具体实施方式

接着，举例更具体地对本发明进行说明。但是，本发明不受以下说明的任何限定。

本发明的光扩散薄膜例如在波长380～780nm下的光透射比损失率可以为3.0％以下。

本发明的光扩散薄膜中，例如可以在前述光扩散层(B)的与前述透明基材(A)相反侧的面上进一步层叠其他层。

本发明的光扩散薄膜例如可以为下述光扩散薄膜，其特征在于，

在透明基材(A)的至少一侧层叠有光扩散层(B)和其他层，

在前述其他层的最表面形成有凹凸，

前述凹凸形状满足下述数学式(1)和(2)。

0.110≤Sm (1)

Rsk≤0.200 (2)

前述数学式(1)中，Sm为依据JIS B0601(1994年版)测定的前述凹凸形状的凹凸的平均间隔(mm)，

前述数学式(2)中，Rsk为依据JIS B0601(1994年版)测定的前述凹凸形状的偏度。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述透明基材(A)可以包含丙烯酸类树脂。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述透明基材(A)可以为丙烯酸类薄膜。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)可以包含粘结剂树脂和填料。另外，例如，前述填料可以为颗粒。另外，例如，前述颗粒与前述粘结剂树脂的折射率差可以为0.200以下。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，可以在前述透明基材(A)与前述光扩散层(B)之间具有中间层，所述中间层包含源自前述透明基材(A)的树脂和源自前述光扩散层(B)的树脂。

本发明的光扩散薄膜例如可以为用于图像显示装置用显示面板的视觉辨识背面侧的光扩散薄膜。

关于本发明的光扩散薄膜的制造方法，例如前所述光扩散层(B)形成工序可以进一步包括使前述涂膜固化的固化工序。

关于本发明的光扩散薄膜的制造方法，例如，前述溶剂可以包含甲苯和环戊酮。

关于本发明的光扩散薄膜的制造方法，例如，前述光扩散薄膜可以为包含前述其他层的光扩散薄膜，前述凹凸形成工序可以包括在前述光扩散层(B)上形成前述其他层的其他层形成工序。

本发明的图像显示装置例如可以为包含本发明的图像显示装置用显示面板和图像显示装置用背光灯的图像显示装置。

[1.光扩散薄膜]

本发明的光扩散薄膜如前所述，其特征在于，在透明基材(A)的至少一侧层叠有光扩散层(B)，在前述光扩散薄膜的前述光扩散层(B)侧的最表面形成有凹凸，前述凹凸形状满足下述数学式(1)和(2)。

0.110≤Sm (1)

Rsk≤0.200 (2)

前述数学式(1)中，Sm为依据JIS B0601(1994年版)测定的前述凹凸形状的凹凸的平均间隔(mm)，

前述数学式(2)中，Rsk为依据JIS B0601(1994年版)测定的前述凹凸形状的偏度。

本发明的光扩散薄膜的前述Sm大且前述Rsk小。即，本发明的光扩散薄膜的前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状平缓。由此，本发明的光扩散薄膜可兼顾高的光扩散性和高的透光率。

对于通常的光扩散薄膜，例如，为了光扩散性，表面的凹凸形状中的峰与峰的间隔短，相对于表面高度的中心线，谷的成分多，凹凸大。于是，由此造成光的损失大、透光率变低。对此，本发明人等发现，通过将前述Sm设为前述数学式(1)的范围内，并且将前述Rsk设为前述数学式(2)的范围内，能够兼顾光扩散性和透光率。对于本发明的光扩散薄膜，前述Sm大，为0.110以上，即，表面的凹凸形状中的峰与峰的间隔大。另外，前述Rsk小，为0.200以下，这如后述，表示前述表面的凹凸形状中的峰与谷的成分接近均等。认为通过这样使前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状平缓，能够减小前述凹凸形状的表面积从而抑制背面反射，因此光损失变少、透光率变大。

图1的截面图中示出本发明的光扩散薄膜的构成的一例。如图示，该光扩散薄膜10在透明基材(A)11的一个面层叠有光扩散层(B)12。光扩散层(B)12在树脂层12a中包含颗粒12b和触变性赋予剂12c。树脂层12a由粘结剂树脂形成。颗粒12b和触变性赋予剂12c为填料。在光扩散层(B)12的与透明基材(A)11相反侧的表面形成有凹凸。该凹凸形状满足前述数学式(1)(0.110≤Sm)和前述数学式(2)(Rsk≤0.200)。但是，本发明的光扩散薄膜不限定于此，例如，颗粒12b和触变性赋予剂12c各自任选有或没有。

另外，本发明的光扩散薄膜如前所述，可以在前述光扩散层(B)的与前述透明基材(A)相反侧的面上进一步层叠其他层。其中，前述其他层任选存在或不存在。存在前述其他层的情况下，前述其他层可以为例如粘合剂层、粘接剂层、低折射率层、高折射率层、导电层、UV吸收层、防污层、高硬度层、应力缓和层、底漆层等。前述其他层可以为一层也可以为多个层，多个的情况下，可以为一种，也可以为多种。例如，前述其他层可以为严格控制了厚度和折射率的光学薄膜、或将前述光学薄膜层叠两层以上而成者。

需要说明的是，本发明的光扩散薄膜中，“光扩散层(B)侧的最表面”为前述光扩散层(B)侧的最外侧的表面。具体而言，对于“光扩散层(B)侧的最表面”而言，在不存在前述其他层的情况下(例如图1)，为前述光扩散层(B)的与前述透明基材(A)相反侧的表面。另外，对于“光扩散层(B)侧的最表面”而言，在存在前述其他层的情况下(未图示)，为前述其他层的与前述透明基材(A)相反侧的最外侧的表面。

本发明中，前述数学式(1)的Sm为在基准长度中表示轮廓曲线要素的长度的平均值的量。前述数学式(1)的Sm如前所述，为依据JIS B0601(1994年版)测定的量，例如可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。

本发明的光扩散薄膜中，前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状的Sm如前述数学式(1)所示，为0.110以上，例如，可以为0.120以上、0.130以上或0.140以上。前述Sm的上限值没有特别限定，例如为0.200以下。

本发明中，前述数学式(2)的Rsk(偏度)表示在通过均方根高度Rq的立方进行无维化的基准长度上的Z(x)的立方平均。另外，偏度是指偏斜度，表示以平均线为中心时的峰部与谷部的对称性。如果Rsk＝0，则相对于平均线为对称(正态分布)，如果Rsk>0，则相对于平均线偏向下侧，如果Rsk<0，则相对于平均线偏向上侧。前述数学式(2)的Rsk如前所述，为依据JIS B0601(1994年版)测定的量，例如可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。

