气体激光装置和电子器件的制造方法

文档序号:24378 发布日期:2021-09-21 浏览:28次 >En<

阅读说明:本技术 气体激光装置和电子器件的制造方法 (Gas laser device and method for manufacturing electronic device ) 是由 手井大辅 若林理 田中诚 五十岚美和 于 2019-03-27 设计创作,主要内容包括:气体激光装置也可以具有:腔,该腔中封入激光气体;窗口,其被设置于腔,激光透过窗口;光路管,其包围腔中的设置有窗口的位置而与腔连接;加热气体供给口,其向包含光路管内的空间在内的封闭空间内供给被加热的吹扫气体;以及排气口,其排放封闭空间内的气体。(The gas laser device may include: a cavity in which a laser gas is enclosed; a window disposed in the cavity, the laser light passing through the window; an optical path tube connected to the cavity so as to surround the position in the cavity where the window is provided; a heated gas supply port for supplying a heated purge gas into a closed space including a space in the optical path pipe; and an exhaust port that exhausts the gas within the enclosed space.)

气体激光装置和电子器件的制造方法

技术领域

本公开涉及气体激光装置和电子器件的制造方法。

背景技术

近年来,在半导体曝光装置(以下称为“曝光装置”)中,随着半导体集成电路的微细化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。一般而言,在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。例如,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长为248nm的紫外光的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外光的激光的ArF准分子激光装置。

作为新时代的曝光技术,曝光装置侧的曝光用透镜与晶片之间被液体充满的液浸曝光已经实用化。在该液浸曝光中,曝光用透镜与晶片之间的折射率变化,因此,曝光用光源的外观的波长变短。在将ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下,对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光或ArF液浸光刻。

KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡幅度较宽,大约为350~400pm。因此,当利用如下材料构成投影透镜时,有时产生色差,该材料供KrF和ArF激光这样的紫外光透过。其结果,分辨率会降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此,为了对谱线宽度进行窄带化,有时在气体激光装置的激光谐振器内设置具有标准具、光栅等窄带化元件的窄带化模块(Line Narrow Module:LNM)。下面,将谱线宽度被窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本实开平01-129964号公报

专利文献2:日本特开昭55-108788号公报

发明内容

本公开的一个方式可以是一种气体激光装置,其具有:腔,该腔中封入激光气体;窗口,其被设置于腔,激光透过窗口;光路管,其包围腔中的设置有窗口的位置而与腔连接;加热气体供给口,其向包含光路管内的空间在内的封闭空间内供给被加热的吹扫气体;以及排气口,其排放封闭空间内的气体。

此外,本公开的另一个方式可以是一种电子器件的制造方法,其包含以下步骤:使从气体激光装置出射的激光入射到曝光装置,在曝光装置内在感光基板上曝光激光,以制造电子器件,气体激光装置具有:腔,该腔中封入激光气体;窗口,其被设置于腔,激光透过窗口;光路管,其包围腔中的设置有窗口的位置而与腔连接;加热气体供给口,其向包含光路管内的空间在内的封闭空间内供给被加热的吹扫气体;以及排气口,其排放封闭空间内的气体。

附图说明

下面,参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。

图1是示出电子器件的制造的曝光工序中被使用的制造装置的整体的概略结构例的图。

图2是示出比较例中的气体激光装置的整体的概略结构例的图。

图3是示出实施方式1中的气体激光装置的整体的概略结构的图。

图4是示出从被设置于腔的一个窗口到被设置于壳体的激光出射窗口为止的状况的图。

图5是示出从被设置于腔的另一个窗口到窄带化模块为止的状况的图。

图6是示出实施方式2的气体激光装置中的从被设置于腔的一个窗口到被设置于壳体的激光出射窗口为止的状况的图。

图7是正面观察窗口罩的图。

图8是示出窗口罩的变形例的图。

图9是示出实施方式3的气体激光装置中的从被设置于腔的一个窗口到被设置于壳体的激光出射窗口为止的状况的图。

图10是示出实施方式4的气体激光装置中的从被设置于腔的一个窗口到被设置于壳体的激光出射窗口为止的状况的图。

图11是示出实施方式4中的气体激光装置的变形例的图。

图12是示出实施方式4中的气体激光装置的另一个变形例的图。

图13是示出实施方式5中的气体激光装置的主要部分的概略结构的图。

图14是示出实施方式6中的气体激光装置的整体的概略结构例的图。

图15是示出从被设置于图14的放大器的腔的一个窗口到光传输单元的状况的图。

图16是示出从被设置于图14的放大器的腔的另一个窗口到光传输单元的状况的图。

具体实施方式

1.电子器件的制造的曝光工序中被使用的制造装置的说明

2.比较例的气体激光装置的说明

2.1结构

2.2动作

2.3课题

3.实施方式1的气体激光装置的说明

3.1结构

3.2动作

3.3作用/效果

4.实施方式2的气体激光装置的说明

4.1结构

4.2作用/效果

5.实施方式3的气体激光装置的说明

5.1结构

5.2作用/效果

6.实施方式4的气体激光装置的说明

6.1结构

6.2作用/效果

7.实施方式5的气体激光装置的说明

7.1结构

7.2作用/效果

8.实施方式6的气体激光装置的说明

8.1结构

8.2动作

8.3作用/效果

下面,参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。

以下说明的实施方式示出本公开的几个例子,不限定本公开的内容。此外,各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外,对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。

1.电子器件的制造的曝光工序中被使用的制造装置的说明

图1是示出电子器件的制造的曝光工序中被使用的制造装置的整体的概略结构例的图。如图1所示,曝光工序中被使用的制造装置包含气体激光装置100和曝光装置200。曝光装置200包含照明光学系统210和投影光学系统220,该照明光学系统210包含多个反射镜211、212、213。照明光学系统210通过从气体激光装置100入射的激光对掩模版台RT的掩模版图案进行照明。投影光学系统220对透过掩模版后的激光进行缩小投影,使其成像于被配置于工件台WT上的未图示的工件。工件是被涂布了光刻胶的半导体晶片等感光基板。曝光装置200使掩模版台RT和工件台WT同步地平行移动,由此在工件上曝光反映了掩模版图案的激光。通过以上这种曝光工序在半导体晶片上转印器件图案,由此,能够制造作为电子器件的半导体器件。

2.比较例的气体激光装置的说明

2.1结构

对比较例的气体激光装置进行说明。图2是示出本例的气体激光装置的整体的概略结构例的图。如图2所示,本例的气体激光装置100包含壳体10、激光振荡器LO、能量监视器模块20和控制部CO作为主要结构。本例的气体激光装置100例如是使用包含氩(Ar)、氟(F2)和氖(Ne)的混合气体的ArF准分子激光装置。该情况下,气体激光装置100出射中心波长大约为193nm的脉冲激光。另外,气体激光装置100也可以是ArF准分子激光装置以外的气体激光装置,例如也可以是使用包含氪(Kr)、氟(F2)和氖(Ne)的混合气体的KrF准分子激光装置。该情况下,气体激光装置100出射中心波长大约为248nm的脉冲激光。包含作为激光介质的Ar、F2和Ne的混合气体、包含Kr、F2和Ne的混合气体有时被称为激光气体。

控制部CO例如能够使用微控制器、IC(Integrated Circuit:集成电路)、LSI(Large-scale Integrated Circuit:大规模集成电路)、ASIC(Application SpecificIntegrated Circuit:面向特定用途的集成电路)等集成电路、NC(Numerical Control:数字控制)装置。此外,控制部CO在使用NC装置的情况下,可以是使用机器学习器的装置,也可以是不使用机器学习器的装置。如以下说明的那样,气体激光装置100的若干个结构由控制部CO来控制。

激光振荡器LO包含腔30、一对电极31、32、一对窗口33、34、充电器35、脉冲功率模块36、横流风扇38、马达39、窄带化模块40和输出耦合镜OC1作为主要结构。

腔30是由金属构成的壳体,在腔30中被封入有激光气体。一对电极31、32是用于通过放电来激励激光介质的电极,在腔30内彼此对置地配置。

在腔30形成有开口,该开口被包含绝缘体而形成的绝缘部37堵住。电极31被支承于绝缘部37。在绝缘部37嵌入有由导电部件构成的馈通件。馈通件将从脉冲功率模块36供给的电压施加给电极31。电极32被支承于电极保持架32h。该电极保持架32h被固定于腔30的内表面,与腔30电连接。

充电器35是以规定的电压对被设置于脉冲功率模块36中的未图示的电容器进行充电的直流电源装置。脉冲功率模块36包含由控制部CO控制的开关。当开关从断开变成接通时,脉冲功率模块36使从充电器35施加的电压升压,生成脉冲状的高电压,将该高电压施加给一对电极31、32之间。

横流风扇38被配置于腔30内。腔30内的配置有横流风扇38的空间和一对电极31、32之间的空间彼此连通。因此,横流风扇38旋转,由此,被封入腔30内的激光气体沿规定的方向循环。在横流风扇38连接有被配置于腔30的外部的马达39。该马达39旋转,由此,横流风扇38旋转。马达39通过控制部CO的控制来进行开启、关闭、转速的调节。因此,控制部CO通过控制马达39,能够对在腔30内循环的激光气体的循环速度进行调节。

