一种抛光研磨装置

文档序号:1763883 发布日期:2019-12-03 浏览:20次 >En<

阅读说明:本技术 一种抛光研磨装置 (A kind of polishing grinding device ) 是由 郑勇 于 2019-09-04 设计创作,主要内容包括:一种抛光研磨装置,其特征在于:包括:第一研磨盘,其配置有一研磨面;第一齿轮,其绕一第一轴线而转动;齿圈,其与所述第一齿轮同轴设置,且设于所述第一齿轮的径向的外侧;夹具,其分别与所述第一齿轮及齿圈啮合,所述夹具具有用于设置工件的槽部,所述夹具与所述第一研磨盘对应;以及压紧部,所述压紧部施力于所述夹具以提供向下的压力;其中,所述第一齿轮及所述齿圈驱动夹具在一固定位置转动。(A kind of polishing grinding device, it is characterised in that: include: the first abrasive disk, be configured with an abradant surface;First gear is rotated around a first axle;Gear ring is coaxially disposed with the first gear, and is set to the radial outside of the first gear;Fixture is engaged with the first gear and gear ring respectively, and the fixture has the groove portion for workpiece to be arranged, and the fixture is corresponding with first abrasive disk;And compressed part, the compressed part force in the fixture to provide downward pressure;Wherein, the first gear and the gear ring drive fixture to rotate in a fixed position.)

一种抛光研磨装置

技术领域

本发明涉及一种抛光研磨装置。

背景技术

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整 表面的加工方法。是利用抛光工具或磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。 现有的研磨抛光技术中,双面研磨抛光设备不能实现单面研磨抛光的目的,一些产品只需要 单面研磨抛光或者只能单面研磨盘光,如果需要进行单面研磨抛光,需要单独的一台单面研 磨抛光设备,成本大大增加。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的上述不足,而提供一种结构设计合理的抛光研 磨装置。

本发明解决上述问题所采用的技术方案是:一种抛光研磨装置,其特征在于:包括:

第一研磨盘,其配置有一研磨面;

第一齿轮,其绕一第一轴线而转动;

齿圈,其与所述第一齿轮同轴设置,且设于所述第一齿轮的径向的外侧;

夹具,其分别与所述第一齿轮及齿圈啮合,所述夹具具有用于设置工件的槽部,所述夹 具与所述第一研磨盘对应;以及

压紧部,所述压紧部施力于所述夹具以提供向下的压力;

其中,所述第一齿轮及所述齿圈驱动夹具在一固定位置转动。

本发明所述夹具具有第一部件及第二部件,所述第一部件分别与所述第一齿轮及齿圈啮 合,且所述第一部件具有设置工件的所述槽部,所述第二部件可转动式的叠置于所述第一部 件上。

本发明所述第二部件通过一轴承而可转动式的固定在所述第一部件上。

本发明所述压紧部抵于所述第二部件上,并使所述第二部件向下施力于所述第一部件。

本发明所述第二部件具有一推抵面,所述推抵面在轴向上推抵于所述轴承。

本发明所述第一部件与所述第二部件在轴向上具有间隙。

本发明所述第二部件周向上的上表面的位置高于所述第一部件的上表面的位置。

本发明工作时,所述第一齿轮以一第一速度转动,所述齿圈以一第二速度转动,所述第 一齿轮与所述齿圈驱动所述夹具在所述固定位置转动。

本发明所述夹具可拆卸的设置于所述第一齿轮及所述齿圈之间。

本发明所述压紧部为一第二研磨盘,所述夹具的槽部在所述第一轴线方向贯通所述夹具。

本发明与现有技术相比,具有以下优点和效果:结构简单,设计合理,第一齿轮及齿圈 驱动夹具在一固定位置转动,也就是说,夹具在抛光研磨装置的周向上的位置保持不变,仅 提供绕一固定轴的转动,从而达到工件单面所需的研磨抛光需求;由于第一部件和第二部件 可转动式的连接,因此,第二部件转动时,不会驱使第一部件转动,因此,第一部件不会因 其转动而与压紧部之间产生摩擦,因而避免了部件的磨损;压紧部为一第二研磨盘,夹具的 槽部在所述第一轴线X方向贯通所述夹具,第二研磨盘可用于研磨工件,第二研磨盘配合第 一研磨盘,可实现工件的双面研磨抛光,也就是说,仅通过更换相应的夹具,即可使抛光研 磨装置在单面研磨抛光和双面研磨抛光之间切换,节约了设备成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术 描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一 些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这 些附图获得其他的附图。