本发明的光扩散薄膜中，前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状的Rsk如前述数学式(2)所示，为0.200以下，例如可以为0.180以下、0.160以下或0.120以下。前述Rsk的下限值没有特别限定，例如为-0.200以上。

本发明的光扩散薄膜中，前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状的微观不平度十点高度(也称为十点平均高度)Rz例如可以为1.700以下、1.200以下、1.000以下、或0.900以下。前述Rz的下限值没有特别限定，例如，可以为0.200以上。通过使前述Rz小，变得容易得到更高的透光率。前述Rz例如可以通过后述的实施例中记载的测定方法进行测定。前述Rz例如可以用基准长度中从轮廓曲线的最大的峰高度到第五高的峰高度为止的平均值与从最深的谷深到第五深的谷深为止的平均值之和来表示。

本发明中，光扩散薄膜的透光率例如可以用前述光透射比损失率(在波长380～780nm下的光透射比损失率)表示。前述光透射比损失率可以通过相对于透光性基材的光透射比损失率的形式表示。前述透光性基材例如为透明塑料薄膜基材，在本发明的光扩散薄膜中为透明基材(A)。对于前述光透射比损失率，可以将仅前述透光性基材的光透射比Y设为Y1、将光扩散薄膜的光透射比Y设为Y2并基于下述数学式来算出。另外，前述光透射比损失率例如可以通过后述的实施例中记载的测定方法和算出方法来测定和算出。另外，前述光透射比损失率没有特别限定，例如，如前所述，可以为3.0％以下，也可以为2.5％以下、或2.0％以下。前述光透射比损失率的下限值没有特别限定，例如，可以为0％，也可以为超过0％的数值。

光透射比损失率(％)＝(Y1-Y2)/Y1×100

本发明的光扩散薄膜中，整体雾度值没有特别限定，例如，可以为10％以上、15％以上、18％以上、或20％以上，例如，可以为40％以下、35％以下、32％以下、或28％以下。若整体雾度值高，则光扩散性容易变高。若整体雾度值低，则透光率容易变高。需要说明的是，雾度值为与光学薄膜等的透明性相关的指标，表示浊度(雾度)。另外，雾度值可以根据漫射透过光相对于总透射光的比例来算出，受表面的粗燥度等的影响。在本发明的光扩散薄膜中，整体雾度值例如可以由下述数学式定义，另外，例如可以通过后述的实施例中记载的测定方法进行测定。

整体雾度值(％)＝Td/Tt×100

Td：漫射透过率

Tt：总透光率

以下，进一步举例对前述透明基材(A)、前述光扩散层(B)和前述其他层分别进行说明。

前述透明基材(A)没有特别限制，可列举出例如透明塑料薄膜基材等。前述透明塑料薄膜基材没有特别限制，优选可见光的透光率优异(优选透光率90％以上)、透明性优异的透明塑料薄膜基材(优选雾度值1％以下的透明塑料薄膜基材)，可列举出例如日本特开2008-90263号公报中记载的透明塑料薄膜基材。作为前述透明塑料薄膜基材的形成材料，具体而言，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯系聚合物、二乙酸纤维素(DAC)、三乙酸纤维素(TAC)等纤维素系聚合物、聚碳酸酯系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等。另外，作为前述透明塑料薄膜基材的形成材料，也可列举出例如聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物、聚乙烯、聚丙烯、具有环状和/或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物等。进而，作为前述透明塑料薄膜基材的形成材料，还可列举出例如酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚亚苯基硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯基缩丁醛系聚合物、丙烯酸酯系聚合物、聚氧亚甲基系聚合物、环氧系聚合物、前述聚合物的共混物等。作为前述透明塑料薄膜基材，可以适当地使用光学上双折射少的透明塑料薄膜基材。本发明的光扩散薄膜例如也可以作为保护薄膜用于偏光板，该情况下，作为前述透明塑料薄膜基材，优选由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三乙酸纤维素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有环状和/或降冰片烯结构的聚烯烃等形成的薄膜。另外，本发明中，如后所述，前述透明塑料薄膜基材可以为偏光件本身。为这样的构成时，不需要由TAC等形成的保护层，能够使偏光板的结构简化，因此会减少偏光板或图像显示装置的制造工序数，可实现生产效率的提高。另外，为这样的构成时，能够将偏光板更为薄层化。需要说明的是，在前述透明塑料薄膜基材为偏光件的情况下，前述光扩散层(B)和前述低反射层(C)发挥作为保护层的作用。另外，为这样的构成时，光扩散薄膜在例如安装于液晶单元表面的情况下，会兼备作为盖板的功能。

本发明中，前述透明基材(A)的厚度没有特别限制，考虑到强度、处理性等操作性和薄层性等方面时，例如为10～500μm、20～300μm、或30～200μm的范围。前述透明基材(A)的折射率没有特别限制。前述折射率例如为1.30～1.80或1.40～1.70的范围。

关于本发明的光扩散薄膜，例如如前所述，前述透明基材(A)可以包含丙烯酸类树脂。

另外，关于本发明的光扩散薄膜，例如如前所述，前述透明基材(A)可以为丙烯酸类薄膜。该情况下，形成前述透明基材(A)的丙烯酸类薄膜可以包含除丙烯酸类树脂以外的树脂。前述透明基材(A)中包含的丙烯酸类树脂的含有率没有特别限定，但例如可以为80质量％以上、85质量％以上、或90质量％以上，上限值没有特别限定，但例如可以为100质量％以下、95质量％以下。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)可以包含树脂(粘结剂树脂)和填料。前述填料可以包含颗粒和触变性赋予剂(触变剂、thixotropic agent)中的至少一者。

例如，通过使前述光扩散层(B)不包含颗粒而包含触变性赋予剂，能够制成前述Sm和Rsk小从而前述最表面的凹凸平缓的本发明的光扩散薄膜。另外，通过使前述光扩散层(B)包含触变性赋予剂和粒径小的颗粒，也能够同样地制成前述Sm和Rsk小从而前述最表面的凹凸平缓的本发明的光扩散薄膜。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)中包含的前述树脂可以包含丙烯酸酯树脂(也称为丙烯酸类树脂)。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)中包含的前述树脂可以包含氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)中包含的前述树脂可以为固化型氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂和多官能丙烯酸酯的共聚物。

