测量光源以及用于检测反射光谱的测量设施

文档序号:1894889 发布日期:2021-11-26 浏览:18次 >En<

阅读说明:本技术 测量光源以及用于检测反射光谱的测量设施 (Measuring light source and measuring device for detecting a reflection spectrum ) 是由 约尔格·马格拉夫 于 2020-03-17 设计创作,主要内容包括:本发明涉及用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源。测量光源包括块状的块体(01),在块体中构造有照明腔(11)、光成形腔(12)和光射出腔(13),它们分别构造为块体(01)中的空腔并且具有漫反射的内部面。照明腔(11)通入光成形腔(12)中。光成形腔(12)通入光射出腔(13)中。用于产生光的至少一个光源(07)至少部分地布置在照明腔(11)中。光射出腔(13)具有光射出部(08)。根据本发明,照明腔(11)的轴线和光射出腔(13)的轴线彼此间隔开布置。光成形腔(12)被构造成用于使光传播方向反转。本发明还涉及用于检测样品的至少一个绝对反射光谱的测量设施。该测量设施尤其用于在生产过程中对表面进行光谱检查,例如以便确定表面的颜色或光泽。(The invention relates to a measuring light source for generating measuring light with a uniform spatial illuminance distribution. The measuring light source comprises a block-shaped block (01), in which an illumination chamber (11), a light shaping chamber (12) and a light exit chamber (13) are formed, each of which is formed as a hollow space in the block (01) and has a diffusely reflecting inner surface. The illumination chamber (11) opens into a light-shaping chamber (12). The light forming cavity (12) opens into the light exit cavity (13). At least one light source (07) for generating light is at least partially arranged in the lighting cavity (11). The light emission cavity (13) has a light emission part (08). According to the invention, the axis of the illumination cavity (11) and the axis of the light exit cavity (13) are arranged spaced apart from each other. The light shaping cavity (12) is configured for reversing a direction of light propagation. The invention also relates to a measuring device for detecting at least one absolute reflectance spectrum of a sample. The measuring device is used in particular for the spectroscopic examination of surfaces during production, for example in order to determine the colour or gloss of the surface.)

测量光源以及用于检测反射光谱的测量设施

技术领域

本发明涉及用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源。本发明还涉及用于检测样品的至少一个绝对反射光谱并且优选还用于执行参考测量的测量设施。测量设施尤其用于在生产过程中对表面进行光谱检查,例如以便确定表面的颜色或光泽或层厚。

背景技术

DE 10 2011 050 969 A1示出了一种用于参考性测量反射光的设备,该设备具有空心体,该空心体在其内部中具有漫散射层和光射出开口。该设备能从测量位置切换到校准位置中,由此使光射出开口从第一探测轴线带入第二探测轴线中。

由DE 10 2010 041 749 A1公知有一种具有沿纵向方向延伸的空腔的测量装置,该空腔具有朝向样品的开口和沿纵向方向布置的多个开口。另外的开口用于耦入光。

US 6,422,718 B1、DE 34 31 367 A1和DE 20 2008 012 222 U1以不同的实施方式示出了测量光源。

US 2007/0171649 A1示出了一种用于提供广告等的标志系统。在第一实施方案中,标牌包括壳体中的空腔,该壳体在壳体的后侧上具有漫反射的内部面。标牌板在壳体的前侧上具有开口,以便能够让光从空腔发射出来。

由US 2008/0146909 A1公知有一种光学的传输设备,其包括具有光射入部和光射出部的腔室。腔室的内部面漫反射地实施。来自光源的所有光应通过第一开口射入到腔室中,并在经由第二开口离开腔室之前在那里漫反射。

DE 10 2013 219 830 A1教导了一种用于在漫射照明的情况下进行反射测量的光学设备,其包括空心体,该空心体在其内部具有进行光散射的表面并且具有光射出开口。光射出开口具有旋转不对称的形状。

