一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法
阅读说明：本技术 一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法 (Self-cooling nitrogen monoxide laser and use method thereof ) 是由 陈艳惠 于 2021-07-31 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法,涉及激光器自冷却装置技术领域。该自冷却型一氧化氮气体激光器,包括激光发射器,所述激光发射器的外壁活动连接有水循环机构,所述水循环机构的内壁活动连接有气流散热机构,所述气流散热机构的外壁通过设置的水循环机构与激光发射器的外壁活动连接,所述气流散热机构的外壁均匀开设有水动力转换机构,所述水动力转换机构的内壁通过设置的气流散热机构与水循环机构的内壁活动连接。该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法,设置的水循环机构,可以通过水的循环对激光器进行持续性的降温,减少激光器因为温度过高导致损坏的情况出现。(The invention discloses a self-cooling nitrogen monoxide laser and a using method thereof, and relates to the technical field of laser self-cooling devices. This self-cooling type nitrogen monoxide laser, including laser emitter, laser emitter's outer wall swing joint has water circulation mechanism, the inner wall swing joint of water circulation mechanism has the air current heat dissipation mechanism, the outer wall of air current heat dissipation mechanism is through the water circulation mechanism that sets up and laser emitter's outer wall swing joint, hydrodynamic force transducer mechanism has evenly been seted up to the outer wall of air current heat dissipation mechanism, the inner wall swing joint of the inner wall of hydrodynamic force transducer mechanism through the air current heat dissipation mechanism that sets up and water circulation mechanism. The self-cooling nitrogen monoxide laser and the use method thereof are provided with the water circulation mechanism, so that the laser can be continuously cooled through water circulation, and the occurrence of the condition that the laser is damaged due to overhigh temperature is reduced.)
技术领域
本发明涉及激光器自冷却装置技术领域，具体为一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法。
背景技术
激光标刻机主要的发热部件为激光头，在激光标刻机运行的时候，激光头会产生一定的热量，如果处理不当，受热会发生一定的形变，导致激光头老化，如果此时进行加工，会严重影响加工精度，并且降低装置使用寿命，出光质量差等问题，故需要冷却系统对其进行及时降温，把热量散发出去，同时将其保持在一定的冷却温度，保证激光头的出光质量，因此需要在切割时进行冷却，现有的冷却方式采用喷射气流设置，而喷射气流设置在激光束管道内部，热量散发的慢，并且会影响激光的强度，不方便使用。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过水循环以及风冷的方式对激光器进行降温，增加降温性能的同时减少损耗，比较方便使用。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种自冷却型一氧化氮气体激光器，包括激光发射器，所述激光发射器的外壁活动连接有水循环机构，所述水循环机构的外壁活动连接有气流散热机构，所述气流散热机构的内壁通过设置的水循环机构与激光发射器的外壁活动连接，所述气流散热机构的外壁均匀开设有水动力转换机构，所述水动力转换机构的内壁通过设置的气流散热机构与水循环机构的内壁活动连接。