关于本发明的光扩散薄膜，例如，前述光扩散层(B)是使用包含树脂和填料的光扩散层形成材料而形成的，前述光扩散层(B)可以通过前述填料发生聚集从而在前述光扩散层(B)的表面具有形成凸状部的聚集部。另外，在前述形成凸状部的聚集部中，前述填料可以以在前述光扩散层(B)的面方向的一个方向上多个聚集的状态存在。本发明的图像显示装置例如可以以前述填料多个聚集的一个方向与黑矩阵图案的长边方向一致的方式配置有前述本发明的光扩散薄膜。

本发明的光扩散薄膜中，前述触变性赋予剂可以为例如选自由有机粘土、氧化聚烯烃和改性脲组成的组中的至少一者。另外，前述触变性赋予剂可以为例如增稠剂。

关于本发明的光扩散薄膜，相对于前述光扩散层(B)的前述树脂100重量(质量)份，例如，可以以0.2～5重量份的范围含有前述触变性赋予剂。

关于本发明的光扩散薄膜，相对于前述光扩散层(B)的前述树脂100重量份，例如可以以0.2～12重量份或0.5～12重量份的范围含有前述颗粒。

本发明的光扩散薄膜的制造方法中，还可以通过调整前述光扩散层形成材料中的前述颗粒相对于前述树脂100重量份的重量份数来调整前述光扩散薄膜的表面形状。

通过具有使颗粒聚集而成的聚集部，能够制成例如光扩散薄膜的凹凸形状平缓的本发明的光扩散薄膜。另外，例如，通过具有前述聚集部，从而前述光扩散层(B)表面的凹凸的平均间隔Sm(mm)变大。具有这样的表面形状的光扩散薄膜能有效地防止荧光灯等的映入。但是，本发明的光扩散薄膜不限定于此。

前述光扩散层(B)例如如后所述，通过如下方式来形成：将包含前述树脂、前述填料和溶剂的涂覆液涂覆于前述透明基材(A)的至少一个面而形成涂膜，接着，从前述涂膜将前述溶剂去除，由此形成。前述树脂可列举出例如热固化性树脂、利用紫外线、光进行固化的电离辐射线固化性树脂。作为前述树脂，也可以使用市售的热固化型树脂、紫外线固化型树脂等。

作为前述热固化型树脂、紫外线固化型树脂，可以使用具有例如利用热、光(紫外线等)或电子束等进行固化丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一种基团的固化型化合物，可列举出例如有机硅树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇多烯树脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等低聚物或预聚物等。这些可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

前述树脂中也可以使用例如具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一种基团的反应性稀释剂。前述反应性稀释剂可以使用例如日本特开2008-88309号公报中记载的反应性稀释剂，例如包含单官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作为前述反应性稀释剂，优选3官能以上的丙烯酸酯、3官能以上的甲基丙烯酸酯。这是因为能够使光扩散层(B)的硬度优异。作为前述反应性稀释剂，也可列举出例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、异氰脲酸的丙烯酸酯、异氰脲酸的甲基丙烯酸酯等。这些可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

用于形成前述光扩散层(B)的颗粒使形成的光扩散层(B)表面呈凹凸形状从而赋予光扩散性，另外，主要发挥控制前述光扩散层(B)的雾度值的功能。前述光扩散层(B)的雾度值可以通过控制前述颗粒与前述树脂的折射率差来设计。前述颗粒与前述树脂的折射率差没有特别限定，例如，如前所述，可以为0.200以下，也可以为0.150以下、0.100以下、或0.050以下，例如，可以为0以上，可以为超过0的数值，还可以为0.010以上、0.020以上、或0.030以上。作为前述颗粒，例如有无机颗粒和有机颗粒。前述无机颗粒没有特别限制，可列举出例如硅氧化物颗粒、钛氧化物颗粒、氧化铝颗粒、氧化锌颗粒、锡氧化物颗粒、碳酸钙颗粒、硫酸钡颗粒、滑石颗粒、高岭土颗粒、硫酸钙颗粒等。另外，前述有机颗粒没有特别限制，可列举出例如聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末(PMMA颗粒)、有机硅树脂粉末、聚苯乙烯树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯树脂粉末、苯并胍胺树脂粉末、三聚氰胺树脂粉末、聚烯烃树脂粉末、聚酯树脂粉末、聚酰胺树脂粉末、聚酰亚胺树脂粉末、聚氟乙烯树脂粉末等。这些无机颗粒和有机颗粒可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。

前述颗粒的粒径(D)(重均粒径)没有特别限定，例如为2～10μm的范围内。通过将前述颗粒的重均粒径设为前述范围，能够制成例如光扩散性更优异、并且映入得以抑制的光扩散薄膜。从抑制来自倾斜方向的映入的观点出发，优选前述颗粒的重均粒径不过小。从抑制来自正面方向的映入的观点出发，优选前述颗粒的重均粒径不过大。前述颗粒的重均粒径例如可以为2.2μm以上、2.3μm以上、2.5μm以上、或3.0μm以上，可以为9.0μm以下、8.0μm以下、7.0μm以下、或6.0μm以下。前述颗粒的重均粒径例如可以为2.2μm以上且9.0μm以下、2.2μm以上且8.0μm以下、2.2μm以上且7.0μm以下、2.2μm以上且6.0μm以下、2.3μm以上且9.0μm以下、2.3μm以上且8.0μm以下、2.3μm以上且7.0μm以下、2.3μm以上且6.0μm以下、2.5μm以上且9.0μm以下、2.5μm以上且8.0μm以下、2.5μm以上且7.0μm以下、2.5μm以上且6.0μm以下、3.0μm以上且9.0μm以下、3.0μm以上且8.0μm以下、3.0μm以上且7.0μm以下、或3.0μm以上且6.0μm以下。需要说明的是，前述颗粒的重均粒径例如可以通过库尔特计数法进行测定。例如，使用利用细孔电阻法的粒度分布测定装置(商品名：Coulter Multisizer、BeckmanCoulter,Inc.制)，测定与颗粒通过前述细孔时的颗粒的体积相当的电解液的电阻，由此测定前述颗粒的数量和体积并算出重均粒径。

前述颗粒的形状没有特别限制，例如，可以为微珠状的大致球形，也可以为粉末等不定形的形状，优选大致球形的颗粒，更优选的是长径比为1.5以下的大致球形的颗粒，最优选为球形的颗粒。