DE 10 2014 215 193 A1示出了一种用于检测样品的绝对反射光谱的测量设施。该测量设施包括光源和用于产生测量光的均匀的空间照度分布的均化器。测量设施还包括能运动的反射器和接收器。反射器与光源布置在样品的同一侧上。均化器优选由积分球、乌布利希管或由球柱体结构形成。在该测量设施中,在样品间距发生变化时或在样品倾斜时,积分球导致绝对测量的测量误差超过1%,这对于许多应用来说太高了。在实验室条件之外,尤其是在生产过程中进行在线测量时,样品间距变化和样品倾斜是无法避免的。

DE 10 2016 116 405 A1和EP 3 290 904 A2涉及一种用于产生具有均匀空间照度分布的测量光的测量光源,该测量光源包括具有漫反射的内部面的空心体。在空心体中构造有具有共同轴线的凹形空心镜形的照明腔、管状的光成形腔和凹形的空心镜形的光射出腔。用于产生光的光源至少部分地布置在照明腔中。光源例如由至少一个卤素灯和/或至少一个LED形成。光射出腔具有光射出部。照明腔和光射出腔以其空心镜形状对置,并由管状的光成形腔连接。在空心体中布置有漫反射的反射盘,其用于将从空心体的布置在光射出腔中的内部面反射的光通过光射出部向空心体外部反射。EP 3 290 904 A2还示出了用于检测样品的绝对反射光谱和用于执行参考测量的不同的测量设施。

发明内容

基于现有技术,本发明的任务在于,提供一种用于检测反射光谱的测量设施,尤其是一种适合于此的用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源,该测量设施明显能比积分球更紧凑地实施。

所提出任务通过根据所附权利要求1的测量光源以及通过根据所附并列权利要求15的测量设施来解决。

根据本发明的测量光源用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光。利用根据本发明的测量光源,例如可以进行对表面的光谱检查。测量光源包括块状的块体,其中构造有照明腔、光成形腔和光射出腔。照明腔、光成形腔和光射出腔分别构造为块体中的空腔。照明腔、光成形腔和光射出腔分别具有用于产生或进一步传送漫射光的漫反射的内部面。照明腔通入光成形腔中,从而使光可以从照明腔射入到光成形腔中。光成形腔通入光射出腔中,从而使光可以从光成形腔射入到光射出腔中。

用于产生光的至少一个光源至少部分地布置在照明腔中。在任何情况下,至少一个光源均被布置成使得通过至少一个光源能将光射到照明腔中,其中,至少一个光源可以部分地位于照明腔之外。

光射出腔具有光射出部,来自光射出腔的光可以通过光射出部被射向块体之外。从光射出部射出的光形成了能由测量光源产生的测量光。照明腔的轴线与光射出腔的轴线彼此间隔开布置。照明腔的轴线优选由照明腔的中心轴线形成。光射出腔的轴线优选由光射出腔的中心轴线形成。光射出部的轴线和光射出腔的轴线优选重合。照明腔优选被构造成用于将漫射光沿位于照明腔的轴线上的第一光传播方向在照明腔中进行光传播。光射出腔优选被构造成用于将漫射光沿位于光射出腔的轴线上的第二光传播方向在光射出腔中进行光传播。照明腔的轴线和光射出腔的轴线布置成彼此间隔得如此远,使得照明腔和光射出腔并排布置或上下相叠地布置。

根据本发明,光成形腔被构造成用于使漫射光的光传播方向反转。因此,从照明腔射入到光成形腔中的光在其通过光成形腔传播时经历了其光传播方向的反转,从而使得它以经反转的光传播方向从光成形腔射入到光射出腔中。

根据本发明的测量光源的特别的优点在于,它可以非常紧凑地实施,这是因为照明腔和光射出腔可以并排或上下相叠布置并且光成形腔可以轴向相邻布置。由此,可以最佳地利用结构空间。

能利用根据本发明的测量光源产生的测量光在其空间照度分布方面具有优选至多0.2%的偏差。由此在测量绝对反射光谱时能在线使用该测量光源,这是因为能容忍样品间距差异、样品厚度变化和样品倾斜。

