一种自适应法向气动补偿抛光装置
阅读说明：本技术 一种自适应法向气动补偿抛光装置 (Self-adaptive normal pneumatic compensation polishing device ) 是由 丁建盛 刘钊辉 宋亚洲 于 2021-09-01 设计创作，主要内容包括：本发明涉及抛光设备领域,具体公开了一种自适应法向气动补偿抛光装置,所述的一种自适应法向气动补偿抛光装置,包括机架、驱动装置以及抛光机架,所述机架上设置有驱动装置,所述抛光机架与所述驱动装置连接,所述抛光机架内部设置有抛光组件以及伸缩组件,所述抛光组件滑动设置在所述抛光机架上,所述伸缩组件的一端与所述抛光机架连接,所述伸缩组件的另外一端与所述抛光组件连接,其中所述伸缩组件用于给予抛光组件一道垂直于运动轨迹的力。本发明具有通过在抛光机架内设置有伸缩组件,能够为抛光装置在进行抛光动作时始终给予抛光刀头一道垂直于运动轨迹的力,从而实现当抛光刀头磨损时实现自动补偿而不影响产品尺寸要求优点。(The invention relates to the field of polishing equipment, and particularly discloses a self-adaptive normal pneumatic compensation polishing device which comprises a rack, a driving device and a polishing rack, wherein the rack is provided with the driving device, the polishing rack is connected with the driving device, a polishing assembly and a telescopic assembly are arranged in the polishing rack, the polishing assembly is arranged on the polishing rack in a sliding manner, one end of the telescopic assembly is connected with the polishing rack, the other end of the telescopic assembly is connected with the polishing assembly, and the telescopic assembly is used for providing a force perpendicular to a motion track to the polishing assembly. The polishing device has the advantages that the telescopic assembly is arranged in the polishing rack, so that a force perpendicular to a motion track can be always applied to the polishing tool bit when the polishing device performs polishing action, and automatic compensation is realized when the polishing tool bit is worn without influencing the size requirement of a product.)
技术领域
本发明涉及抛光设备领域，具体涉及了一种自适应法向气动补偿抛光装置。
背景技术
岩板及石材等用于厨房台面和洗手台台面时，需要挖盆孔并且盆孔边缘上光。目前开盆孔设备已经非常成熟，但是盆孔抛光却非常麻烦。目前主要通过手动抛光来实现，用开盆孔设备换上抛光刀头加工时需要时刻计算刀补稍不留神就会超出尺寸而使产品降级甚至报废。当盆孔抛光采用手持磨抛机抛光工艺时，有以下缺点：一是人工成本高；二是效率低；三是影响质量，完全依赖人来保证周圈亮度的均匀。当采用开盆孔设备换上抛光刀头加工时需要时刻计算刀补稍不留神就会超出尺寸而使产品降级甚至报废。
发明内容
针对现有技术存在当采用开盆孔设备换上抛光刀头加工时，抛光刀头实时磨损刀补无法准确估算做出补偿的问题，本发明的目的在于提供一种自适应法向气动补偿抛光装置，具有通过在抛光机架内设置有伸缩组件，能够为抛光装置在进行抛光动作时始终给予抛光刀头一道垂直于运动轨迹的力，从而实现当抛光刀头磨损时实现自动补偿而不影响产品尺寸要求优点。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
一种自适应法向气动补偿抛光装置，包括机架、驱动装置以及抛光机架，其特征在于：所述机架上设置有驱动装置，所述抛光机架与所述驱动装置连接，所述抛光机架内部设置有抛光组件以及伸缩组件，所述抛光组件滑动设置在所述抛光机架上，所述伸缩组件的一端与所述抛光机架连接，所述伸缩组件的另外一端与所述抛光组件连接，其中所述伸缩组件用于给予抛光组件一道垂直于运动轨迹的力。
作为本申请的优选方案，所述抛光组件包括抛光电机固定座以及滑轨，所述滑轨设置在所述抛光机架上，所述抛光电机固定座通过滑块滑动设置在所述滑轨上，所述抛光电机固定座上设置有抛光电机。
采用上述方案，抛光电机设置在抛光电机固定座上，同时抛光电机固定座通过滑块设置在滑轨上，从而实现了抛光电机能够在抛光机架上滑动，再通过伸缩组件将抛光电机固定座与抛光机架连接起来，就能够通过伸缩组件控制抛光电机移动。
作为本申请的优选方案，所述伸缩组件包括气缸，所述气杆的缸体与所述抛光机架连接，所述气缸的活塞杆与所述抛光电机固定座连接。