窗口33、34被设置于腔30中的隔着电极31与电极32之间的空间彼此对置的位置。一个窗口33被设置于腔30中的激光的行进方向上的一端,另一个窗口34被设置于腔30中的激光的行进方向上的另一端。窗口33、34通过图3、4等所示的窗口保持架33H、34H被固定于腔30。如后所述,在气体激光装置100中,光在包含腔30的光路上振荡而出射激光,因此,腔30内产生的激光经由窗口33、34向腔30的外部出射。各个窗口33、34被配置成,抑制供激光透过的面中的激光的P偏振成分的反射。具体而言,在窗口33、34由平行平面基板构成的情况下,可以被配置成激光相对于任意一个平面的入射角成为布儒斯特角。这样,各个窗口33、34相对于激光的行进方向倾斜。窗口33、34例如由氟化钙构成。另外,窗口33、34也可以被涂敷氟化物、氧化物等的膜。

在腔30中的设置有窗口33的上述一端侧连接有光路管51。光路管51是由金属构成的筒状的部件。腔30中的设置有窗口33的位置以与光路管51的内壁隔开间隙而进入光路管51内的方式突出。因此,窗口33位于光路管51内。

在腔30中的设置有窗口34的上述另一端侧连接有光路管52。光路管52是由金属构成的筒状的部件。腔30中的设置有窗口34的位置以与光路管52的内壁隔开间隙而进入光路管52内的方式突出。因此,窗口34位于光路管52内。

输出耦合镜OC1被设置于以腔30为基准的上述一端侧,被配置于光路管51内。输出耦合镜OC1是供从窗口33出射的激光入射的光学元件,使从窗口33出射的光中的一部分透过,使另一部分反射而经由窗口33返回到腔30内。输出耦合镜OC1例如由在氟化钙的基板形成有电介质多层膜而成的元件构成。

窄带化模块40与光路管52连接。因此,窄带化模块40被设置于以腔30为基准的上述另一端侧。窄带化模块40包含壳体41、光栅42和棱镜43、44。壳体41例如由金属构成,在壳体41形成有开口,壳体41内的空间和光路管52内的空间通过该开口连通。此外,利用壳体41、光路管52、腔30的一部分和窗口34形成封闭空间,该封闭空间包含光路管52内的空间。

光栅42和棱镜43、44被配置于壳体41内。光栅42和棱镜43、44是供从窗口34出射的激光入射的光学元件。光栅42被进行利特罗配置,以使波长分散面和与激光的传播方向垂直的平面大致一致,并且激光的入射角度和衍射角度大致一致。在本例中,光栅42可以是针对大约193nm的波长闪耀的埃舍尔光栅。

棱镜43、44中的至少一方被固定于旋转台上,棱镜43、44中的被固定于旋转台上的棱镜以与光栅42的波长分散方向垂直的轴为中心稍微旋转,由此,入射到光栅42的光的入射角度被调整。通过调整光相对于光栅42的入射角度,在光栅42反射的光的反射角被调整。因此,从窗口34出射的光经由棱镜43、44在光栅42反射,再次经由棱镜43、44从窗口34入射,由此,返回到腔30的光的波长被调整为期望的波长。另外,被配置于窄带化模块40的棱镜的数量在本例中为2个,但是,也可以是1个,还可以是3个以上。

利用隔着腔30设置的输出耦合镜OC1和光栅42构成光谐振器,腔30被配置于该光谐振器的光路上。因此,从腔30出射的光在窄带化模块40的光栅42与输出耦合镜OC1之间往复,每当通过电极31与电极32之间的激光增益空间时被放大。被放大的光的一部分透过输出耦合镜OC1,作为脉冲激光而出射。

能量监视器模块20被配置于从激光振荡器LO的输出耦合镜OC1出射的脉冲激光的光路上。能量监视器模块20包含壳体21、分束器22和脉冲能量传感器23。壳体21与光路管51连接。分束器22和脉冲能量传感器23是供从窗口33出射的激光入射的光学元件。在壳体21形成有开口,壳体21内的空间和光路管51内的空间通过该开口连通。在壳体21内配置有分束器22和脉冲能量传感器23。

分束器22使从激光振荡器LO出射的脉冲激光以高透射率透过,并且使脉冲激光的一部分朝向脉冲能量传感器23的受光面反射。脉冲能量传感器23检测入射到受光面的脉冲激光的脉冲能量,将检测到的脉冲能量的数据输出到控制部CO。

在能量监视器模块20的壳体21中的与连接有光路管51的一侧相反的一侧形成有开口,以包围该开口的方式连接有光路管53。因此,光路管51内的空间、壳体21内的空间、光路管53内的空间连通。光路管51是由金属构成的筒状的部件,与壳体10连接。在壳体10中的被光路管53包围的位置设置有激光出射窗口OW。因此,利用激光出射窗口OW、壳体10的一部分、光路管53、壳体21、光路管51、腔30的一部分和窗口33形成封闭空间,该封闭空间包含光路管51内的空间。透过能量监视器模块20的分束器22的光经由光路管53从激光出射窗口OW向壳体10的外部出射。

在壳体10的外部配置有蓄积吹扫气体的吹扫气体供给源61。在吹扫气体中包含惰性气体。优选该惰性气体是氧等杂质少的高纯度氮,但是,也可以包含稀有气体等气体。在吹扫气体供给源61连接有配管,该配管进入壳体10内。在该配管的中途设置有气体供给阀SV0。气体供给阀SV0的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV0的配管与吹扫气体歧管PM连接。

在吹扫气体歧管PM连接有多个配管,在其中一个配管的中途设置有气体供给阀SV1。气体供给阀SV1的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV1的配管与能量监视器模块20的壳体21连接。该连接部是向壳体21内供给吹扫气体的气体供给口SP1。因此,气体供给口SP1被设置于比输出耦合镜OC1靠与窗口33侧相反的一侧的位置,经由壳体21向光路管51内和光路管53内供给吹扫气体。

在与吹扫气体歧管PM连接的另一个配管的中途设置有气体供给阀SV2。气体供给阀SV2的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV2的配管与窄带化模块40的壳体41连接。该连接部是向壳体41内供给吹扫气体的气体供给口SP2。在本例中,气体供给口SP2被设置于比光栅42的至少一部分和棱镜43、44靠与窗口34侧相反的一侧的位置,经由壳体41向光路管52内供给吹扫气体。

在光路管51连接有设置有排气阀EV1的配管。排气阀EV1的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。排气阀EV1打开,由此,光路管51内的气体被排放。设置有该排气阀EV1的配管与光路管51连接的连接部是排放光路管51内的气体的排气口EP1。在本例中,排气口EP1在光路管51中被设置于窗口33的旁边。从气体供给口SP1供给的吹扫气体与壳体21、光路管51和光路管53内的气体混合而向排气口EP1流动。因此,能够通过吹扫气体降低壳体21、光路管51和光路管53内的氧浓度,此外,能够维持降低了氧浓度的状态。由此,能够抑制氧对脉冲激光的吸收,高效地输出脉冲激光。此外,还能够抑制由于从部件等产生的排放气体引起的杂质等附着于位于气体的流路上的分束器22、输出耦合镜OC1和窗口33的表面。由此,能够抑制由于杂质等的附着而引起的窗口33等光学元件的透射率、偏振特性的劣化,降低这些光学元件的更换频度。

在光路管52连接有设置有排气阀EV2的配管。排气阀EV2的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。排气阀EV2打开,由此,光路管52内的气体被排放。设置有该排气阀EV2的配管与光路管52连接的连接部是排放光路管52内的气体的排气口EP2。在本例中,排气口EP2在光路管52中被设置于窗口34的旁边。从气体供给口SP2供给的吹扫气体与壳体41、光路管52内的气体混合而向排气口EP2流动。因此,能够通过吹扫气体降低和维持壳体41、光路管52内的氧浓度。此外,还能够抑制由于从部件等产生的排放气体引起的杂质等附着于位于气体的流路上的光栅42、棱镜43、44和窗口34的表面。

另外,在本例中,设置有排气阀EV1的配管和设置有排气阀EV2的配管与其他配管连接,光路管51内的气体和光路管52内的气体经由该其他配管被排放到壳体10内。

在壳体10的外部还配置有蓄积激光气体的激光气体供给源62。激光气体供给源62供给成为激光气体的多个气体。在本例中,例如供给包含F2、Ar和Ne的混合气体。另外,如果是KrF准分子激光,则激光气体供给源62例如供给包含F2、Kr和Ne的混合气体。在激光气体供给源62连接有配管,该配管进入壳体10内。该配管与激光气体供给装置63连接。在激光气体供给装置63设置有未图示的阀、流量调节阀,连接有与腔30连接的其他配管。激光气体供给装置63通过来自控制部CO的控制信号将多个气体设为激光气体,将该激光气体经由其他配管供给到腔30内。该其他配管与腔30连接的连接部是向腔30内供给激光气体的激光气体供给口LSP1。