能由光源产生的光在从光射出部射出之前优选在照明腔、光成形腔和光射出腔中反射至少三次。能由光源产生的光在其从光射出部射出之前在照明腔中、光成形腔中和光射出腔中优选被反射至少四次。能由光源产生的光的绝大部分在其从光射出部射出之前在照明腔中、光成形腔中和光射出腔中优选被反射多次。

第一光传播方向和第二光传播方向优选彼此相反地取向。第一光传播方向和第二光传播方向彼此间具有优选为180°±30°,更优选为180°±15°,特别优选为180°的角度。

光成形腔优选呈U形或呈V形地将照明腔与光射出腔连接。

照明腔的轴线和光射出腔的轴线优选彼此平行地布置。照明腔和光射出腔优选具有相同的轴向定位,也就是说,在轴向方向上具有相同的定位。因此,照明腔和光射出腔并排地或上下相叠地布置并且在轴向方向上没有错位地布置。在这方面,照明腔、光成形腔和光射出腔构成U形形状或V形形状,其中,照明腔和光射出腔形成U形形状的或V形形状的侧边。

在根据本发明的测量光源的优选实施方式中,在从光成形腔到光射出腔的过渡部处布置有均化器元件。均化器元件具有漫反射的照明面。均化器元件被构造成用于通过光射出部将从光射出腔的内部面反射的光反射向块体之外。均化器元件优选布置在光射出腔的轴线上并且垂直于该轴线地布置。均化器元件在该轴线上优选与光射出部对置。如果从外面通过光射出部向光射出腔看,将看到均化器元件。从光成形腔到光射出腔的过渡部在相对于光射出腔的轴线的径向居中的区段中优选被均化器元件在视觉上遮挡,其中,径向靠外的区段形成从光成形腔到光射出腔的光通过部。

均化器元件优选具有平坦或拱曲的盘的形状。拱曲的盘优选球面拱曲。

均化器元件优选安置在接片上,该接片布置在光射出腔的中间平面中。光射出腔的中间平面优选还形成照明腔的中间平面和/或光成形腔的中间平面。

照明腔优选具有至少一个光射入部,至少一个光源至少部分地布置在该至少一个光射入部中。至少一个光射入部优选由块体的其中布置有至少一个光源的开口形成。

照明腔优选具有其中两个光射入部,即第一光射入部和第二光射入部。第一光射入部和第二光射入部优选彼此并排布置。在其中每个光射入部中布置有其中至少一个光源。在其中一个或两个光射入部中也可以分别布置有其中多个光源。照明腔也可以具有其中多于两个的光射入部。多于两个的光射入部可以以两个相邻的组布置。

两个光射入部或两组光射入部是两个用于照明的通道,例如,双通道的照明允许从不同的照明光谱中进行选出。此外,通过双通道照明还可以预防测量光源的热过载。两个通道可以交替利用。关于光射出腔的中间平面地(该中间平面优选也形成照明腔和光成形腔的中间平面),具有照明腔、光成形腔和光射出腔的块状的块体优选对称地构成。

两个光射入部之间的连接线或两组光射入部之间的连接线优选垂直于光射出腔的中间平面布置。

在根据本发明的测量光源的优选实施方式中,在第一光射入部中或在第一组光射入部中以及在第二光射入部中或在第二组光射入部中分别布置有形成测量光源的光源的卤素灯和多个LED。这优选分别是卤素灯和多个LED,优选至少四个LED并且更优选至少10个LED。替选地,优选地,在第一光射入部中或在第一组光射入部中布置有形成其中一个光源的至少一个卤素灯,而在第二光射入部中或在第二组光射入部中布置有形成测量光源的其中另外的光源的多个LED。在第二光射入部中或在第二组光射入部中优选布置有至少四个LED并且更优选布置有至少10个LED。

多个LED、尤其是至少四个LED在它们的总和上具有如下发射光谱,该发射光谱优选涵盖了光的可见范围,并且更优选地涵盖了从340nm到1100nm的范围并且甚至更优选地涵盖了从340nm到1620nm的范围。