前述光扩散层(B)中的前述颗粒的比例相对于前述树脂100重量份例如可以为0.1重量份以上、0.2重量份以上、0.3重量份以上、或0.5重量份以上，可以为10重量份以下、8重量份以下、7重量份以下、或6重量份以下。前述颗粒的比例相对于前述树脂100重量份例如可以为0.1重量份以上且10重量份以下、0.1重量份以上且8重量份以下、0.1重量份以上且7重量份以下、0.1重量份以上且6重量份以下、0.2重量份以上且10重量份以下、0.2重量份以上且8重量份以下、0.2重量份以上且7重量份以下、0.2重量份以上且6重量份以下、0.3重量份以上且10重量份以下、0.3重量份以上且8重量份以下、0.3重量份以上且7重量份以下、0.3重量份以上且6重量份以下、0.5重量份以上且10重量份以下、0.5重量份以上且8重量份以下、0.5重量份以上且7重量份以下、或0.5重量份以上且6重量份以下。通过将前述颗粒的比例设为前述范围，例如能够适宜地形成前述聚集部，能够制成例如光扩散性更优异、并且映入得以抑制的光扩散薄膜。

在前述光扩散层(B)中，前述填料可以为颗粒和触变性赋予剂。前述触变性赋予剂可以单独包含，也可以在前述颗粒的基础上进一步包含前述触变性赋予剂。通过包含前述触变性赋予剂，能够容易地进行前述颗粒的聚集状态的控制。作为前述触变性赋予剂，可列举出例如有机粘土、氧化聚烯烃、改性脲等。

对于前述有机粘土，为了改善与前述树脂的亲和性，优选为经有机化处理的层状粘土。前述有机粘土可以自己制备，也可以使用市售品。作为前述市售品，可列举出例如：Lucentite SAN、Lucentite STN、Lucentite SEN、Lucentite SPN、Somasif ME-100、Somasif MAE、Somasif MTE、Somasif MEE、Somasif MPE(商品名、均为Co-op ChemicalCo.,Ltd.制)；S-BEN、S-BEN C、S-BEN E、S-BEN W、S-BEN P、S-BEN WX、S-BEN N-400、S-BENNX、S-BEN NX80、S-BEN NO12S、S-BEN NEZ、S-BEN NO12、S-BEN NE、S-BEN NZ、S-BEN NZ70、ORGANITE、ORGANITE D、ORGANITE T(商品名、均为HOJUN Co.,Ltd.制)；Kunipia F、KunipiaG、Kunipia G4(商品名、均为KUNIMINE INDUSTRIES CO.,LTD.制)；TIXOGEL VZ、CLAYTONEHT、CLAYTONE 40(商品名、均为Rockwood Additives Ltd.制)等。

前述氧化聚烯烃可以自己制备，也可以使用市售品。作为前述市售品，可列举出例如DISPARLON 4200-20(商品名、楠本化成株式会社制)、FLOWNON SA300(商品名、共荣社化学株式会社制)等。

前述改性脲为异氰酸酯单体或其加合体与有机胺的反应产物。前述改性脲可以自己制备，也可以使用市售品。作为前述市售品，可列举出例如BYK410(BYK公司制)等。

前述触变性赋予剂可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。

前述光扩散层(B)中的前述触变性赋予剂的比例相对于前述树脂100重量份优选为0.2～5重量份的范围，更优选为0.4～4重量份的范围。

前述光扩散层(B)的最大厚度(d’)没有特别限制，优选处于3～12μm的范围内。通过将前述光扩散层(B)的最大厚度(d’)设为前述范围，从而例如能够防止光扩散薄膜中的卷曲的产生、能够回避输送性不良等生产率降低的问题。另外，在前述厚度(d)处于前述范围的情况下，前述颗粒的重均粒径(D)如前所述，优选处于2～10μm的范围内。通过使前述光扩散层(B)的最大厚度(d’)与前述颗粒的重均粒径(D)为前述的组合，能够制成光扩散性优异的光扩散薄膜。前述光扩散层(B)的最大厚度(d’)更优选在3～8μm的范围内。

前述光扩散层(B)的厚度(d’)与前述颗粒的重均粒径(D)的比D/d例如可以为1以下、0.9以下、0.8以下、0.7以下、或0.6以下，可以为0.1以上、0.2以上、0.3以上、或0.4以上。前述D/d例如可以为0.1以上且1以下、0.2以上且1以下、0.3以上且1以下、0.4以上且1以下、0.1以上且0.9以下、0.2以上且0.9以下、0.3以上且0.9以下、0.4以上且0.9以下、0.1以上且0.8以下、0.2以上且0.8以下、0.3以上且0.8以下、0.4以上且0.8以下、0.1以上且0.7以下、0.2以上且0.7以下、0.3以上且0.7以下、0.4以上且0.7以下、0.1以上且0.6以下、0.2以上且0.6以下、0.3以上且0.6以下、或0.4以上且0.6以下。通过存在这样的关系，从而能够制成光扩散性更优异、并且映入得以抑制的光扩散薄膜。

本发明的光扩散薄膜中，例如，前述光扩散层(B)通过前述填料发生聚集而在前述光扩散层(B)的表面具有形成凸状部的聚集部，在前述形成凸状部的聚集部中，前述填料可以以在前述光扩散层(B)的面方向的一个方向上多个聚集的状态存在。由此，例如，能够防止荧光灯的映入等。但是，本发明的光扩散薄膜不限定于此。

另外，本发明的光扩散薄膜例如可以在前述透明基材(A)与前述光扩散层(B)之间具有中间层，所述中间层包含源自前述透明基材(A)的树脂和源自前述光扩散层(B)的树脂。通过该中间层的厚度的控制，可以控制前述光扩散层(B)的表面形状。例如，若增大前述中间层的厚度，则前述Sm和Rsk容易变大，若减小前述中间层的厚度，则前述Sm和Rsk容易变小。需要说明的是，前述中间层的存在的确认例如可以用显微镜观察光扩散薄膜的截面来进行。另外，前述中间层、前述透明基材(A)和前述光扩散层(B)的厚度的测定例如同样地可以用显微镜观察光扩散薄膜的截面，确定前述透明基材(A)、前述中间层和前述光扩散层(B)的界面来进行。作为前述显微镜，可列举出例如透射电子显微镜(TransmissionElectron Microscope、TEM)。另外，前述界面的确定例如可以使用飞行时间二次离子质谱法等。这样的方法可以在例如利用显微镜难以确定界面的情况下使用。