优选的，所述水循环机构的结构包括第一固定块和水循环孔，所述第一固定块的内部均匀开设有水循环孔。
优选的，所述水动力转换机构的结构包括进水槽、水流孔和压力水槽，所述气流散热机构的底端设置有进水槽，所述气流散热机构的内部均匀开设有压力水槽，所述压力水槽的外壁均匀开设有水流孔，所述进水槽的内壁通过设置的水流孔与压力水槽的内壁贯通。
优选的，所述压力水槽的内壁靠近中心的位置设置有固定通水管，所述固定通水管的内壁靠近中心的位置设置有第一转动轴，所述第一转动轴的外壁固定连接有扇叶，所述压力水槽的内壁固定连接有密封轴，所述密封轴的内壁与扇叶的外壁活动连接。
优选的，所述气流散热机构的结构包括第二固定块、固定支架和吹风机构，所述第二固定块的外壁均匀开设有通风凹槽，所述通风凹槽的内壁靠近中心的位置固定连接有固定支架，所述固定支架的内壁活动连接有吹风机构，所述吹风机构的外壁通过设置的固定支架与通风凹槽的内壁活动连接。
优选的，所述吹风机构的结构包括第二转动轴、波纹管、固定卡轴、第三转动轴和风扇，所述第二转动轴的外壁通过设置的密封轴与第一转动轴的外壁活动连接，所述第二转动轴的外壁远离第一转动轴的一侧设置有波纹管，所述波纹管的外壁远离第二转动轴的一侧固定连接有固定卡轴，所述固定卡轴的外壁通过设置的波纹管与第二转动轴的外壁活动连接，所述固定卡轴的外壁远离波纹管的一侧固定连接有第三转动轴，所述第三转动轴的外壁通过设置的固定卡轴与波纹管的外壁活动连接，所述第三转动轴的外壁远离固定卡轴的一侧固定连接有风扇，所述风扇的外壁通过设置的第三转动轴与固定卡轴的外壁固定连接。
一种自冷却型一氧化氮气体激光器的使用方法如下：
S1：将水循环机构个气流散热机构该装置安装在激光发射器的外壁，将进水孔与水泵连接，并且将出水孔与水泵的进水端连接水源，形成循环降温，降低资源损耗；
S2：激光发射器运行产生的热量，从激光发射器传导到第一固定块，再通过第一固定块的传导到第二固定块，形成热量传递对激光发射器进行降温；
S3：水泵带动水源从进水孔进入进水槽内部，然后从水流孔进入压力水槽的内部，从而对第二固定块进行降温；
S4：在水流动的过程中，带动扇叶产生转动，从而使风扇转动带动气流对第二固定块的外壁以及内壁进行降温；
S5：水流经过固定通水管的内壁流入水循环孔的内壁，对第一固定块进行降温，增加该装置的降温效果。
本发明提供了一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法。具备以下有益效果：
(1)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的水循环机构，可以通过水的循环对激光器进行持续性的降温，减少激光器因为温度过高导致损坏的情况出现。
(2)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的第一固定块和第二固定块的配合，可以将激光器的温度导出，提高散热的效率，比较方便使用。
(3)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的水循环孔，可以增加水循环对激光器降温的过程中，循环的水降温的面积，增加该装置的实用性。
(4)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的通风凹槽，可以减少降温过程中吹出的热风被循环利用，导致减缓降温效果的情况出现。
(5)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的吹风机构，可以使该装置通过循环水带动气流流动，提高该装置的自动化程度，比较方便使用。
(6)、该自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，通过设置的水循环机构、水动力转换机构与气流散热机构的配合，可以极大的提高该装置对激光器降温的效率，尽可能的减少激光器因为温度过高而损坏的情况出现。
附图说明
图1为本发明结构正等轴测示意图；
图2为本发明结构局部主剖视图；
图3为本发明结构横剖视图；
图4为本发明水循环机构展开主剖视图；
图5为本发明图3中A处结构放大示意图。