至少一个光源还可以由闪光灯、氙闪光灯、氘灯、红外线辐射器、白光LED、紫外线阴极或紫外线LED形成。光源也可以包括一个或多个光纤,光可以经由一个光纤或多个光纤被辐射到照明腔中。在这方面,例如可以将卤素灯布置在照明腔之外。在任何情况下,一个光纤或多个光纤作为光源的一部分通入照明腔中,从而使得光源部分地布置在照明腔中。

在双通道照明的情况下,均化器元件优选具有两个侧向的扩展部,以便防止来自两个通道的仅被反射几次的光到达光射出腔中。侧向扩展部之间的连接线优选垂直于光射出腔的中间平面布置。

测量光源优选包括透镜,透镜布置在光射出部之前的块体之外。通过透镜增大了从光射出部射出的测量光的光束,以便能可以照亮更大的面。根据本发明的测量光源的特别的优点在于,它可以实施得很小,这导致光射出部也很小。对于一些应用来说,小的光射出部可能太小。通过透镜可以将从光射出部射出的光的光束增大。

在根据本发明的测量光源的优选实施方式中,块状的块体具有长方体或立方体的基本形状,其具有形成光成形腔的外部面的两个倾斜的棱边。

在根据本发明的测量光源的优选实施方式中,块状的块体包括彼此牢固连接的至少两个子块体。尤其是在双通道照明的情况下,块状的块体优选包括彼此牢固连接的三个子块体。三个子块体中的第一子块体与三个子块体中的中间的第二子块体之间的连接平面与第一光射入部相交。三个子块体中的中间的第二子块体与三个子块体中的第三子块体之间的连接平面与第二光射入部相交。优选地,第一子块体与第二子块体之间的连接平面和第二子块体与第三子块体之间的连接平面相互平行取向。第一子块体与第二子块体之间的连接平面和第二子块体与第三子块体之间的连接平面优选平行于光射出腔的中间平面布置。光射出部优选构造在中间的第二子块体中。均化器元件和可能的接片优选构造在中间的第二子块体中。

在根据本发明的测量光源的优选实施方式中,块体或子块体由聚四氟乙烯(PTFE)制成。该材料在漫反射方面非常好。照明腔、光成形腔和光射出腔具有漫反射的表面,其具有在整个光谱中优选至少为96%、特别优选至少为98%的反射率。

根据本发明的测量光源的特别的优点在于,它可以实施得很小。因此,块体具有相应的外棱边,其长度优选不超过90mm、更优选不超过70mm。在照明腔、光成形腔与光射出腔之间,块状的块体的材料、尤其是聚四氟乙烯具有的壁厚优选不超过12mm并且更优选不超过10mm。该壁厚优选为至少6mm。

根据本发明的测量设施被用于检测样品的绝对反射光谱。例如,该测量设施用于在针对大型涂覆的表面(例如玻璃板或薄膜)的生产过程中进行在线测量,以用于查验表面。对于检测绝对反射光谱来说优选不需要参考样品。因此,该测量设施优选还允许对所使用的测量光进行参考测量。

测量设施首先包括根据本发明的用于产生具有均匀的空间照度分布的测量光的测量光源。

测量设施还包括用于接收光的光学接收器,其与测量光源对置布置。待接收的光是测量光源的经过了样品或参考路径后的测量光。接收器的射入开口和测量光源的射出开口除了错位之外彼此指向,光学接收器优选布置在照明腔的轴线上。

测量设施被构造成用于平行于样品表面布置。尤其地,光射出腔的轴线平行于样品的表面地布置,即与样品的表面错开地布置。

测量设施包括第一镜,其布置在测量光源的光射出部的轴线上并且被取向成用于反射测量光源的从光射出部射出的测量光。第一镜优选刚性地布置。第一镜优选具有球面的拱曲部。所描述的用于增大从光射出部射出的测量光的光束的透镜优选布置在光射出部与第一镜之间。