在本发明中，形成前述中间层(也称为浸透层、相容层)的机理没有特别限定，例如，通过本发明的光扩散薄膜的制造方法中的前述干燥工序形成。具体而言，例如，在前述干燥工序中，前述光扩散层(B)形成用的涂覆液浸透至前述透明基材(A)，形成包含源自前述透明基材(A)的树脂和源自前述光扩散层(B)的树脂的前述中间层。前述中间层中包含的树脂没有特别限定，例如，可以为前述透明基材(A)中包含的树脂与前述光扩散层(B)中包含的树脂简单混合(相容)而成的树脂。另外，对于前述中间层中包含的树脂，例如，可以使前述透明基材(A)中包含的树脂和前述光扩散层(B)中包含的树脂中的至少一者通过加热、光照射等而发生化学变化。

由下述数学式(5)定义的前述中间层的厚度比率R没有特别限定，例如为0.10～0.80，例如，可以为0.15以上、0.20以上、0.25以上、0.30以上、0.40以上、或0.45以上，例如，可以为0.75以下、0.70以下、0.65以下、0.60以下、0.50以下、0.40以下、0.45以下、或0.30以下。前述中间层例如可以通过用透射电子显微镜(TEM)对光扩散薄膜的截面进行观察来确认，从而可以测定厚度。

R＝[D_C/(D_C+D_B)] (5)

前述数学式(5)中，D_B为前述光扩散性层(B)的厚度[μm]，D_C为前述中间层的厚度[μm]。

本发明的光扩散薄膜中，例如，如前所述，前述光扩散层(B)通过前述填料发生聚集而在前述光扩散层(B)的表面具有形成凸状部的聚集部，在前述形成凸状部的聚集部中，前述填料可以以在前述光扩散层(B)的面方向的一个方向上多个聚集的状态存在。由此，前述凸状部成为具有各向异性的平缓的形状。但是，本发明的光扩散薄膜不限定于此。

光扩散层(B)的表面形状可以通过控制光扩散层形成材料中包含的填料的聚集状态来任意地设计。前述填料的聚集状态可以通过例如前述填料的材质(例如，颗粒表面的化学的修饰状态、对溶剂、树脂的亲和性等)、树脂(粘结剂)或溶剂的种类、组合等来控制。另外，通过前述触变性赋予剂，能够精密地控制前述颗粒的聚集状态。其结果，本发明中，能够在宽范围内控制(调整)前述光扩散薄膜的表面形状，例如，能够使前述填料的聚集状态如前所述那样，能够使前述凸状部为平缓的形状。进而，如前所述，通过调整前述光扩散层形成材料中的前述颗粒相对于前述树脂100重量份的重量份数，也能够在更宽的范围内控制(调整)前述光扩散薄膜的表面形状。

需要说明的是，本发明的光扩散薄膜的前述凸状部可以呈平缓的形状来防止作为外观缺陷的光扩散层(B)表面的突起状物的产生，但不限定于此。另外，本发明的光扩散薄膜例如可以在与光扩散层(B)的厚度方向直接或间接重叠的位置存在一些前述颗粒。

前述其他层没有特别限定，例如如前所述，可以为粘合剂层、粘接剂层、低折射率层、高折射率层、导电层、UV吸收层、防污层、高硬度层、应力缓和层、底漆层等。另外，前述其他层可以为一层也可以为多个层，多个的情况下，可以为一种，也可以为多种。例如，前述其他层可以为严格控制了厚度和折射率的光学薄膜或将两层以上前述光学薄膜层叠而成者。

[2.光扩散薄膜的制造方法]

本发明的光扩散薄膜的制造方法没有特别限制，可以通过任意方法来制造，优选通过前述本发明的光扩散薄膜的制造方法进行制造。

前述光扩散薄膜的制造方法例如可以如下地来进行。

首先，在前述透明基材(A)上以满足前述数学式(1)和(2)的方式形成前述光扩散层(B)(光扩散层(B)形成工序)。由此，制造前述透明基材(A)与前述光扩散层(B)的层叠体。前述光扩散层(B)形成工序如前所述，包括：在前述透明基材(A)上涂覆涂覆液的涂覆工序、和使涂覆的前述涂覆液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序。另外，例如，如前所述，前述光扩散层(B)形成工序可以进一步包括使前述涂膜固化的固化工序。前述固化例如可以在前述干燥之后进行，但不限定于此。前述固化例如可以通过加热、光照射等进行。前述光没有特别限定，可以为例如紫外线等。前述光照射的光源也没有特别限定，可以为例如高压汞灯等。

前述涂覆液如前所述，包含树脂和溶剂。前述涂覆液例如可以为包含前述树脂、前述颗粒、前述触变性赋予剂和前述溶剂的光扩散层形成材料(涂覆液)。

前述涂覆液优选显示触变性，由下式规定的Ti值优选处于1.3～3.5的范围、更优选为1.4～3.2的范围、进一步优选为1.5～3的范围。

Ti值＝β1/β2

上述式中，β1为使用HAAKE公司制RheoStress RS6000在剪切速度20(1/s)的条件下测定的粘度，β2为使用HAAKE公司制RheoStress RS6000在剪切速度200(1/s)的条件下测定的粘度。

Ti值为1.3以上时，不易引起产生外观缺陷、或涉及光扩散性、白浊的特性劣化的问题。另外，Ti值为3.5以下时，不易引起前述颗粒不聚集而呈分散状态等的问题。

另外，前述涂覆液可以包含或不包含触变性赋予剂，但包含触变性赋予剂时容易显示触变性，因此优选。另外，如前所述，通过使前述涂覆液包含前述触变性赋予剂，可得到防止前述颗粒的沉降的效果(触变性效果)。进而，通过前述触变性赋予剂自身的剪切聚集，也能够在宽的范围内自由地控制光扩散薄膜的表面形状。例如，通过使前述涂覆液不含颗粒而包含触变性赋予剂，如前所述，能够制成前述Sm和Rsk小从而前述最表面的凹凸平缓的本发明的光扩散薄膜。另外，通过使前述涂覆液包含触变性赋予剂和粒径小的颗粒，也能够同样地制成前述Sm和Rsk小从而前述最表面的凹凸平缓的本发明的光扩散薄膜。