在壳体10内配置有排气装置64。排气装置64通过配管而与腔30连接。排气装置64将腔30内的气体经由该配管排放到壳体10内。此时,排气装置64通过来自控制部CO的控制信号调节排气量等,对从腔30内排放的气体进行通过未图示的卤素过滤器去除F2气体的处理。该配管与腔30连接的连接部是从腔30内排放气体的激光气体排气口LEP1。

在壳体10设置有排气管道11。壳体10内的气体从该排气管道11被排放到壳体10外部。因此,从排气装置64被排放到壳体10内的腔30内的气体、经由排气口EP1和排气口EP2被排放到壳体10内的光路管51内和光路管52内等的气体从排气管道11被排放到壳体10外部。

2.2动作

接着,对比较例的气体激光装置100的动作进行说明。

在气体激光装置100中,例如在新导入时、维护时等,大气进入光路管51、52内。该状态下,控制部CO关闭排气阀EV1、EV2。进而,控制部CO关闭气体供给阀SV0~SV2。因此,不向光路管51、52内供给吹扫气体,不从光路管51、52内排放气体。

接着,控制部CO打开排气阀EV1、EV2。在该时点,未供给吹扫气体,因此,不排放光路管51、壳体21和光路管53内的气体以及光路管52和壳体41内的气体。

接着,控制部CO打开气体供给阀SV0~SV2。因此,从气体供给口SP1向壳体21内供给吹扫气体,从气体供给口SP2向壳体41内供给吹扫气体。排气阀EV1已经打开,因此,光路管51、壳体21和光路管53内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP1经由配管被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低壳体21、光路管51和光路管53内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在分束器22、输出耦合镜OC1和窗口33的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此外,排气阀EV2已经打开,因此,光路管52和壳体41内的气体被吹扫气体推出,经由排气口EP2被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低壳体41、光路管52内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在光栅42、棱镜43、44和窗口34的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。被排放到壳体10内的气体从排气管道11被排放到壳体10的外部。

接着,控制部CO以规定的期间维持该状态。该期间例如是5分钟~10分钟。在该期间内,光路管51、壳体21和光路管53内的氧浓度成为规定的浓度以下,光路管52和壳体41内的氧浓度成为规定的浓度以下。

此外,控制部CO在该期间结束之前,向腔30内供给激光气体,使被供给的激光气体循环。具体而言,控制部CO对排气装置64进行控制,使腔30内的气体从激光气体排气口LEP1排放到壳体10内。然后,从激光气体供给口LSP1供给规定量的激光气体。其结果,激光气体被封入腔30内。此外,控制部CO对马达39进行控制,使横流风扇38旋转。通过横流风扇38的旋转,激光气体被循环。由于该激光气体的循环引起的摩擦热等,腔30内的温度变高。腔内的温度例如大致成为65℃。

接着,控制部CO使激光出射。首先,控制部CO对马达39进行控制,维持腔30内的激光气体进行循环的状态。此外,控制部CO对充电器35和脉冲功率模块36内的开关进行控制,对电极31、32之间施加高电压。在对电极31、32之间施加高电压时,电极31、32之间的绝缘被破坏而引起放电。通过该放电的能量,电极31、32之间的激光气体中包含的激光介质成为激励状态,在返回到基态时放出自然放出光。该光的一部分从窗口34出射,经由棱镜43、44在光栅42反射。在光栅42反射而再次经由窗口34向腔30内传播的光被窄带化。通过该窄带化的光,激励状态的激光介质引起感应放出,光被放大。这样,规定的波长的光在光栅42与输出耦合镜OC1之间谐振,引起激光振荡。然后,一部分激光透过输出耦合镜OC1,从激光出射窗口OW出射。

此时,在分束器22反射的激光被脉冲能量传感器23接收,脉冲能量传感器23将基于接收的激光的能量的强度的信号输出到控制部CO。控制部CO根据该信号对充电器35、脉冲功率模块36进行控制,调节要出射的激光的功率。

此外,在出射激光的过程中,也从气体供给口SP1、SP2供给吹扫气体。因此,通过在光路管51、壳体21和光路管53中流动的气体,在光路管51、壳体21和光路管53内,维持氧浓度为规定的浓度以下的状态。此外,通过在光路管52和壳体41内流动的气体,在光路管52和壳体41内,维持氧浓度为规定的浓度以下的状态。

2.3课题

如上所述,在激光的振荡时、激光的停止时,通过供给吹扫气体,光路管51、52内的气体在窗口33、34的表面流动。该气体的温度与吹扫气体的温度大致相同。但是,在腔30内,如上所述,由于激光气体的循环引起的摩擦热等,比吹扫气体的温度高。因此,窗口33、34的与腔30侧相反的一侧的表面通过在表面流动的气体被冷却,成为比窗口33、34的腔30侧的表面低的温度。而且,当出射激光时,窗口33、34由于激光的能量而被加热。因此,在激光振荡的开始时和激光振荡的停止时,在窗口33、34的与腔30侧相反的一侧的表面产生急剧的温度变化,在窗口33、34产生由于热冲击而引起的损伤,担心气体激光装置100的耐久性降低。

因此,在以下的实施方式中,例示耐久性优异的气体激光装置。

3.实施方式1的气体激光装置的说明

接着,对实施方式1的气体激光装置的结构进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

3.1结构

图3是示出本实施方式中的气体激光装置的整体的概略结构例的图。如图3所示,本实施方式的气体激光装置100与比较例1的气体激光装置100的不同之处主要在于包含气体加热部HT1、HT2、气体供给阀SV3、SV4和气体供给口SP3、SP4。

图4是示出从被设置于腔30的一个窗口33到被设置于壳体10的激光出射窗口OW为止的状况的图。如图3、图4所示,从连接吹扫气体歧管PM和气体供给阀SV1的配管分支出其他配管,在分支出的配管连接有气体加热部HT1。气体加热部HT1例如包含电热加热器或陶瓷加热器等加热器,对在配管内流动的吹扫气体进行加热。具体而言,可以是加热器对配管进行加热,从而使在配管内流动的吹扫气体被加热,也可以是加热器采用被密闭的结构,向加热器内放出吹扫气体而被加热。此外,还可以在配管内加入构成加热器的散热翅片等一部分结构而对吹扫气体进行加热。此外,在壳体10内配置有热交换器的情况下,气体加热部HT1也可以利用热交换器的一部分。另外,气体加热部HT1也可以包含与上述例示的加热器不同的加热器。气体加热部HT1的温度通过来自控制部CO的控制信号来调节。因此,气体加热部HT1加热的吹扫气体的温度通过来自控制部CO的控制信号来调节。

此外,在气体加热部HT1连接有设置有气体供给阀SV3的配管。气体供给阀SV3的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV3的配管与光路管51连接,该配管与光路管51连接的连接部是向光路管51内供给吹扫气体的气体供给口SP3。因此,从气体供给口SP3供给由气体加热部HT1加热后的吹扫气体。因此,气体供给口SP3是供给被加热的吹扫气体的加热气体供给口。

气体供给口SP3在光路管51中在窗口33的旁边朝向窗口33侧进行设置。气体供给口SP3也可以形成为与窗口33的任意一个表面对置。该情况下的任意一个表面不是与腔30内部相接的表面。以后,在其他窗口的说明中也同样。具体而言,气体供给口SP3被设置于向窗口33中的腔30侧的部位吹送吹扫气体的位置。因此,窗口33中的最接近气体供给口SP3的部位是腔30侧的部位。这里,腔30侧的部位是指相对于激光的行进方向倾斜的窗口33的接近腔3的一侧的一部分。如果进一步定义,则腔30侧的部位是指腔30内部的接近电极31或32的一侧的一部分。以后,在其他窗口的说明中也同样。另外,从气体供给口SP3供给的吹扫气体的温度比腔30内的温度高。如果腔30内的温度如上所述例如大致为65℃,则优选从气体供给口SP3供给且向窗口33吹送的吹扫气体的温度例如为80℃~100℃。如果是这种温度,则窗口33中的与腔30侧相反的一侧的温度、即被吹送吹扫气体的一侧的温度接近腔30内的温度。因此,能够减小窗口33的表面和背面的温度差。

此外,在从与从窗口33出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,本实施方式的排气口EP1被设置于作为光学元件的输出耦合镜OC1与气体供给口SP3之间。因此,与排气口EP1被设置于比输出耦合镜OC1靠与气体供给口SP3侧相反的一侧的位置的情况相比,抑制从气体供给口SP3供给的吹扫气体向输出耦合镜OC1侧流动。此外,排气口EP1被设置于从气体供给口SP3供给的吹扫气体容易沿着窗口33的表面流动的位置。具体而言,排气口EP1在光路管51的径向上的与设置有气体供给口SP3的一侧相反的一侧,被设置于窗口33中的比腔30侧的部位靠与腔30侧相反的一侧的部位的附近。