测量设施还包括第二镜,其布置在光学接收器的轴线上并且被取向成用于将反射来的测量光反射到光学接收器上。优选地,第二镜刚性地布置。第二镜优选布置在照明腔的轴线上。第二镜优选布置在照明腔与光学接收器之间。

测量设施优选地包括第三镜,其能在至少两个位置中调节,为此,第三镜是能摆动的。第三镜优选能在至少三个位置中调节。第三镜优选布置在第一镜与第二镜之间。在第三镜的第一位置中,该第三镜被取向成用于将来自第一镜的光路指向到光学接收器。在第三镜的第二位置中,该第三镜被取向成用于释放从第二镜指向到光学接收器的测量光。在第三镜的第三位置中,该第三镜被取向成用于将从样品反射来的测量光指向到光学接收器。测量设施优选包括第四镜。

光学接收器优选地由光学传感器形成,例如尤其是光谱仪形成,或者至少由光学传感器的光学输入端形成。例如,光学接收器可以由输入光学器件形成,与该输入光学器件联接有光纤,该光纤被引导至光谱仪。

测量光源、光学接收器、第一镜、第二镜和可能的第三镜优选形成测量头。测量头包括壳体,在壳体中布置有测量光源、接收器、第一镜、第二镜和可能的第三镜。壳体具有测量开口,从第一镜反射的测量光可以通过该测量开口向外发射,并且从样品反射的测量光可以通过该测量开口向内发射,尤其是向第二镜发射。

优选地,其中多个测量头彼此并排布置,以便构成测量系统,利用该测量系统,可以在样品的整个宽度上以窄规格沿轨迹收集测量数据。

根据本发明的测量设施的测量光源优选由根据本发明的测量光源的所述优选实施例之一形成。此外,根据本发明的测量设施优选还具有结合根据本发明的测量光源及其优选实施方式说明的另外的特征。

附图说明

本发明的另外的细节和改进方案从以下参照附图对本发明的优选实施方式的描述中得出。其中:

图1:示出根据本发明的测量光源的优选实施方式的侧视图;

图2:示出图1中所示的测量光源的俯视图;

图3:示出图1中所示的测量光源的第一横截面视图;

图4:示出图1中所示的测量光源的第二横截面视图;

图5:示出图1中所示的测量光源的第三横截面视图;

图6:示出图1中所示的测量光源的立体剖视图;

图7:示出在旁路测量期间的根据本发明的测量设施的优选实施方式的简化的剖视图;

图8:示出在透射测量期间的图7中所示的测量设施;

图9:示出在反射测量期间的图7中所示的测量设施;并且

图10:示出在暗测量期间的图7中所示的测量设施;。

具体实施方式

图1示出了根据本发明的测量光源的优选实施方式的侧向视图。测量光源包括由PTFE制成的块状的块体01。块体01由第一子块体02、第二子块体03和第三子块体04构成,这些子块体彼此牢固连接或者单体式构成。块体01具有两个并排布置的光射入部06,在光射入部中分别布置有光源07(图6中所示)。块体01还具有光射出部08,由测量光源产生的光从该光射出部射出。

还示出了用于图3中所示横截面视图的切割标记AA和用于图4中所示的横截面视图的切割标记BB。

图2示出了图1中所示的测量光源的俯视图。示出了用于图5中所示的横截面视图的切割标记CC。

图3以第一横截面视图AA示出了图1中所示的测量光源。在该横截面视图中示出了块体01的内部,即照明腔11、光成形腔12和光射出腔13,它们分别由块体01中的空腔形成。照明腔11、光成形腔12和光射出腔13具有漫反射的表面,这些表面具有在整个光谱中的至少为98%的反射率。光射入部06形成通向照明腔11的输入端。照明腔11通入光成形腔12中。光成形腔12通入光射出腔13中。光成形腔12是照明腔11与光射出腔13之间的U形连接部。由此,照明腔11和光射出腔13以节省空间方式上下相叠地布置。光成形腔12侧向地布置在照明腔11和光射出腔13旁边。