采用上述方案，气缸的缸体与抛光机架连接，气缸的活塞杆与抛光电机固定座连接，就能够通过控制气缸实现控制抛光电机在抛光机架内滑动，从而实现了在进行自适应法向气动补偿的过程中，为抛光刀头提供一道垂直于运动轨迹的力，从而实现自动化刀补的功能。
作为本申请的优选方案，所述抛光电机上设置有抛光刀头，所述抛光机架的底壁开有通孔，所述抛光刀头穿过所述通孔露出于所述抛光机架。
采用上述方案，抛光刀头通过通孔露出于抛光机架，能够在更换抛光刀头时更加方便。
作为本申请的优选方案，所述主机架上设置有出水管，所述出水管的出水方向与所述抛光刀头相对应。
采用上述方案，出水管的出水方向与抛光刀头相对应，在抛光装置运作时，出水管能够更好地将冷却水送至抛光刀头处，从而提高了抛光刀头的散热性能。
作为本申请的优选方案，所述驱动装置包括驱动机架，所述驱动机架上设置有电机固定架，所述电机固定架上设置有驱动电机。
采用上述方案，驱动电机能够有效地为传动轴提供动力，从而使传动轴带动抛光机架转动。
作为本申请的优选方案，所述驱动机架上设置有传动轴以及传动轴固定架，所述传动轴一端与所述传动轴固定架连接，另外一端与所述抛光机架连接，所述传动轴贯穿所述驱动机架。
作为本申请的优选方案，所述驱动电机上设置有第一传动齿轮，所述传动轴上设置有第二传动齿轮，所述第一传动齿轮与所述第二传动齿轮啮合连接。
采用上述方案，驱动电机能够通过第一传动齿轮带动第二传动齿轮，从而实现传动轴的转动，结构简单，有效地减少了企业的制作难度，提高企业收益。
作为本申请的优选方案，所述驱动机架上设置有齿轮保护罩，所述第一传动齿轮以及第二传动齿轮均位于所述齿轮保护罩内。
采用上述方案，齿轮保护罩能够有效地对第一传动齿轮以及第二传动齿轮提供一道保护，使其免受外界污染，有效地提高了第一传动齿轮以及第二传动齿轮的使用寿命。
上述一种自适应法向气动补偿抛光装置，具有以下有益效果：
在抛光机架内设置有伸缩组件，并且抛光组件滑动设置在抛光机架上，通过伸缩组件与抛光组件的配合，能够实现抛光装置在进行抛光动作时，伸缩组件能够始终给予抛光刀头一道垂直于运动轨迹的力，从而实现当抛光刀头磨损时实现自动补偿的目的。
附图说明
图1是本实施例一种自适应法向气动补偿抛光装置的整体结构示意图。
图2是本实施例一种自适应法向气动补偿抛光装置的俯视图。
图3是本实施例中抛光机架的内部示意图。
图中：1、机架；2、抛光机架；3、抛光电机固定座；4、滑轨；5、滑块；6、抛光电机；7、气缸；8、连接块；9、连接凸块；10、抛光刀头；11、通孔；12、出水管；13、出水孔；14、驱动机架；15、电机固定架；16、驱动电机；17、传动轴；18、传动轴固定架；19、第一传动齿轮；20、第二传动齿轮；21、齿轮保护罩。
具体实施方式
为使本发明的目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。附图中给出了本发明的若干实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。 对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下” 可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且， 第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、 “下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
实施例
如图1-3所示的一种自适应法向气动补偿抛光装置，包括机架1，机架1上螺栓连接有驱动机架14，驱动机架14上设置有电机固定架15，电机固定架15通过螺栓连接在驱动机架14上；电机设置在电机固定架15上，并且驱动轴贯穿电机固定架15，电机的驱动轴处设置有第一传动齿轮19；驱动机架14上还通过螺栓连接有传动轴固定架18，传动轴17的一端与传动轴固定架18连接，另外一端与抛光机架2螺栓连接，且传动轴17贯穿传动机架1设置，传动轴17上设置有第二传动齿轮20，第一传动齿轮19与第二传动齿轮20啮合连接，驱动机架14上设置有齿轮保护罩21，第一传动齿轮19以及第二传动齿轮20均位于齿轮保护罩21内；抛光机架2的底壁开有通孔11，通孔11的两侧均固定连接有滑轨4，抛光电机固定座3通过滑块5滑动设置在滑轨4上，抛光电机6固定连接在抛光电机固定座3上，抛光电机6的驱动轴上设置有抛光刀头10，并且抛光刀头10穿过抛光机架2底壁的通孔11从抛光机架2底壁露出于外界；气缸7的缸体部分与抛光机架2固定连接，气缸7的活塞杆与抛光电机固定座3连接，具体地，气缸7的活塞杆通过连接块8套设在抛光电机固定座3上的连接凸块9，从而实现气缸7活塞杆与抛光电机固定座3的连接；机架1上设置有出水管12，出水管12位于抛光机架2的下方，并且出水管12的出水孔13对着抛光刀头10。
工作原理：
抛光装置设置在XY平移机构上，抛光电机6与传动轴17为偏心设计，抛光装置运作时，气缸7运作，推动抛光电机固定座3移动，使抛光刀头10与需要抛光的内孔相接触，并在后续抛光过程中始终给予抛光刀头10一道垂直于运动轨迹的力，从而实现当抛光刀头10磨损时实现自动补偿的目的，当驱动电机16的移动轨迹在X轴或Y轴其中一个方向移动时，驱动电机16不运作，当驱动电机16在X轴以及Y轴同时有坐标变化时，驱动电机16运作，驱动电机16启动时传动轴17将带动抛光机架2整体转动，具体为抛光机架2以传动轴17为轴芯开始转动。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
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