另外,在与气体供给口SP1连接的配管未连接气体加热部,因此,从气体供给口SP1供给非加热的吹扫气体。因此,气体供给口SP1是供给非加热的吹扫气体的非加热气体供给口。本实施方式的气体供给口SP1被设置于与比较例的气体供给口SP1相同的位置,因此,被设置于比作为光学元件的输出耦合镜OC1靠与排气口EP1侧相反的一侧的位置。

图5是示出从被设置于腔30的另一个窗口34到窄带化模块40为止的状况的图。如图3、图5所示,从连接吹扫气体歧管PM和气体供给阀SV2的配管分支出其他配管,在分支出的配管连接有气体加热部HT2。气体加热部HT2是与气体加热部HT1相同的结构。因此,气体加热部HT2对在配管内流动的吹扫气体进行加热。另外,气体加热部HT1和气体加热部HT2也可以一体地形成。气体加热部HT2通过来自控制部CO的控制信号来调节温度。因此,气体加热部HT2加热的吹扫气体的温度通过来自控制部CO的控制信号来调节。

此外,在气体加热部HT2连接有设置有气体供给阀SV4的配管。气体供给阀SV4的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV4的配管与光路管52连接,该配管与光路管52连接的连接部是向光路管52内供给吹扫气体的气体供给口SP4。因此,从气体供给口SP4供给由气体加热部HT2加热后的吹扫气体。因此,气体供给口SP4是供给被加热的吹扫气体的加热气体供给口。

气体供给口SP4在光路管52中在窗口34的旁边朝向窗口34侧进行设置。气体供给口SP4也可以形成为与窗口34的任意一个表面对置。具体而言,气体供给口SP4被设置于向窗口34中的腔30侧的部位吹送吹扫气体的位置。因此,窗口34中的最接近气体供给口SP4的部位是腔30侧的部位。另外,从气体供给口SP4供给的吹扫气体的温度与从气体供给口SP3供给的吹扫气体的温度相同。因此,通过从气体供给口SP4吹送吹扫气体,能够减小窗口34的表面和背面的温度差。

此外,在从与从窗口34出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,本实施方式的排气口EP2被设置于作为光学元件的棱镜43与气体供给口SP4之间。因此,与排气口EP2被设置于比棱镜43靠与气体供给口SP4侧相反的一侧的位置的情况相比,抑制从气体供给口SP4供给的吹扫气体向棱镜43侧流动。此外,排气口EP2被设置于从气体供给口SP4供给的吹扫气体容易沿着窗口34的表面流动的位置。具体而言,排气口EP2在光路管52的径向上的与设置有气体供给口SP4的一侧相反的一侧,被设置于窗口34中的比腔30侧的部位靠与腔30侧相反的一侧的部位的附近。

另外,在与气体供给口SP2连接的配管未连接气体加热部,因此,从气体供给口SP2供给非加热的吹扫气体。因此,气体供给口SP2是供给非加热的吹扫气体的非加热气体供给口。本实施方式的气体供给口SP2被设置于与比较例的气体供给口SP2相同的位置,因此,被设置于比作为光学元件的光栅42的至少一部分和棱镜43、44靠与排气口EP1侧相反的一侧的位置。

3.2动作

接着,对本实施方式的气体激光装置100的动作进行说明。

在本实施方式的气体激光装置100中,与比较例的气体激光装置100同样,在大气进入光路管51、52内的状态下,控制部CO关闭排气阀EV1、EV2。进而,控制部CO关闭气体供给阀SV0~SV4。因此,不向光路管51、52内供给吹扫气体,不从光路管51、52内排放气体。

接着,控制部CO打开排气阀EV1、EV2。在该时点,未供给吹扫气体,因此,不排放光路管51、壳体21和光路管53内的气体以及光路管52和壳体41内的气体。此外,控制部CO对气体加热部HT1、HT2进行控制,对配管内的吹扫气体进行加热。

接着,控制部CO打开气体供给阀SV0~SV4。从气体供给口SP1、SP2向壳体21、41内供给非加热的吹扫气体,从气体供给口SP3、SP4向光路管51、52内供给被加热的吹扫气体。因此,窗口33、34通过从气体供给口SP3、SP4供给的吹扫气体被加热。

如上所述,排气阀EV1已经打开,因此,光路管51、壳体21和光路管53内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP1经由配管被排放到壳体10内。因此,与比较例同样,通过吹扫气体降低壳体21、光路管51和光路管53内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在分束器22、输出耦合镜OC1和窗口33的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,输出耦合镜OC1位于气体供给口SP1与排气口EP1之间,因此,在输出耦合镜OC1的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制输出耦合镜OC1被加热。

此外,排气阀EV2已经打开,因此,光路管52和壳体41内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP2经由配管被排放到壳体10内。因此,与比较例同样,通过吹扫气体降低壳体41、光路管52内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在光栅42、棱镜43、44和窗口34的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,作为光学元件的光栅42的至少一部分和棱镜43、44位于气体供给口SP2与排气口EP2之间,因此,在这些光学元件的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制这些光学元件被加热。

被排放到壳体10内的气体从排气管道11被排放到壳体10的外部。

接着,与比较例同样,控制部CO以规定的期间维持该状态。在该期间内,光路管51、壳体21和光路管53内的氧浓度成为规定的浓度以下,光路管52和壳体41内的氧浓度成为规定的浓度以下。

此外,与比较例同样,控制部CO在该期间结束之前,向腔30内供给激光气体,使被供给的激光气体循环。

接着,与比较例同样,控制部CO使激光出射。

3.3作用/效果

本实施方式的气体激光装置具有气体供给口SP3、SP4,该气体供给口SP3、SP4是向包含光路管51、52内的空间在内的封闭空间内供给被加热的吹扫气体的加热气体供给口。因此,露出到光路管51、52内的窗口33、34的表面能够通过从气体供给口SP3、SP4供给的吹扫气体被加热。因此,与比较例相比,激光出射时的窗口33、34的腔30侧的温度和光路管51、52侧的温度之差能够减小。因此,根据本实施方式的气体激光装置100,在激光出射时窗口33、34被加热的情况下,与比较例的气体激光装置100相比,窗口33、34受到的热冲击也能够减小。此外,在激光出射的停止时窗口33、34的温度降低的情况下,与比较例的气体激光装置100相比,窗口33、34受到的热冲击也能够减小。因此,本实施方式的气体激光装置能够耐久性优异。

此外,在本实施方式的气体激光装置100中,气体供给口SP3、SP4被设置于向窗口33、34吹送吹扫气体的位置。因此,能够高效地对窗口33、34进行加热。另外,气体供给口SP3、SP4也可以不被设置于向窗口33、34吹送吹扫气体的位置。该情况下,通过从气体供给口SP3、SP4供给到封闭空间内的吹扫气体使封闭空间内的温度上升,由此,窗口33、34能够被加热。

此外,在本实施方式的气体激光装置100中,窗口33、34相对于激光的行进方向倾斜地设置,气体供给口SP3、SP4被设置于向窗口33、34中的腔30侧的部位吹送吹扫气体的位置。根据这种结构,吹扫气体容易在窗口33、34的表面流动,能够更加高效地对窗口33、34进行加热。

此外,在本实施方式的气体激光装置100中,在从与从窗口33出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,排气口EP1被设置于气体供给口SP3与作为光学元件的输出耦合镜OC1之间。此外,在从与从窗口34出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,排气口EP2被设置于气体供给口SP4与作为光学元件的棱镜43之间。因此,与排气口EP1、EP2被设置于比光学元件靠与气体供给口SP3、SP4侧相反的一侧的位置的情况相比,能够抑制从气体供给口SP3、SP4供给的被加热的吹扫气体在光学元件的周围流动。因此,能够抑制光学元件的温度上升而引起的激光的特性的变化。进而,在本实施方式的气体激光装置100中,具有气体供给口SP1、SP2,该气体供给口SP1、SP2被设置于比上述光学元件靠与排气口EP1、EP2侧相反的一侧的位置,向封闭空间内供给非加热的吹扫气体。因此,与被加热的吹扫气体相比,非加热的吹扫气体能够在光学元件的周围流动。因此,进一步抑制光学元件的温度的上升。另外,在容许光学元件的温度的上升的情况下,排气口EP1、EP2也可以被设置于比光学元件靠与气体供给口SP3、SP4侧相反的一侧的位置。此外,该情况下,气体供给口SP1、SP2也可以被设置于比光学元件靠排气口EP1、EP2侧的位置,也可以不设置气体供给口SP1、SP2而不供给非加热的吹扫气体。

此外,在本实施方式的气体激光装置100中,吹扫气体的温度比腔30内的温度高。因此,与吹扫气体的温度比腔30内的温度低的情况相比,能够抑制激光出射时的窗口33、34的温度的变化。另外,从气体供给口SP3、SP4供给的吹扫气体被加热即可,也可以不比腔30内的温度高。

