属片500可在沿长度L1延伸的相对侧上沿金属片500的周边切割包括多个槽510。槽510通常可以被切割以最终将谐振元件420限定为具有相同的宽度，并且具有在烤箱100的操作频率下形成四分之一波长谐振电路所需的长度特性。槽510的切割将谐振元件420形成为远离基部410延伸的相对薄的突部或突出部(例如，指状物)。因此，谐振元件420形成对地具有低阻抗的谐振短路，使得阻流器140形成有效的反射器以将RF泄漏信号保持在烹饪室102内。槽510在一些区域中可以具有稍微不同的宽度，以产生一组更靠近其相邻谐振元件的一个、两个或三个预折叠谐振元件515，而其它的稍微远离其相邻谐振元件。或者，所有槽510可以具有相同的尺寸。槽510可以在金属板500的长边上直接在金属板500的周边切割。然而，在一些情况下，槽510可以不在较短的侧面(例如，具有宽度W1的侧面)上切割，直到移除区段520已经(经由一个或多个槽)从金属板500切掉。移除部分520可能需要被移除以便允许形成圆角530和锥形谐振元件535。就此而言，圆角530可以形成为对应于烹饪室102的弯曲拐角355，并且锥形谐振元件535可以形成为阻流器140的顶部440，以位于烹饪室102的顶壁305附近。

移除部分520可以通过移除金属片500的相对端的一部分来移除(至少部分地)，以将金属片500的所有部分的长度缩短到第二长度L2，除了尾端件540。尾端件540可以各自位于金属片500的同一侧上，并且将金属片500的长度保持为金属片500的相应长边缘处的长度L1。尾端件540可以具有第二宽度W2，该第二宽度W2由远离基部410延伸的谐振元件420的长度(在折叠之后)确定。移除部分520可以包括靠近被移除的尾端件540的至少一些预折叠谐振元件515。移除部分520还可以由曲线切口限定，以形成靠近尾端件540的圆角530。移除部分520的与尾端件540相对的一侧可以被切割以移除预折叠谐振元件515的一些部分，从而限定锥形引导件550。锥形引导件550限定倾斜边缘，一排锥形谐振元件535可以折叠到该倾斜边缘以限定锥形谐振元件535的锥角。

从图5A可以理解，在移除部分520被移除并且所有槽510被移除之后，预折叠的谐振元件515可以被折叠(例如，沿着从预折叠的谐振元件515的远端向内布置由第二宽度W2限定的长度的线)。包括尾端件540的多排预折叠谐振元件515可以远离基部410折叠大约90度，以限定当门104关闭时将位于底壁310附近的底排谐振元件420。从移除部分520被移除之后保留的新边缘形成的多排预折叠谐振元件515可以从基部410折叠大约90度，以限定当门104关闭时将位于烹饪室102的第一侧壁315和第二侧壁320附近的侧行或谐振元件420。当通常已经形成侧排和底排时，尾端件540可以沿着圆角530折叠并且连接(例如，通过焊接)到基部410和侧排的边缘。最后，当折叠预折叠的谐振元件515时，使得相应的端部(如沿着第二长度L2测量的)位于锥形引导件550附近。接头可以沿着锥形引导件550形成(例如，通过焊接)以形成一排锥形谐振元件535。

在一些情况下，为了在折叠之后保持尾端件540的强度，尾端件540上的谐振元件中的至少一个(并且在该示例中为两个)可以在不完全切割到谐振元件的端部的槽的情况下形成。取而代之的是，如图5A所示，可以在尾端件540中(例如，靠近圆角530的顶点)切割远离基部410线性延伸(但不完全延伸到谐振元件的远端)的槽560。因此，与设置在除了尾端件540之外的位置处的谐振元件(每个谐振元件可以通过从基部410一直到谐振元件的远端线性地切割槽510而形成)不同，槽560允许沿着弯曲部分经受更多的物理强度而基本上不牺牲性能。槽560还可以防止谐振元件在围绕圆角530弯曲期间张开，以确保相对于弯曲拐角355的一致间隔。如果另外发生张开，则可能发生接触或刮擦，这可能损坏阻流器140和/或损坏弯曲拐角355。