图中：1、激光发射器；2、水循环机构；21、第一固定块；22、水循环孔；3、水动力转换机构；31、进水槽；32、水流孔；33、压力水槽；34、固定通水管；35、第一转动轴；36、扇叶；37、密封轴；4、气流散热机构；41、第二固定块；42、固定支架；43、吹风机构；431、第二转动轴；432、波纹管；433、固定卡轴；434、第三转动轴；435、风扇。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：一种自冷却型一氧化氮气体激光器及其使用方法，包括激光发射器1，激光发射器1的外壁活动连接有水循环机构2，水循环机构2的外壁活动连接有气流散热机构4，气流散热机构4的内壁通过设置的水循环机构2与激光发射器1的外壁活动连接，气流散热机构4的外壁均匀开设有水动力转换机构3，水动力转换机构3的内壁通过设置的气流散热机构4与水循环机构2的内壁活动连接，气流散热机构4的底端设置有进水孔。
水循环机构2的结构包括第一固定块21和水循环孔22，第一固定块21的内部均匀开设有水循环孔22，水循环机构2的底端设置有出水孔。
水动力转换机构3的结构包括进水槽31、水流孔32和压力水槽33，气流散热机构4的底端设置有进水槽31，气流散热机构4的内部均匀开设有压力水槽33，压力水槽33的外壁均匀开设有水流孔32，进水槽31的内壁通过设置的水流孔32与压力水槽33的内壁贯通，压力水槽33的内壁通过设置的固定通水管34的内壁与水循环孔22的内壁贯通。
压力水槽33的内壁靠近中心的位置设置有固定通水管34，固定通水管34的内壁靠近中心的位置设置有第一转动轴35，第一转动轴35的外壁固定连接有扇叶36，压力水槽33的内壁固定连接有密封轴37，密封轴37的内壁与扇叶36的外壁活动连接，第一固定块21的内壁通过设置的压力水槽33与进水槽31的内壁贯通。
气流散热机构4的结构包括第二固定块41、固定支架42和吹风机构43，第二固定块41的外壁均匀开设有通风凹槽，通风凹槽的内壁靠近中心的位置固定连接有固定支架42，固定支架42的内壁活动连接有吹风机构43，吹风机构43的外壁通过设置的固定支架42与通风凹槽的内壁活动连接，第二固定块41为耐高温且导热材料。
吹风机构43的结构包括第二转动轴431、波纹管432、固定卡轴433、第三转动轴434和风扇435，第二转动轴431的外壁通过设置的密封轴37与第一转动轴35的外壁活动连接，第二转动轴431的外壁远离第一转动轴35的一侧设置有波纹管432，波纹管432的外壁远离第二转动轴431的一侧固定连接有固定卡轴433，固定卡轴433的外壁通过设置的波纹管432与第二转动轴431的外壁活动连接，固定卡轴433的外壁远离波纹管432的一侧固定连接有第三转动轴434，第三转动轴434的外壁通过设置的固定卡轴433与波纹管432的外壁活动连接，第三转动轴434的外壁远离固定卡轴433的一侧固定连接有风扇435，风扇435的外壁通过设置的第三转动轴434与固定卡轴433的外壁固定连接，第二转动轴431和固定支架42为不导热材料。
一种自冷却型一氧化氮气体激光器的使用方法如下：
S1：将水循环机构2和气流散热机构4安装在激光发射器1的外壁，将进水孔与水泵连接，并且将出水孔与水泵的进水端连接水源，形成循环降温，降低资源损耗；
S2：激光发射器1运行产生的热量，从激光发射器1传导到第一固定块21，再通过第一固定块21的传导到第二固定块41，形成热量传递对激光发射器1进行降温；
S3：水泵带动水源从进水孔进入进水槽31内部，然后从水流孔32进入压力水槽33的内部，从而对第二固定块41进行降温；
S4：在水流动的过程中，带动扇叶36产生转动，从而使风扇435转动带动气流对第二固定块41的外壁以及内壁进行降温；
S5：水流经过固定通水管34的内壁流入水循环孔22的内壁，对第一固定块21进行降温，增加该装置的降温效果。
使用时，将水循环机构2个气流散热机构4该装置安装在激光发射器1的外壁，将进水孔与水泵连接，并且将出水孔与水泵的进水端连接水源，当激光发射器1运行时，连同水泵一起运行，激光发射器1运转产生的热量，从激光发射器1的外壁传导到第一固定块21的内部，再通过第一固定块21的外壁传导到第二固定块41的内部，通过热量传递对激光发射器1进行降温，水泵带动水源从进水孔进入进水槽31内部，然后从水流孔32进入压力水槽33的内部，再从压力水槽33的内部流入固定通水管34的内部，从第二固定块41的内部对第二固定块41进行降温，在流动的过程中，带动扇叶36产生转动，扇叶36转动的过程中带动第一转动轴35产生转动，从而使密封轴37内壁的第二转动轴431产生转动，带动波纹管432产生转动，波纹管432转动可以带动固定卡轴433在固定支架42的内壁转动，从而带动第三转动轴434顶端的风扇435产生转动，风扇435转动带动气流从通风凹槽的一端进入，从另一端流出，从而使气流对第二固定块41的外壁以及内壁进行降温，同时，水流经过固定通水管34的内壁流入水循环孔22的内壁，在水循环孔22的内壁对第一固定块21进行降温，增加该装置的降温效果，之后水流从第一固定块21底端的出水孔排出到水源的位置，形成循环降温，降低资源损耗。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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