前述溶剂没有特别限制，可以使用各种溶剂，可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。根据前述树脂的组成、前述颗粒和前述触变性赋予剂的种类、含量等，为了得到本发明的光扩散薄膜，存在最适的溶剂种类、溶剂比率。作为溶剂，没有特别限定，可列举出例如：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环戊酮等酮类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；二异丙基醚、丙二醇单甲醚等醚类；乙二醇、丙二醇等二醇类；乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等溶纤剂类；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烃类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类等。另外，例如，前述溶剂可以包含烃溶剂和酮溶剂。前述烃溶剂例如可以为芳香族烃。前述芳香族烃例如可以为选自由甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、乙苯、和苯组成的组中的至少一者。前述酮溶剂例如可以为选自由环戊酮、和丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、二乙基酮、环己酮、异佛尔酮、苯乙酮组成的组中的至少一者。前述溶剂例如可以为将前述烃溶剂和前述酮溶剂以90：10～10：90的质量比混合而成的溶剂。前述烃溶剂与前述酮溶剂的质量比例如可以为80：20～20：80、70：30～30：70、或40：60～60：40等。该情况下，例如前述烃溶剂可以为甲苯、前述酮溶剂可以为环戊酮。

作为透明基材(A)，例如，在采用丙烯酸类薄膜来形成中间层(浸透层)的情况下，可以适当地使用相对于丙烯酸类薄膜(丙烯酸类树脂)的良溶剂。作为该溶剂，例如，如前所述，可以为包含烃溶剂和酮溶剂的溶剂。前述烃溶剂例如可以为芳香族烃。前述芳香族烃例如可以为选自由甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、乙苯、和苯组成的组中的至少一者。前述酮溶剂例如可以为选自由环戊酮、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、二乙基酮、环己酮、异佛尔酮、和苯乙酮组成的组中的至少一者。前述溶剂例如可以为将前述烃溶剂和前述酮溶剂以90：10～10：90的质量比混合而成的溶剂。前述烃溶剂与前述酮溶剂的质量比例如可以为80：20～20：80、70：30～30：70、或40：60～60：40等。该情况下，例如，前述烃溶剂可以为甲苯、前述酮溶剂可以为环戊酮。

另外，通过适宜选择溶剂，在含有触变性赋予剂的情况下，能够良好地表现出对光扩散层形成材料(涂覆液)的触变性。例如，在使用有机粘土的情况下，可以将甲苯和二甲苯适当地单独使用或组合使用，例如，使用氧化聚烯烃的情况下，可以将甲乙酮、乙酸乙酯、丙二醇单甲醚适当地单独使用或组合使用，例如，在使用改性脲的情况下，可以将乙酸丁酯和甲基异丁基酮适当地单独使用或组合使用。

前述光扩散层形成材料中可以添加各种流平剂。作为前述流平剂，出于防止涂覆不均(涂覆面的均匀化)的目的，可以使用例如氟系或有机硅系的流平剂。本发明中，在对光扩散层(B)表面要求防污性的情况、或者如后述在光扩散层(B)上形成包含低反射层(低折射率层)、层间填充剂的层的情况等时，可以根据上述情况适宜选定流平剂。本发明中，例如，通过包含前述触变性赋予剂，从而能够使涂覆液表现触变性，因此不易发生涂覆不均。该情况下，例如具有可扩大前述流平剂的选择范围的优点。

前述流平剂的配混量没有特别限定，相对于前述树脂100重量份，优选为0.3～5重量份、进一步优选为0.5～5重量份的范围。

前述光扩散层形成材料中可以根据需要在不损害性能的范围内添加颜料、填充剂、分散剂、增塑剂、紫外线吸收剂、表面活性剂、防污剂、抗氧化剂等。这些添加剂可以单独使用一种，另外也可以组合使用两种以上。

前述光扩散层形成材料中可以使用例如日本特开2008-88309号公报中记载的那样的以往公知的光聚合引发剂。

作为将前述涂覆液涂覆于前述透明基材(A)上而形成涂膜的方法，可以使用例如喷泉涂覆法、模涂法、旋转涂覆法、喷涂法、凹版涂覆法、辊涂法、棒涂法等涂覆法。

接着，如前所述，使前述涂膜干燥和固化，形成光扩散层(B)。前述干燥例如可以为自然干燥，可以为吹风的风干，可以为加热干燥，还可以为将它们组合的方法。

前述光扩散层(B)形成用的涂覆液的干燥温度例如可以为30～200℃的范围。前述干燥温度例如可以为40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上、或100℃以上，可以为190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下、或110℃以下。干燥时间没有特别限定，例如，可以为30秒以上、40秒以上、50秒以上、或60秒以上，可以为150秒以下、130秒以下、110秒以下、或90秒以下。

前述涂膜的固化方法没有特别限制，优选紫外线固化。能量射线源的照射量以紫外线波长365nm下的累积曝光量计优选为50～500mJ/cm²。照射量为50mJ/cm²以上时，固化容易充分进行，形成的光扩散层(B)的硬度容易变高。另外，为500mJ/cm²以下时，能够防止形成的光扩散层(B)的着色。

如上所述那样操作，可以制造前述透明基材(A)与前述光扩散层(B)的层叠体。可以将该层叠体直接作为本发明的光扩散薄膜，也可以例如在前述光扩散层(B)上形成前述其他层而制成本发明的光扩散薄膜。前述其他层的形成方法没有特别限定，例如，可以通过与通常的光学层等的形成方法同样的方法或基于其的方法进行。

如上所示那样操作，可以制造在前述透明基材(A)的至少一个面层叠有前述光扩散层(B)的本发明的光扩散薄膜。需要说明的是，本发明的光扩散薄膜如前所述，可以包含除前述透明基材(A)和前述光扩散层(B)以外的其他层。

另外，本发明的防反射薄膜的制造工序中，优选对前述透明基材(A)和前述光扩散层(B)中的至少一者进行表面处理。如果对前述透明基材(A)表面进行表面处理，则与前述光扩散层(B)或者与偏光件或偏光板的密合性会进一步提高。另外，如果对前述光扩散层(B)表面进行表面处理，则例如与前述其他层的密合性会进一步提高。

[3.光学构件和图像显示装置]

本发明的光学构件没有特别限定，例如，可以为偏光板。前述偏光板也没有特别限定，例如，可以包含本发明的光扩散薄膜和偏光件，还可以包含其他构成要素。前述偏光板的各构成要素例如可以利用粘接剂或粘合剂等来贴合。