另外,如果向包含光路管51内的空间在内的封闭空间和包含光路管52内的空间在内的封闭空间分别供给吹扫气体,则也可以向一个封闭空间供给被加热的吹扫气体,不向另一个封闭空间供给被加热的吹扫气体。该情况下,从窗口33出射的激光的功率比从窗口34出射的激光的功率大,因此,优选向包含光路管51内的空间在内的封闭空间供给被加热的吹扫气体。

此外,在本实施方式中,气体供给阀SV1~SV4被打开的时机相同,但是,例如,气体供给阀SV1、SV2被打开的时机和气体供给阀SV3、SV4被打开的时机也可以不同。但是,在激光出射的期间中的至少一部分期间内,气体供给阀SV3、SV4被打开,从气体供给口SP3、SP4供给被加热的吹扫气体。

4.实施方式2的气体激光装置的说明

接着,对实施方式2的气体激光装置进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

4.1结构

图6是示出本实施方式的气体激光装置中的从被设置于腔30的一个窗口33到被设置于壳体10的激光出射窗口OW为止的状况的图。如图6所示,在本实施方式的气体激光装置中,与实施方式1的气体激光装置100的不同之处在于具有窗口罩65。窗口罩65在光路管51内覆盖窗口33,形成有供激光通过的缝65S。此外,根据不在缝65S形成不需要的区域的观点,优选在沿着从窗口33出射的激光观察的情况下,缝65S与通过缝65S的激光的截面形状大致为相似形。

图7是正面观察窗口罩65的图。如图6、图7所示,本实施方式的设置有气体供给阀SV3的配管与窗口罩65连接。另外,在图7中,该配管利用虚线示出。在本实施方式中,设置有气体供给阀SV3的配管与窗口罩65连接的连接部是气体供给口SP3,向窗口33与窗口罩65之间供给被加热的吹扫气体。根据能够容易地形成窗口罩65的观点,优选窗口罩65例如由金属构成,作为金属,例如能够举出铝、不锈钢。但是,根据能够抑制被供给到窗口33与窗口罩65之间的吹扫气体的温度的降低的观点,优选窗口罩65由绝热性的材料构成。本说明书中的绝热性意味着热传导性比金属低。作为绝热性的材料,能够举出陶瓷、玻璃等。

另外,在图6所示的例子中,窗口罩65由1枚板状的部件形成。但是,窗口罩65不限于这种结构。图8是示出窗口罩65的变形例的图。如图8所示,本变形例的窗口罩65是多个罩部件65P彼此隔开间隔配置的多层构造。根据能够抑制被供给到窗口33与窗口罩65之间的吹扫气体的温度的降低的观点,本变形例的窗口罩65是优选的。此外,根据本变形例的窗口罩65,与图6所示的窗口罩65相比,被供给到窗口33与窗口罩65之间的吹扫气体容易滞留,因此是优选的。

另外,虽然没有特别图示地示出,但是,窗口34也可以被与本实施方式的窗口罩65相同的窗口罩覆盖。该情况下,气体供给口SP4被设置于覆盖窗口34的窗口罩,向窗口34与覆盖窗口34的窗口罩之间供给被加热的吹扫气体。

4.2作用/效果

在本实施方式的气体激光装置100中,具有在光路管51内覆盖窗口33的窗口罩,气体供给口SP3被设置于向窗口33与窗口罩65之间供给吹扫气体的位置。因此,能够高效地对窗口33进行加热。此外,如果窗口罩65由绝热性的部件构成,则能够更加高效地对窗口33进行加热。此外,如图8所示,如果窗口罩65是多个罩部件65P彼此隔开间隔配置的多层构造,则能够更加高效地对窗口33进行加热。

5.实施方式3的气体激光装置的说明

接着,对实施方式3的气体激光装置进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

5.1结构

图9是示出本实施方式的气体激光装置中的从被设置于腔30的一个窗口33到被设置于壳体10的激光出射窗口OW为止的状况的图。如图9所示,本实施方式的气体激光装置与实施方式1的气体激光装置的不同之处在于包含壁部51W。

壁部51W被设置于光路管51内的窗口33与作为光学元件的输出耦合镜OC1之间,堵住光路管51。但是,在壁部51W形成有缝51S。该缝51S被形成为,在窗口33与输出耦合镜OC1之间传播的激光能够通过。此外,根据不在缝51S形成不需要的区域的观点,优选缝51S与通过缝51S的激光的截面形状大致为相似形。根据不产生排放气体等的观点,优选壁部51W例如由金属构成,作为金属,例如能够举出铝、不锈钢。但是,根据能够抑制被供给到窗口33与壁部51W之间的吹扫气体的温度的降低的观点,优选由陶瓷、玻璃等绝热性的材料构成。

气体供给口SP3被设置于与实施方式1中的气体供给口SP3相同的位置。因此,被加热的吹扫气体被供给到窗口33与壁部51W之间。

在本实施方式中,排气口EP1被设置于壁部51W与作为光学元件的输出耦合镜OC1之间。因此,窗口33与壁部51W之间的气体通过缝51S从排气口EP1被排放。

另外,虽然没有特别图示地示出,但是,也可以在光路管52设置与本实施方式的壁部51W相同的壁部。该情况下,被设置于光路管52的壁部被设置于窗口34与作为光学元件的棱镜43之间的位置,气体供给口SP4被设置于比被设置于光路管52的壁部靠窗口34侧的位置。此外,优选排气口EP2被设置在被设置于光路管52的壁部与棱镜43之间。

5.2作用/效果

本实施方式的气体激光装置具有壁部51W,该壁部51W被设置于光路管51内的窗口33与作为光学元件的输出耦合镜OC1之间的位置,气体供给口SP3被设置于比壁部51W靠窗口33侧的位置。因此,壁部51W成为障壁,与实施方式1的气体激光装置100相比,能够容易地使被加热的吹扫气体滞留于窗口33与壁部51W之间。因此,与实施方式1的气体激光装置100相比,能够高效地对窗口33进行加热。

此外,在本实施方式中,排气口EP1被设置于壁部51W与输出耦合镜OC1之间,因此,与排气口EP1被设置于窗口33与壁部51W之间的情况相比,能够高效地对窗口33进行加热。另外,排气口EP1也可以被设置于窗口33与壁部51W之间。

6.实施方式4的气体激光装置的说明

接着,对实施方式4的气体激光装置进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

6.1结构

图10是示出本实施方式的气体激光装置中的从被设置于腔30的一个窗口33到被设置于壳体10的激光出射窗口OW为止的状况的图。如图10所示,本实施方式的气体激光装置与实施方式1的气体激光装置的不同之处在于,光路管51被罩部件51C覆盖。罩部件51C是绝热性的层,例如由树脂、发泡金属、玻璃、气凝胶等构成。另外,虽然没有特别图示,但是,光路管52也可以被与罩部件51C相同的罩部件覆盖。

图11是示出本实施方式中的气体激光装置的变形例的图。如图11所示,在本变形例中,与图10的例子的不同之处在于,在光路管51与罩部件51C之间设置有空气层51A。根据提高绝热性的观点,优选空气层51A被减压。在本变形例中,空气层51A是绝热性的层,因此,罩部件51C也可以不是绝热性的。另外,虽然没有特别图示,但是,光路管52也可以隔着空气层被与本例的罩部件51C相同的罩部件覆盖。

图12是示出本实施方式中的气体激光装置的另一个变形例的图。如图12所示,在本变形例中,与实施方式1的气体激光装置、图10的例子的不同之处在于,光路管51由绝热性的材料构成。作为这种材料,能够举出陶瓷、玻璃。另外,虽然没有特别图示,但是,光路管52也可以由绝热性的材料构成。

6.2作用/效果

在本实施方式的气体激光装置中,如使用图10、图11说明的那样,光路管51的外周面被绝热性的层覆盖,或者,如使用图12说明的那样,光路管51由绝热性的材料构成。因此,能够抑制从气体供给口SP3供给的被加热的吹扫气体的温度的降低。因此,能够高效地对窗口33进行加热。

另外,在本实施方式中,示出光路管51的整体的外周面被绝热性的层覆盖、或光路管51的整体由绝热性的材料构成的例子。但是,只要光路管51的至少一部分的外周面被绝热性的层覆盖、或光路管51的至少一部分由绝热性的材料构成,则能够抑制吹扫气体的温度的降低,高效地对窗口33进行加热。例如,也可以构成为,光路管51中的设置有气体供给口SP3的位置的外周面被绝热性的层覆盖,光路管51的外周面中的比排气口EP1靠输出耦合镜OC1侧的位置不被绝热性的层覆盖。此外,也可以是光路管51中的设置有气体供给口SP3的位置由绝热性的材料构成,光路管51中的比排气口EP1靠输出耦合镜OC1侧的位置由非绝热性的材料构成。