图1是本实施例中的抛光研磨装置的立体结构示意图。

图2是本实施例中的夹具的剖视结构示意图。

图3是一实施例中的夹具的立体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图并通过实施例对本发明作进一步的详细说明,以下实施例是对本发明的解 释而本发明并不局限于以下实施例。

实施例1。

参见图1至图3,本实施例的抛光研磨装置,包括第一研磨盘1、第一齿轮2、齿圈3、夹具4及压紧部5。

本实施例中的第一研磨盘1,其配置有一研磨面11。在工作时,第一研磨盘1通过一外 部驱动设备(如电机)而驱动其转动。

本是实例中的第一齿轮2,其绕一第一轴线X而转动。具体的,工作时,第一齿轮2通过一外部设备(图未示,外部设备可采用电机)驱动转动。

本实施例中的齿圈3,其与所述第一齿轮2同轴设置,且设于所述第一齿轮2的径向的 外侧。工作时,齿圈3可通过一外部设备(如电机)而驱动转动。

本实施例中的夹具4,其分别与所述第一齿轮2及齿圈3啮合,具体的,在径向上,第一齿轮2、夹具4及齿圈3依次排布设置。所述夹具4具有用于设置工件的槽部401,所述夹 具4与所述第一研磨盘1对应,当工件设于槽部401时,第一研磨盘1的研磨面可对工件进 行研磨抛光。

本实施例中的压紧部5施力于所述夹具4以提供向下的压力,确保工件与研磨面11充分 接触,以提升研磨效率。

本实施例中,所述第一齿轮2及所述齿圈3驱动夹具4在一固定位置转动。也就是说, 夹具4在抛光研磨装置的周向上的位置保持不变,仅提供绕一固定轴的转动,从而达到工件 单面所需的研磨抛光需求。

本实施例中,夹具4具有第一部件41及第二部件42,所述第一部件41分别与所述第一 齿轮2及齿圈3啮合,且所述第一部件41具有设置工件的所述槽部401,所述第二部件42可转动式的叠置于所述第一部件41上。

具体的,第二部件42通过一轴承43而可转动式的固定在所述第一部件41上。轴承43 本身为现有技术,此处不再赘述。

本实施例中的压紧部5抵于所述第二部件42上,并使所述第二部件42向下施力于所述 第一部件41。由于第一部件41和第二部件42可转动式的连接,因此,第二部件42转动时, 不会驱使第一部件41转动,因此,第一部件41不会因其转动而与压紧部5之间产生摩擦, 因而避免了部件的磨损。本实施例中,压紧部5仅提供向下的压力,而不会转动。为提供压 紧部5的向下的压力。可设置一升降装置(图未示),来实现压紧部5的上下移动,以压紧夹具4。本处的升降装置可选用现有技术中的气缸结构、丝杠结构等,此处不再赘述。

本实施例中的第二部件42具有一推抵面421,所述推抵面421在轴向上推抵于所述轴承 43。避免第二部件42与轴承43在轴向上脱离。

本实施例中的第一部件41与所述第二部件42在轴向上具有间隙。因此,避免第一部件 41与第二部件42直接接触,防止第一部件41转动时,带动第二部件42转动。

本实施例中的第二部件42周向上的上表面的位置高于所述第一部件41的上表面的位置。 也就是说,需压紧部5压在第二部件42上,避免其压到第一部件41上,以产生不必要的摩 擦。

本实施例在工作时,所述第一齿轮2以一第一速度转动,所述齿圈3以一第二速度转动, 所述第一齿轮2与所述齿圈3驱动所述夹具4在所述固定位置转动。第一齿轮2及齿圈3的 转动速度的设定,满足使夹具4在固定位置转动的条件即可。

本实施例中的夹具4可拆卸的设置于所述第一齿轮2及所述齿圈3之间。安装工件时, 可将夹具4拆下,从而将工件安装至夹具4的槽部401。也就是说,夹具4的拆装,给工件的拆装提供了必要的条件。

一实施例中的压紧部5为一第二研磨盘,所述夹具4(如图2所示)的槽部401在所述第一轴线X方向贯通所述夹具4。第二研磨盘可用于研磨工件,此时,对第二研磨盘提供一设备,以驱动第二研磨盘转动即可。第二研磨盘配合第一研磨盘1,可实现工件的双面研磨抛光。也就是说,仅通过更换相应的夹具4,即可使抛光研磨装置在单面研磨抛光和双面研磨抛光之间切换,节约了设备成本。

本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本发明所作的举例说明。本发明所属技术领域的 技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要 不偏离本发明说明书的内容或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范 围。

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