图4以第二横截面视图BB示出了图1中所示的测量光源。在该横截面视图中再次示出了照明腔11、光成形腔12和光射出腔13,其中,与图3中的图示相比,这些具有更小的横截面。在该横截面视图中,均化器元件14以球面盘的形式示出,其位于光射出腔13中并且与光射出部08(在图3中示出)对置地布置。

图5以第三横截面视图CC示出了图1中所示的测量光源。此外示出了光射入部06和光射出部08。

图6以立体的剖视图示出了图1中所示的测量光源。在该立体的剖视图中示出了照明腔11、光成形腔12和光射出腔13的空间尺寸。在两个光射入部06中分别布置有两个光源07中的一个,光源在所示实施方式中示例性地由卤素灯形成。由于两个光源07得到了测量光源的双通道实施方案。相应地,照明腔11、光成形腔12和光射出腔13具有相应的垂直于此处所示的横截面平面的延展度,也就是说照明腔11、光成形腔12和光射出腔13在其整体上具有用于双通道实施方案的提高了的宽度。

在该立体的剖视图中,还示出了均化器元件14。均化器元件14具有两个侧向呈矩形的扩展部17,其防止来自两个通道的仅被反射几次的光到达光射出腔13中。均化器元件14通过接片18保持在中间的第二子块体03中。

图7示出了在旁路测量期间的根据本发明的测量设施的优选的实施方式的简化的剖视图。测量设施具有图1中所示的测量光源。块体01具有照明腔11、光成形腔12和光射出腔13以及光射入部06和光射出部08。测量光源还包括用于增大从光射出部08射出的测量光的光束的透镜20。测量设施包括第一镜21,已经穿过透镜20的测量光落在第一镜上。第一镜21球面拱曲且牢固布置。测量设施还包括指向光学接收器23的第二镜22。在光学接收器23的前方布置有透镜24,该透镜聚焦反射的测量光。测量设施还包括第三镜26,该第三镜在其取向方面是能调节的并且在第一位置27、在第二位置28、在第三位置29及在第四位置31中示出。

样品(未示出)布置在样品平面32中。

测量设施还包括布置在样品平面32下方的黑色标准33和反向镜34。

示出了测量光的光路36,该光路在旁路测量时出现,以便可以实施100%的白色测量,由此可以将测量设施调准到测量光源的100%白色。第三镜26的第一位置27用于旁路测量。

图8示出了在透射测量期间的图7中所示的测量设施,示出了在该透射测量期间出现的测量光的光路37。光路37穿过样品平面32中的样品(未示出)并在反向镜34和第二镜22上反射。第三镜26处于其第二位置28中,由此它释放了光路37。因此,第三镜26的第二位置28用于透射测量。

图9示出了在反射测量期间的图7中所示的测量设施。示出了在该反射测量期间出现的测量光的光路38。光路38被在样品平面32中的样品(未示出)反射并在第三镜26上反射,第三镜处于其第三位置29中。因此,第三镜26的第三位置29用于反射测量。

图10示出了在暗测量期间的图7中所示的测量设施。示出了光路39,其象征光学接收器23经由位于第三位置29的第三镜26指向黑色标准33。因此,第三镜26的第三位置29也用于暗测量。

附图标记列表

01 块状的块体

02 第一子块体

03 第二子块体

04 第三子块体

05 -

06 光射入部

07 光源

08 光射出部

09 -

10 -

11 照明腔

12 光成形腔

13 光射出腔

14 均化器元件

15 -

16

17 侧向的扩展部

18 接片

19 -

20 透镜

21 第一镜

22 第二镜

23 光学接收器

24 透镜

25 -

26 第三镜

27 第一位置

28 第二位置

29 第三位置

30 -

31 第四位置

32 样品平面

33 黑色标准

34 反向镜

35 -

36 在旁路测量时的光路

37 在透射测量时的光路

38 在反射测量时的光路

39 在暗测量时的光路

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