本发明的图像显示装置也没有特别限定，可以为任意图像显示装置，可列举出例如液晶显示装置、有机EL显示装置、量子点显示装置等。

本发明的光扩散薄膜例如如前所述，可以用于图像显示装置用显示面板的视觉辨识背面侧。具体而言，例如，可以利用粘接剂或粘合剂等将本发明的光扩散薄膜贴附于图像显示装置用显示面板的视觉辨识背面侧。该情况下，本发明的光扩散薄膜例如可以单独使用，也可以以包含其他构成要素的本发明的光学构件(例如前述偏光板等)的形式使用。另外，本发明的图像显示装置例如可以包含前述图像显示装置用显示面板和图像显示装置用背光灯。具体而言，例如，可以在前述图像显示装置用显示面板的视觉辨识背面侧贴附本发明的光扩散薄膜或本发明的光学构件、并在前述图像显示装置用显示面板的视觉辨识背面侧配置前述图像显示装置用背光灯。本发明的光扩散薄膜如前所述，前述光扩散层(B)侧的最表面的前述凹凸形状是平缓的。因此，利用本发明的光扩散薄膜，例如，能够抑制或防止由前述凹凸形状导致的前述图像显示装置用背光灯表面的损伤。但是，本发明的图像显示装置不限定于此。

本发明的图像显示装置例如为在视觉辨识侧表面具有本发明的光扩散薄膜的图像显示装置，前述图像显示装置可以具有黑矩阵图案。

本发明的光扩散薄膜例如可以借助粘合剂、粘接剂将前述透明基材(A)侧贴合于用于LCD的光学构件。需要说明的是，在该贴合时，可以对前述透明基材(A)表面进行如前所述的各种表面处理。如前所述，根据本发明的光扩散薄膜的制造方法，能够在广泛的范围内自由地控制光扩散薄膜的表面形状。因此，通过使用粘接剂、粘合剂等将前述光扩散薄膜与其他光学构件层叠所能够得到的光学特性遍及在与前述光扩散薄膜的表面形状对应的广泛的范围内。

作为前述光学构件，可列举出例如偏光件或偏光板。偏光板通常为在偏光件的单侧或两侧具有透明保护薄膜这样的构成。在偏光件的两面设置透明保护薄膜的情况下，正面和背面的透明保护薄膜可以为相同的材料，也可以为不同的材料。偏光板通常配置在液晶单元的两侧。另外，偏光板以2张偏光板的吸收轴彼此大致正交的方式配置。

层叠有前述光扩散薄膜的偏光板的构成没有特别限制，例如，可以为在前述光扩散薄膜上依次层叠透明保护薄膜、前述偏光件和前述透明保护薄膜而成的构成，也可以为在前述光扩散薄膜上依次层叠前述偏光件、前述透明保护薄膜而成的构成。

本发明的图像显示装置除了配置前述光扩散薄膜以外为与以往的图像显示装置同样的构成。例如，在LCD的情况下，可以通过将液晶单元、偏光板等光学构件、和根据需要的照明系统(背光灯等)等各构成部件适宜组装并安装驱动电路等来制造。

本发明的图像显示装置用于任意适当的用途。其用途例如为电脑显示器、笔记本电脑、复印机等OA设备、手机、钟表、数码相机、移动信息终端(PDA)、便携式游戏机等便携设备、摄像机、电视机、微波炉等家用电器、后视监视器(back monitor)、车载导航系统用监控器、汽车音响等车载用设备、商业店铺用信息用监控器等展陈设备、监视用监控器等警备设备、护理用监护仪、医疗用监护仪等护理/医疗设备等。

实施例

接着，关于本发明的实施例，与比较例一起进行说明。但是，本发明不受以下的实施例和比较例限制。

[实施例1]

将作为粘结剂树脂的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有机化学株式会社制、商品名“VISCOAT#300”)60重量份和氨基甲酸酯丙烯酸酯预聚物(新中村化学工业株式会社制、商品名“UA-53H-80BK”)40重量份、有机硅颗粒(Momentive Performance Materials JapanLLC制、商品名“Tospearl130”、重量平均粒径：3μm、|D90-D50|：2.5μm)4重量份、作为有机粘土的合成蒙脱石(KUNIMINE INDUSTRIES CO.,LTD.制、商品名“Sumecton SAN”)2.5重量份、光聚合引发剂(BASF公司制、商品名“IRGACURE 907”)5重量份和流平剂(DIC株式会社制、商品名“PC4100”、固体成分10％)1.0重量份混合，用甲苯/环戊酮(CPN)混合溶剂(重量比甲苯/环戊酮＝70/30)进行稀释，制备固体成分浓度31.5重量％的光扩散层形成用组合物I。需要说明的是，前述有机粘土用甲苯稀释至固体成分成为6重量％来使用。

进而，在透明塑料薄膜基材(丙烯酸类薄膜、东洋钢板株式会社制、商品名“HX-40UC”、厚度：40μm、折射率：1.50、单体的光透射比94.0％)上，使用线棒涂布上述光扩散层形成用组合物I，在90℃下进行1分钟加热后，用高压汞灯照射累积光量300mJ/cm²的紫外线。如此操作，得到在透明基材(A)的一个面层叠有光扩散层(B)(厚度5.7μm)、并且在前述透明基材(A)与前述光扩散层(B)之间形成有包含源自前述透明基材(A)的树脂和源自前述光扩散层(B)的树脂的中间层的光扩散薄膜。需要说明的是，在本实施例和以下的全部的实施例及比较例中，利用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope、TEM)观察光扩散薄膜的截面来确认形成有中间层。

[实施例2]

以厚度成为6.3μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例3]

以厚度成为6.9μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例4]

以厚度成为7.3μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例5]

将光扩散层形成用组合物I涂覆后的加热时间从1分钟变更为30秒，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例6]

以厚度成为6.3μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例5同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例7]

以厚度成为6.9μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例5同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例8]

以厚度成为7.3μm的方式形成光扩散层，除此以外，与实施例5同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例9]

作为透明塑料薄膜基材(透明基材(A))，使用PET薄膜(KOLON INDUSTRIES公司制、商品名“ASTROLL CE900”、厚度：38μm、折射率：1.64、单体的光透射比88.3％)代替实施例1的前述丙烯酸类薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[实施例10]

作为透明塑料薄膜基材(透明基材(A))，使用TAC(KONICA MINOLTA,INC.制、商品名“KC4UY”、厚度：40μm、折射率：1.50、单体的光透射比92.4％)代替实施例1的前述丙烯酸类薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[比较例1]

将作为粘结剂树脂的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有机化学株式会社制、商品名“VISCOAT#300”)60重量份和氨基甲酸酯丙烯酸酯预聚物(新中村化学工业株式会社制、商品名“UA-53H-80BK”)40重量份、有机颗粒(积水化成品工业株式会社制、商品名“SSX1055QXE”、重量平均粒径：5.5μm)4重量份、作为有机粘土的合成蒙脱石(KUNIMINEINDUSTRIES CO.,LTD.制、商品名“Sumecton SAN”)2.5重量份、光聚合引发剂(BASF公司制、商品名“IRGACURE 907”)5重量份和流平剂(DIC株式会社制、商品名“PC4100”、固体成分10％)1.0重量份混合，用甲苯/甲乙酮混合溶剂(重量比甲苯/甲乙酮＝70/30)进行稀释，制备固体成分浓度32重量％的光扩散层形成用组合物II。需要说明的是，前述有机粘土用甲苯稀释至固体成分成为6重量％来使用。