7.实施方式5的气体激光装置的说明

接着,对实施方式5的气体激光装置进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

7.1结构

图13是示出本实施方式中的气体激光装置的主要部分的概略结构的图。但是,与图3不同,从看起来电极31、32重叠的方向示出气体激光装置的主要部分。如图13所示,本实施方式的气体激光装置与实施方式1的气体激光装置100的不同之处在于,不具有气体加热部HT1、HT2,设置有气体供给阀SV3、SV4的配管的一部分在腔30的外表面上延伸。如图13所示,设置有气体供给阀SV3、SV4的配管的一部分被配置成与腔30的外表面接触。

如上所述,腔30由金属构成,腔30内的温度例如大致为65℃。腔30的外表面的温度为比腔30内的温度稍低的程度。腔30对在腔30的外表面上延伸的配管进行加热,该配管被加热,由此,在该配管内流动的吹扫气体被加热。因此,根据热传导性优异的观点,优选配管由金属构成。此外,配管可以构成为在腔30的外表面蛇行。这样,可以有效地从腔30的外表面向配管的一部分传递热。

例如,也可以构成为,在腔30形成有槽,设置有气体供给阀SV3、SV4的配管的一部分被配置于该槽内,由此,配管在腔30的外表面上延伸。此外,虽然没有特别图示,但是,也可以在腔30的壁内设置孔,该孔成为设置有气体供给阀SV3、SV4的配管的一部分。该情况下,腔30兼作为配管的一部分。此外,虽然没有特别图示,但是,设置有气体供给阀SV3、SV4的配管的一部分也可以通过腔30内。该情况下,能够更加高效地对在配管内流动的吹扫气体进行加热。此外,配管也可以隔着使传热良好的结构被固定于腔30的外表面。这样,配管和腔30的外表面隔着另一部件热接触即可。

7.2作用/效果

在本实施方式的气体激光装置100中,腔30对配管的一部分进行加热,向气体供给口SP3、SP4供给的吹扫气体在该配管中流动。由于放电而使腔30产生的热向在未图示的散热器中流动的冷却水进行散热。即,气体激光装置100舍弃腔30产生的不需要的热。根据本实施方式的气体激光装置100,能够利用该不需要的热对吹扫气体进行加热。因此,也可以不具有气体加热部,能够减少气体加热所需要的能量。

8.实施方式6的气体激光装置的说明

接着,对实施方式6的气体激光装置进行说明。另外,对与上述说明的结构相同的结构标注相同的标号,除了特别说明的情况以外,省略重复的说明。

8.1结构

图14是示出本实施方式中的气体激光装置的整体的概略结构例的图。如图14所示,本实施方式的气体激光装置100与实施方式1的气体激光装置100的不同之处主要在于,包含与实施方式1的激光振荡器LO相同的结构的主振荡器MO,还包含放大器PA和光传输单元80、90。

放大器PA包含腔70、一对电极71、72、电极保持架72h、一对窗口73、74、充电器75、脉冲功率模块76、绝缘部77、横流风扇78、马达79、后镜RM和输出耦合镜OC2作为主要结构。

放大器PA的腔70、一对电极71、72、电极保持架72h和绝缘部77的结构与主振荡器MO的腔30、一对电极31、32、电极保持架32h和绝缘部37的结构相同。一对电极71、72在腔70内彼此对置地配置。绝缘部77堵住被形成于腔70的开口,电极71被支承于绝缘部77。电极72被支承于电极保持架72h,电极保持架72h被固定于腔70的内表面,与腔70电连接。

放大器PA的充电器75、脉冲功率模块76的结构与主振荡器MO的充电器35、脉冲功率模块36的结构相同。因此,绝缘部77的馈通件将从脉冲功率模块76供给的电压施加给电极71。脉冲功率模块76使从充电器75施加的电压升压,生成脉冲状的高电压,将该高电压施加给一对电极71、72之间。

放大器PA的横流风扇78、马达79的结构与主振荡器MO的横流风扇38、马达39的结构相同。因此,横流风扇78被配置于腔70内,腔70内的配置有横流风扇78的空间和一对电极71、72之间的空间彼此连通。横流风扇78旋转,由此,被封入腔70内的激光气体沿规定的方向循环。在横流风扇78连接有马达79,马达79旋转,由此,横流风扇78旋转。控制部CO通过控制马达79,能够对在腔70内循环的激光气体的循环速度进行调节。

窗口73、74的结构与主振荡器MO的窗口33、34的结构相同。因此,窗口73、74以相对于激光的行进方向呈布儒斯特角的方式倾斜地被设置于腔70中的隔着电极71与电极72之间的空间彼此对置的位置。窗口73被设置于腔70中的激光的行进方向上的一端,窗口74被设置于腔70中的激光的行进方向上的另一端。窗口73、74通过图15、16所示的窗口保持架73H、74H被固定于腔70。如后所述,在气体激光装置100中,在腔30内被放大的激光经由窗口73、74向腔70的外部出射。

在腔70中的设置有窗口73的上述一端侧连接有与光路管51的结构相同的结构的光路管55。腔70中的设置有窗口73的位置以与光路管55的内壁隔开间隙而进入光路管55内的方式突出。因此,窗口73位于光路管55内。

在腔70中的设置有窗口74的上述另一端侧连接有与光路管52的结构相同的结构的光路管56。即,与腔70连接的光路管包含光路管55和光路管56。腔70中的设置有窗口74的位置以与光路管56的内壁隔开间隙而进入光路管56内的方式突出。因此,窗口74位于光路管56内。

输出耦合镜OC2的结构与主振荡器MO的输出耦合镜OC1的结构相同。输出耦合镜OC2被设置于以腔70为基准的上述一端侧,被配置于光路管55内。输出耦合镜OC2是供从窗口73出射的激光入射的光学元件,使从窗口73出射的光中的一部分透过,使另一部分反射而经由窗口73返回到腔70内。

后镜RM被设置于以腔70为基准的上述另一端侧,被配置于光路管56内。后镜RM是供从窗口74出射的激光入射的光学元件,使从窗口74出射的光中的至少一部分反射而经由窗口74返回到腔70内。此外,后镜RM使从与腔70侧相反的一侧入射的光透过,使其经由窗口74入射到腔70内。后镜RM例如由在氟化钙的基板形成有电介质多层膜而成的元件构成。

利用隔着腔70设置的输出耦合镜OC2和后镜RM构成光谐振器,腔70被配置于该光谐振器的光路上。因此,透过后镜RM而入射到腔70的光在输出耦合镜OC2与后镜RM之间往复,每当通过电极71与电极72之间的激光增益空间时被放大。被放大的光的一部分透过输出耦合镜OC2,出射被放大的激光。作为这种放大器PA,例如举出注入锁定方式的放大器。

主振荡器MO的光路管51和放大器PA的光路管56经由光传输单元80彼此连接。光传输单元80包含壳体81和一对反射镜82、83。壳体81的与光路管51连接的连接部开口,壳体81内的空间和光路管51内的空间通过该开口彼此连通。此外,壳体81的与光路管56连接的连接部开口,壳体81内的空间和光路管56内的空间通过该开口彼此连通。因此,利用腔30的一部分、窗口33、光路管51、壳体81、光路管56、窗口74和腔70的一部分形成封闭空间,该封闭空间包含光路管51内和光路管56内的空间。反射镜82、83的角度适当被调整,被配置于壳体81内。透过主振荡器MO的输出耦合镜OC1而出射的激光在反射镜82、83反射,而入射到放大器PA的后镜RM。该激光的至少一部分透过后镜RM。

放大器PA的光路管55和能量监视器模块20的壳体21经由光传输单元90和光路管57彼此连接。光路管57是由金属构成的筒状的部件。光传输单元90包含壳体91和一对反射镜92、93。壳体91的与光路管55连接的连接部开口,壳体91内的空间和光路管55内的空间通过该开口彼此连通。此外,壳体91的与光路管57连接的连接部开口,壳体91内的空间和光路管57内的空间通过该开口彼此连通。能量监视器模块20的壳体21与光路管57连接。壳体21内的空间和光路管57内的空间通过被形成于壳体21的开口连通。另外,与实施方式1同样,在能量监视器模块20的壳体21连接有光路管53,光路管53与壳体10连接。进而,在壳体10中的被光路管53包围的位置设置有激光出射窗口OW。因此,利用激光出射窗口OW、壳体10的一部分、光路管53、壳体21、光路管57、壳体91、光路管55、腔70的一部分和窗口73形成封闭空间,该封闭空间包含光路管55内的空间。反射镜92、93的角度适当被调整,被配置于壳体91内。透过放大器PA的输出耦合镜OC2而出射的激光在反射镜92、93反射,经由光路管57入射到能量监视器模块。因此,在本实施方式中,能量监视器模块20的分束器22和脉冲能量传感器23是供从放大器PA的窗口73出射的激光入射的光学元件。

在放大器PA的光路管55连接有设置有排气阀EV3的配管。排气阀EV3的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有该排气阀EV3的配管与光路管55连接的连接部是排放光路管55内的气体的排气口EP3。因此,排气阀EV3打开,由此,光路管55内的气体从排气口EP3被排放。