在示例性实施例中，提供了一种用于烤箱的RF阻流器，该烤箱具有可在打开位置和关闭位置之间移动的门，以与限定在烤箱的烹饪室中的开口相接。RF阻流器可包括基部和成排形成的多个谐振元件。烹饪室可以至少部分地由顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁限定。当门处于关闭位置时，RF阻流器可设置在门面向烹饪室的部分处。基部可以是具有***边缘的金属片。基部可以设置在基本上平行于门所处的第二平面的第一平面中。谐振元件可以朝向门从第一平面折叠出，以限定顶排谐振元件、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件，这些谐振元件在当门处于关闭位置时靠近烹饪室的顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁中的相应的那些。至少一排可以相对于第一平面以与其它排不同的角度折叠出第一平面。

在一些实施例中，可以包括附加的可选特征，或者可以修改或增加上述特征。附加特征、修改或增补中的每个可以结合上述特征和/或彼此结合来实践。因此，在一些实施例中可以利用附加特征、修改或增补中的一些，全部或没有附加特征、修改或增补。例如，在一些情况下，基部可以具有与开口的形状基本匹配的形状。在这样的示例中，烹饪室的基部和顶壁之间的距离可以大于基部和底壁以及烹饪室的第一侧壁和第二侧壁中的每个之间的距离。在示例性实施例中，与底排谐振元件，第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件相比，顶排谐振元件可以相对于第一平面以不同的角度折叠出第一平面。在一些示例中，当门处于关闭位置时，在顶排谐振元件、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件中的每个中的谐振元件的远端可以与烹饪室的顶壁、底壁、第一侧壁和第二侧壁中的相应的那些基本上等距。在示例性实施例中，顶壁与第一侧壁和第二侧壁两者之间的交叉点形成直角，底壁与第一侧壁和第二侧壁两者之间的交叉点形成弯曲拐角。在一些情况下，基部可以限定基本上圆形的拐角，以对应于底排谐振元件与第一排谐振元件和第二侧谐振元件之间的交叉点处的弯曲拐角。在示例性实施例中，基部可以限定大致直角的拐角，以对应于顶壁与第一侧壁和第二侧壁之间的交叉点处的直角。在一些示例中，底排谐振元件的尾端件可以围绕基本上圆形的拐角折叠以对应于弯曲拐角。在这样的示例中，尾端件上的至少一个谐振元件可以经由远离基部线性延伸的槽形成，并且布置在尾端件之外的位置处的谐振元件可以经由远离基部线性切割的槽形成。在示例性实施例中，顶排谐振元件、底排谐振元件、第一侧排谐振元件和第二侧排谐振元件中的每个的谐振元件的远端位于开口的平面中。

受益于前述描述和相关附图中所呈现的教导，本发明所属领域的技术人员将想到本文所阐述的本发明的许多修改和其它实施例。因此，应当理解，本发明不限于所公开的特定实施例，并且修改和其它实施例旨在包括在所附权利要求的范围内。此外，尽管前部的描述和相关附图在元件和/或功能的某些示例性组合的上下文中描述了示例性实施例，但是应当理解，在不脱离所附权利要求的范围的情况下，可以通过替换实施例来提供元件和/或功能的不同组合。就此而言，例如，与上面明确描述的那些元件和/或功能不同的元件和/或功能的组合也被设想为可以在一些所附权利要求中阐述。在本文描述优点、益处或问题的解决方案的情况下，应了解，此类优点、益处和/或解决方案可适用于一些示例性实施例，但未必适用于所有示例性实施例。因此，本文所述的任何优点、益处或解决方案不应被认为对于所有实施例或本文所要求保护的实施例是关键的、必需的或必要的。尽管这里采用了特定的术语，但是它们仅用于一般的和描述性的意义，而不是用于限制的目的。