进而，在与实施例1同样的透明塑料薄膜基材上，使用线棒涂布上述光扩散层形成用组合物II，在90℃下进行1分钟加热后，用高压汞灯照射累积光量300mJ/cm²的紫外线。如此操作，得到具有透明基材层和光扩散层(厚度5.7μm)、进而在它们之间形成有中间层的光扩散薄膜。

[比较例2]

以厚度成为5.9μm的方式形成光扩散层，除此以外，与比较例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[比较例3]

以厚度成为6.2μm的方式形成光扩散层，除此以外，与比较例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[比较例4]

以厚度成为6.3μm的方式形成光扩散层，除此以外，与比较例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[比较例5]

以厚度成为6.5μm的方式形成光扩散层，除此以外，与比较例1同样地操作，得到光扩散薄膜。

[比较例6]

将作为粘结剂树脂的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有机化学株式会社制、商品名“VISCOAT#300”)50重量份和氨基甲酸酯丙烯酸酯预聚物(新中村化学工业株式会社制、商品名“UA-53H-80BK”)50重量份、有机硅颗粒(Momentive Performance Materials JapanLLC制、商品名“Tospearl130”、重量平均粒径：3μm、|D90-D50|：2.5μm、折射率：1.42)3.5重量份、作为有机粘土的合成蒙脱石(Co-op Chemical Co.,Ltd.制、商品名“LucentiteSAN”)2重量份、光聚合引发剂(BASF公司制、商品名“IRGACURE907”)3重量份和流平剂(DIC株式会社制、商品名“PC4100”、固体成分10％)0.2重量份混合，用甲苯/环戊酮(CPN)混合溶剂(重量比甲苯/环戊酮＝70/30)进行稀释，制备固体成分浓度33重量％的光扩散层形成用组合物III。需要说明的是，有机粘土用甲苯稀释至固体成分成为6重量％来使用。

接着，在三乙酸纤维素(TAC)薄膜(KONICA MINOLTA OPTO,INC.制、商品名“KC4UA”、厚度：40μm)上，使用Comma Coater(注册商标)涂布上述光扩散层形成用组合物III，在80℃下进行1分钟加热后，用高压汞灯照射累积光量300mJ/cm²的紫外线。如此操作，得到具备透明基材层和光扩散层(厚度：6.3μm)、且在透明基材层与光扩散层之间形成有中间层的光扩散薄膜。

如下地对如上操作而制造的实施例和比较例的光扩散薄膜的特性进行测定。

[光扩散层表面的凹凸形状(Sm、Rsk、Rz)]

依据JIS B0601(1994年度版)，测定凹凸的平均间隔Sm(mm)、偏度Rsk、和微观不平度十点高度Rz(μm)。具体而言，首先，用粘合剂将玻璃板(MATSUNAMI公司制、MICRO SLIDEGLASS、型号S、厚度1.3mm、45×50mm)贴合于前述各实施例或比较例中的光扩散薄膜的透明基材的与光扩散层处于相反侧的面，制作试样。接着，使用具有前端部(金刚石)的曲率半径R＝2μm的测量针的触针式表面粗糙度测定器(Kosaka Laboratory Ltd.制、高精度微细形状测定器、商品名“SURFCORDER ET4000”)，在扫描速度1mm/秒、截止值0.8mm、测定长度12mm的条件下、沿一定方向对前述试样的光扩散层的表面形状进行测定，算出凹凸的平均间隔Sm(mm)、微观不平度十点高度Rz(μm)、和偏度Rsk。需要说明的是，前述高精度微细形状测定器自动算出前述各测定值。

[光透射比损失率]

使用Hitachi High-Tech Corporation.制的分光光度计(商品名U-4100)，在波长范围380nm～780nm测定前述各实施例或比较例的光扩散薄膜的透过率光谱，进行光透射比Y的自动算出。另外，仅对透明塑料薄膜基材(未形成光扩散层和中间层)同样地测定透过率光谱，进行光透射比Y的自动算出。将仅透明塑料薄膜基材的光透射比Y设为Y1、将前述各实施例或比较例的光扩散薄膜的光透射比Y设为Y2，基于下述数学式算出光透射比损失率。

光透射比损失率(％)＝(Y1-Y2)/Y1×100

[整体雾度]

依据JIS K 7136(2000年版)的雾度(haze)，使用雾度计(村上色彩技术研究所制、商品名“HM-150”)进行测定。

将如上所述测定的前述各实施例和比较例的光扩散薄膜的特性示于下述表1。需要说明的是，在下述表1中，凹凸的平均间隔Sm的单位为mm，偏度Rsk没有单位，微观不平度十点高度Rz的单位为μm，整体雾度的单位为％。

[表1]

如表1所示，实施例1～10的光扩散薄膜满足0.110≤Sm和Rsk≤0.200这两者。与此相对，比较例1～5的光扩散薄膜均不满足0.110≤Sm。对于比较例1～4的光扩散薄膜而言，还不满足Rsk≤0.200。另外，比较例6的光扩散薄膜虽然满足0.110≤Sm满足，但不满足Rsk≤0.200。

实施例1～10的光扩散薄膜的光透射比损失率均为3.0％以下，能够确认透光率高。需要说明的是，实施例1～10的光扩散薄膜由于整体雾度值具有适度的大小(高度)，因此确认了具有适于实用的光扩散性。

与此相对，比较例1～6的光扩散薄膜的光透射比损失率均超过3.0％，透光率低。

产业上的可利用性

以上，如所说明的那样，根据本发明，能够提供可兼顾光扩散性和透光率的光扩散薄膜、光扩散薄膜的制造方法、光学构件、图像显示装置用显示面板和图像显示装置。本发明的用途没有特别限定，可以用于广泛的用途，例如可以应用于任意的图像显示装置。

本申请要求基于2019年4月3日申请的日本申请特愿2019-071238的优先权，将其公开的全部内容并入此处。

附图标记说明

10 光扩散薄膜

11 透明基材(A)

12 光扩散层(B)

12a 树脂层

12b 颗粒

12c 触变性赋予剂