在放大器PA的光路管56连接有设置有排气阀EV4的配管。排气阀EV4的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有该排气阀EV4的配管与光路管56连接的连接部是排放光路管56内的气体的排气口EP4。因此,排气阀EV4打开,由此,光路管56内的气体从排气口EP4被排放。

在放大器PA的光路管53还连接有设置有排气阀EV5的配管。排气阀EV5的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有排气阀EV5的配管与光路管53连接的连接部是排放光路管53内的气体的排气口EP5。因此,排气阀EV5打开,由此,光路管53内的气体经由排气口EP5被排放。因此,壳体91、光路管57、壳体21和光路管53内的气体从排气口EP5被排放。

在光传输单元80的壳体81中的光路管51的连接部与光路管56的连接部的大致中间连接有设置有排气阀EV6的配管。排气阀EV6的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有排气阀EV6的配管与壳体81连接的连接部是排放壳体81内的气体的排气口EP6。因此,排气阀EV6打开,由此,壳体81内的气体从排气口EP6被排放。

另外,设置有排气阀EV3~EV6的配管与其他配管连接,该其他配管与设置有主振荡器MO的排气阀EV1、EV2的配管连接。因此,从排气口EP3~EP6排放的气体经由该其他配管被排放到壳体10内。

在本实施方式中,设置有主振荡器MO用的气体供给阀SV1的配管与光路管51中的比输出耦合镜OC1靠与腔30侧相反的一侧的位置连接。因此,主振荡器MO用的气体供给口SP1被设置于光路管51中的比输出耦合镜OC1靠与腔30侧相反的一侧的位置。如上所述,壳体81内的空间和光路管51内的空间彼此连通,因此,气体供给口SP1经由光路管51向光传输单元80的壳体81内供给吹扫气体。

在吹扫气体歧管PM,除了连接有与实施方式1中说明的吹扫气体歧管PM连接的配管以外,还连接有多个配管,在其中一个配管的中途设置有放大器PA用的气体供给阀SV5。气体供给阀SV5的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV5的配管与光传输单元90的壳体91连接。该连接部是向壳体91内供给吹扫气体的放大器PA用的气体供给口SP5。因此,气体供给口SP5经由壳体91向光路管55内、光路管57、壳体21和光路管53内供给吹扫气体。

此外,从连接吹扫气体歧管PM和气体供给阀SV5的配管分支出其他配管,在分支出的配管连接有气体加热部HT3。气体加热部HT3例如是与气体加热部HT1相同的结构。因此,气体加热部HT3加热的吹扫气体的温度通过来自控制部CO的控制信号来调节。

此外,在气体加热部HT3连接有设置有气体供给阀SV7的配管。气体供给阀SV7的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV7的配管与光路管55连接,该配管与光路管55连接的连接部是向光路管55内供给吹扫气体的气体供给口SP7。因此,从气体供给口SP7供给由气体加热部HT3加热后的吹扫气体。因此,气体供给口SP7是供给被加热的吹扫气体的加热气体供给口。

图15是示出从被设置于图14的放大器PA的腔70的一个窗口73到光传输单元90的状况的图。如图15所示,气体供给口SP7在光路管55中在窗口73的旁边朝向窗口73侧进行设置。气体供给口SP7也可以形成为与窗口73的任意一个表面对置。具体而言,气体供给口SP7被设置于向窗口73中的腔70侧的部位吹送吹扫气体的位置。因此,窗口73中的最接近气体供给口SP7的部位是腔70侧的部位。另外,从气体供给口SP7供给的吹扫气体的温度比腔70内的温度高。如果腔70内的温度如腔30内的温度那样例如大致为65℃,则优选从气体供给口SP7供给且向窗口73吹送的吹扫气体的温度例如为80℃~100℃。如果是这种温度,则窗口73中的与腔70侧相反的一侧的温度、即被吹送吹扫气体的一侧的温度将接近腔70内的温度。因此,能够减小窗口73的表面和背面的温度差。

此外,在从与从窗口73出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,本实施方式的排气口EP3被设置于作为光学元件的输出耦合镜OC2与气体供给口SP7之间。因此,与排气口EP3被设置于比输出耦合镜OC2靠与气体供给口SP7侧相反的一侧的位置的情况相比,抑制从气体供给口SP7供给的吹扫气体向输出耦合镜OC2侧流动。此外,排气口EP3被设置于从气体供给口SP7供给的吹扫气体容易沿着窗口73的表面流动的位置。具体而言,排气口EP3在光路管55的径向上的与设置有气体供给口SP7的一侧相反的一侧、被设置于窗口73中的比腔70侧的部位靠与腔70侧相反的一侧的部位的附近。

另外,在与气体供给口SP5连接的配管未连接气体加热部,因此,从气体供给口SP5供给非加热的吹扫气体。因此,气体供给口SP5是供给非加热的吹扫气体的非加热气体供给口。本实施方式的气体供给口SP5被设置于壳体91,因此,被设置于比作为光学元件的输出耦合镜OC2靠与排气口EP3侧相反的一侧的位置。

返回图14进行说明时,在与吹扫气体歧管PM连接的另一个配管的中途设置有放大器PA用的气体供给阀SV6。气体供给阀SV6的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV6的配管与光路管56连接。该连接部是向光路管56内供给吹扫气体的气体供给口SP6。因此,气体供给口SP6经由光路管56向光传输单元80的壳体81内供给吹扫气体。

此外,从连接吹扫气体歧管PM和气体供给阀SV6的配管分支出其他配管,在分支出的配管连接有气体加热部HT4。气体加热部HT4例如是与气体加热部HT1相同的结构。因此,气体加热部HT4加热的吹扫气体的温度通过来自控制部CO的控制信号来调节。

此外,在气体加热部HT4连接有设置有气体供给阀SV8的配管。气体供给阀SV8的开度通过来自控制部CO的控制信号来调节。设置有气体供给阀SV8的配管与光路管56连接,该配管与光路管56连接的连接部是向光路管56内供给吹扫气体的气体供给口SP8。因此,从气体供给口SP8供给由气体加热部HT4加热后的吹扫气体。因此,气体供给口SP8是供给被加热的吹扫气体的加热气体供给口。

图16是示出从被设置于图14的放大器PA的腔70的另一个窗口74到光传输单元80的状况的图。如图16所示,气体供给口SP8在光路管56中在窗口74的旁边朝向窗口74侧进行设置。气体供给口SP8也可以形成为与窗口74的任意一个表面对置。具体而言,气体供给口SP8被设置于向窗口74中的腔70侧的部位吹送吹扫气体的位置。因此,窗口74中的最接近气体供给口SP8的部位是腔70侧的部位。另外,从气体供给口SP8供给的吹扫气体的温度比腔70内的温度高。从气体供给口SP8供给且向窗口73吹送的吹扫气体的温度与从气体供给口SP7供给的吹扫气体的温度相同。因此,能够减小窗口73的表面和背面的温度差。

此外,在从与从窗口74出射的激光的行进方向垂直的方向观察的情况下,本实施方式的排气口EP4被设置于作为光学元件的后镜RM与气体供给口SP8之间。因此,与排气口EP4被设置于比后镜RM靠与气体供给口SP8侧相反的一侧的位置的情况相比,抑制从气体供给口SP8供给的吹扫气体向后镜RM侧流动。此外,排气口EP4被设置于从气体供给口SP8供给的吹扫气体容易沿着窗口74的表面流动的位置。具体而言,排气口EP4在光路管56的径向上的与设置有气体供给口SP8的一侧相反的一侧、被设置于窗口74中的比腔70侧的部位靠与腔70侧相反的一侧的部位的附近。

另外,在与气体供给口SP6连接的配管未连接气体加热部,因此,从气体供给口SP6供给非加热的吹扫气体。因此,气体供给口SP6是供给非加热的吹扫气体的非加热气体供给口。本实施方式的气体供给口SP6被设置于比作为光学元件的后镜RM靠与排气口EP4侧相反的一侧的位置。

返回图14进行说明时,在本实施方式中,在激光气体供给装置63,除了连接有与腔30连接的配管以外,还连接有与腔70连接的配管。因此,激光气体供给装置63经由该配管向腔70内供给激光气体。该配管与腔70连接的连接部是向腔70内供给激光气体的激光气体供给口LSP2。

在本实施方式的排气装置64,除了连接有与腔30连接的配管以外,还连接有与腔70连接的配管。因此,排气装置64除了将腔30内的气体经由配管排放到壳体10内以外,还将腔70内的气体经由配管排放到壳体10内。此时,排气装置64通过来自控制部CO的控制信号调节排气量等,对从腔30和腔70内排放的气体进行通过未图示的卤素过滤器去除F2气体的处理。与排气装置64连接的配管与腔70连接的连接部是从腔70内排放气体的激光气体排气口LEP2。

8.2动作

在气体激光装置100中,例如在新导入时、维护时等,大气进入主振荡器MO中的光路管51内和光路管52内、以及放大器PA中的光路管55内和光路管56内。在该状态下,与实施方式1同样,控制部CO关闭排气阀EV1、EV2和气体供给阀SV0~SV4。进而,在本实施方式中,控制部CO关闭排气阀EV3~EV6和气体供给阀SV5~SV8。因此,不向主振荡器MO的光路管51、52内供给吹扫气体,不从光路管51、52内排放气体,不向放大器PA的光路管55、56内供给吹扫气体,不从光路管55、56排放气体。

接着,控制部CO打开主振荡器MO用的排气阀EV1、EV2、放大器PA用的排气阀EV3、EV4和排气阀EV5、EV6。在该时点,各气体供给阀关闭,因此,不供给吹扫气体,不排放光路管51、52、55、56内的气体。

接着,控制部CO打开气体供给阀SV0~SV8。从气体供给口SP1、SP2、SP5、SP6向光路管51、壳体41、壳体91、光路管56内供给非加热的吹扫气体,从气体供给口SP3、SP4、SP7、SP8向光路管51、52、55、56内供给被加热的吹扫气体。因此,窗口33、34、73、74通过从气体供给口SP3、SP4、SP7、SP8供给的吹扫气体被加热。

如上所述,排气阀EV1、EV6已经打开,因此,光路管51、壳体81内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP1、EP6经由配管被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低光路管51、壳体81内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在反射镜82、输出耦合镜OC1和窗口33的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,输出耦合镜OC1位于气体供给口SP1与排气口EP1之间,因此,在输出耦合镜OC1的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制输出耦合镜OC1被加热。此外,反射镜82位于气体供给口SP1与排气口EP6之间,因此,在反射镜82的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制反射镜82被加热。

此外,排气阀EV2已经打开,因此,与实施方式1同样,光路管52和壳体41内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP2经由配管被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低壳体41、光路管52内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在光栅42、棱镜43、44和窗口34的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,作为光学元件的光栅42的至少一部分和棱镜43、44位于气体供给口SP2与排气口EP2之间,因此,在这些光学元件的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制这些光学元件被加热。

此外,排气阀EV3、EV5已经打开,因此,光路管55、壳体91、光路管57、壳体21和光路管53内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP3、EP5经由配管被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低光路管55、壳体91、光路管57、壳体21和光路管53内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在输出耦合镜OC2、反射镜92、93、分束器22和窗口73的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,输出耦合镜OC2位于气体供给口SP5与排气口EP3之间,因此,在输出耦合镜OC2的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制输出耦合镜OC2被加热。此外,反射镜92、93和分束器22位于气体供给口SP5与排气口EP5之间,因此,在反射镜92、93和分束器22的周围主要流动着非加热的吹扫气体。因此,抑制反射镜92、93和分束器22被加热。

此外,排气阀EV4、EV6已经打开,因此,光路管56、壳体81内的气体被吹扫气体推出,从排气口EP4、EP6经由配管被排放到壳体10内。因此,通过吹扫气体降低光路管56、壳体81内的氧浓度,维持降低了氧浓度的状态。此外,气体在反射镜83、后镜RM和窗口74的表面上流动,能够抑制杂质等附着于这些表面。此时,后镜RM位于气体供给口SP6与排气口EP4之间,因此,在后镜RM的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制后镜RM被加热。此外,反射镜83位于气体供给口SP6与排气口EP6之间,因此,在反射镜83的周围主要流动着非加热的吹扫气体,抑制反射镜83被加热。

被排放到壳体10内的气体从排气管道11被排放到壳体10的外部。

接着,控制部CO以与比较例相同的规定的期间维持该状态。在该期间内,光路管51~57、壳体21、41、81、91内的氧浓度成为规定的浓度以下。

此外,控制部CO在该期间结束之前,向腔30内和腔70内供给激光气体,使被供给的激光气体循环。在本实施方式中,向腔30内供给激光气体并使激光气体循环的步骤与比较例中向腔30内供给激光气体并使激光气体循环的步骤相同。向腔70内供给激光气体并使激光气体循环的步骤如下所述。控制部CO对排气装置64进行控制,使腔70内的气体从激光气体排气口LEP2排放到壳体10内。然后,控制部CO对激光气体供给装置63进行控制,从激光气体供给口LSP2供给规定量的激光气体。其结果,激光气体被封入腔70内。此外,控制部CO对马达79进行控制,使横流风扇78旋转。通过横流风扇78的旋转,激光气体被循环。

接着,与实施方式1同样,控制部CO使激光从主振荡器MO的输出耦合镜OC1出射。此外,控制部CO对充电器75和脉冲功率模块76内的开关进行控制,对电极71、72之间施加高电压。在对电极71、72之间施加高电压时,电极71、72之间的绝缘被破坏而引起放电。通过该放电的能量,电极71、72之间的激光气体中包含的激光介质成为激励状态。另外,控制部CO对放大器PA进行控制,以使得在激光从主振荡器MO出射之前,电极71、72之间的激光介质成为激励状态。从输出耦合镜OC1出射的激光在光传输单元80的反射镜82、83反射,经由放大器PA的后镜RM和窗口74向腔70内传播。通过该激光,电极71、72之间的激励状态的激光介质引起感应放出,光被放大。这样,规定的波长的激光在输出耦合镜OC2与后镜RM之间谐振,激光进一步被放大。然后,一部分激光透过输出耦合镜OC2,从放大器PA出射。从放大器PA出射的激光在光传输单元90的反射镜92、93反射,经由光路管57、能量监视器模块20和光路管53从激光出射窗口OW出射。

另外,在本实施方式中,能量监视器模块20使从放大器PA出射的激光的一部分在分束器22反射,脉冲能量传感器23将基于该光的能量的强度的信号输出到控制部CO。控制部CO根据该信号对充电器35、75、脉冲功率模块36、76进行控制,而调节要出射的激光的功率。

8.3作用/效果

根据本实施方式的气体激光装置100,利用放大器PA对从主振荡器MO出射的光进行放大,因此,能够出射功率更高的激光。此外,与实施方式1同样,在激光出射时主振荡器MO的窗口33、34被加热的情况下,窗口33、34受到的热冲击也能够减小。此外,放大器PA的窗口73、74的表面能够通过从气体供给口SP7、SP8供给的吹扫气体被加热。因此,与窗口73、74未被吹扫气体加热的情况相比,激光出射时的窗口73、74的腔70侧的温度和光路管55、56侧的温度之差能够减小。因此,在从放大器PA出射激光时窗口73、74被加热的情况下,窗口73、74受到的热冲击也能够减小。因此,本实施方式的气体激光装置100能够耐久性优异。

另外,在本实施方式中,向包含光路管51内的空间在内的封闭空间、包含光路管52内的空间在内的封闭空间、包含光路管55内的空间在内的封闭空间和包含光路管56内的空间在内的封闭空间分别供给吹扫气体,向任意一个封闭空间供给被加热的吹扫气体即可,也可以不向其他封闭空间供给被加热的吹扫气体。该情况下,优选不向主振荡器MO的光路管51、52内供给被加热的吹扫气体,向放大器PA的光路管55、56内供给被加热的吹扫气体。或者,也可以向放大器PA的激光的出射侧的光路管55内供给被加热的吹扫气体,不向主振荡器MO的光路管51、52内和放大器PA的激光的入射侧的光路管56内供给被加热的吹扫气体。这样,向功率比较大的光透过的窗口选择性地供给被加热的吹扫气体,也可以抑制吹扫气体的加热所需要的成本。

此外,在本实施方式中,气体供给阀SV1~SV8被打开的时机相同,但是,例如,气体供给阀SV1、SV2、SV5、SV6被打开的时机和气体供给阀SV3、SV4、SV7、SV8被打开的时机也可以不同。但是,在激光出射的期间中的至少一部分期间内,气体供给阀SV3、SV4、SV7、SV8被打开,从气体供给口SP3、SP4、SP7、SP8供给被加热的吹扫气体。

此外,在本实施方式中,主振荡器MO也可以由纤维激光装置等其他激光装置构成。此外,放大器PA也可以不具有后镜和输出耦合镜OC2。该情况下,在放大器PA中不产生光的谐振,但是,激光通过腔70,由此,该激光被放大。

此外,在本实施方式中,在被供给被加热的吹扫气体的部位,也可以应用实施方式2~5的结构。

上述说明的意图不是限制,而是简单的例示。因此,本领域技术人员明白能够在不脱离权利要求书的情况下对本公开的实施方式施加变更。此外,本领域技术人员还明白组合使用本公开的实施方式。

只要没有明确记载,则本说明书和权利要求书整体所使用的用语应该解释为“非限定性”用语。例如,“包含”或“所包含”这样的用语应该解释为“不限于记载为所包含的部分”。“具有”这样的用语应该解释为“不限于记载为所具有的部分”。此外,不定冠词“一个”应该解释为意味着“至少一个”或“一个或一个以上”。此外,“A、B和C中的至少一个”这样的用语应该解释为“A”、“B”、“C”、“A+B”、“A+C”、“B+C”或“A+B+C”。进而,应该解释为还包含它们和“A”、“B”、“C”以外的部分的组合。

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