具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细地说明。另外，上下左右等位置关系只要没有特别说明，则基于附图所示的位置关系。此外，附图的尺寸比率并不限定于图示的比率。但是，以下的实施方式是用于说明本发明的例示，本发明并不限定于此。另外，在本说明书中，例如“1～100”的数值范围的表述包含其上限值“100”以及下限值“1”双方。此外，其他数值范围的表述也相同。

(第一实施方式)

图1是示意性地表示本发明的第一实施方式的透镜用间隔件100的立体图，图2是表示透镜用间隔件100的主要部位的剖视图(图1的II-II剖面)。该透镜用间隔件100是在至少1个以上的透镜于该透镜的光轴方向上堆叠而成的透镜单元中使用的透镜用间隔件。作为基材膜11，透镜用间隔件100具备含有树脂以及颜料的延伸树脂膜。透镜用间隔件100在俯视时外形形成为大致圆状、并且在其大致中央具有环状的外形，该外形具有大致圆柱状的中空部13，在剖视时具有中空板状的外形。

在透镜用间隔件100的中空部13的内周端面设置具有朝向作为基材的基材膜11的面内方向形成为凸状的尖状凹部31a的内周开口部31。在该内周开口部31中，尖状凹部31a从内周端面的开口朝向基材膜11的面内方向具有5μm以上的最大深度La，由此，不仅能够有效地抑制因内周面的光的反射而产生的光斑现象，还能够有效地抑制因内周面的光的反射而导致的重影的产生。从光斑现象以及重影的抑制、透镜用间隔件100的机械强度等观点出发，能够适当调整尖状凹部31a的最大深度La，没有特别限定，优选为5μm以上且小于20μm，更优选为7μm以上且小于18μm，进一步优选为10μm以上且小于16μm。

另一方面，在透镜用间隔件100的外周端面设置具有朝向基材膜11的面内方向形成为凸状的尖状凹部41a的外周开口部41。在该外周开口部41中，尖状凹部41a从外周端面的开口朝向基材膜11的面内方向具有5μm以上的最大深度Lb，由此，抑制了因外周端面处的光的反射而产生的光斑现象。从抑制光斑现象、透镜用间隔件100的机械的强度等观点出发，能够适当调整尖状凹部41a的最大深度Lb，没有特别限定，优选为5μm以上且20μm小于，更优选为7μm以上且小于18μm，进一步优选为10μm以上且小于16μm。

构成基材膜11的延伸树脂膜的种类没有特别限定。作为延伸树脂膜，可以是在流动方向(MD方向)上延伸的单轴延伸树脂膜，也可以是在宽度方向(TD方向)上延伸的单轴延伸树脂膜，此外，也可以是在MD方向以及TD方向上延伸的双轴延伸树脂膜。这样的延伸树脂膜，从例如可以通过辊拉伸法、拉幅机拉伸法、逐次双轴拉伸法、同时双轴拉伸法、斜向拉伸法等公知的延伸方法制作的尺寸稳定性、机械强度以及轻量化等观点出发，作为延伸树脂膜，除了聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚苯乙烯膜等以外，还能够优选使用聚碳酸酯系、丙烯酸系、尼龙系、聚酰胺系、聚烯烃系、纤维素系、聚砜系、聚苯硫醚系、聚醚砜系、聚醚醚酮系的膜等。其中，作为延伸树脂膜，优选使用聚酯膜、脂环式聚酰亚胺膜以及芳香族聚酰亚胺膜。它们能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。

延伸树脂膜中包含的颜料的种类没有特别限定。可举出例如高岭土、煅烧高岭土、煅烧粘土、未煅烧粘土、二氧化硅(例如天然二氧化硅、熔融二氧化硅、无定形二氧化硅、中空二氧化硅、湿式二氧化硅、合成二氧化硅、胶棉等)、铝化合物(例如勃姆石、氢氧化铝、氧化铝、水滑石、硼酸铝、氮化铝等)、镁化合物(例如碳酸镁、氧化镁、氢氧化镁等)、钙化合物(例如碳酸钙、氢氧化钙、硫酸钙、亚硫酸钙、硼酸钙等)、钼化合物(例如氧化钼、钼酸锌等)、滑石(例如天然滑石、煅烧滑石等)、云母(mica)、氧化钛、氧化锌、氧化锆、硫酸钡、硼酸锌、偏硼酸钡、硼酸钠、氮化硼、聚集氮化硼、氮化硅、氮化碳、钛酸锶、钛酸钡、锡酸锌等锡酸盐等、但并不特别限定于这些。此外，作为黑色无机颜料，例如可举出黑色树脂粒子、磁铁矿系黑，铜-铁-锰系黑、钛黑、炭黑、苯胺黑等，但并不特别限定于这些。这些颜料能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。这些颜料能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。此外，通过使用黑色颜料作为颜料，能够对基材膜11本身赋予遮光性、隐蔽性。作为黑色颜料，优选黑色树脂颗粒、钛黑、炭黑、苯胺黑，更优选炭黑、苯胺黑。

另外，作为炭黑，已知有通过油炉法炭黑、灯黑、槽法炭黑、气体炉法炭黑、乙炔黑、热裂法炭黑、科琴黑等各种公知的制法制作的炭黑，但其种类没有特别限制。从赋予导电性而防止静电导致的带电的观点出发，特别优选使用导电性炭黑。炭黑的历史很久以前，例如由三菱化学有限公司、Asahi Carbon有限公司、御国色素有限公司、Resino Color工业有限公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等出售有各种等级的炭黑单体以及炭黑分散液，根据要求性能、用途，从这些中适当选择即可。另外，炭黑的粒子尺寸能够根据要求性能等适当设定，没有特别限定。例如，炭黑的平均粒径D₅₀优选为0.01～2.0μm，更优选为0.05～1.0μm，进一步优选为0.08～0.5μm。另外，本说明书中的平均粒径D₅₀是指利用激光衍射式粒度分布测定装置(例如，岛津制作所公司：SALD-7000等)测定的体积基准的中值粒径(D_5o)。

作为基材膜11，使用含有颜料的延伸树脂膜，由此能够形成具有上述的给定深度的尖状凹部31a或尖状凹部41a。这利用了如下事实：在含有颜料的延伸树脂膜中，树脂链在其延伸方向(TD方向以及/或者MD方向)上取向，在其取向方向上的成形加工性或蚀刻性提高，而且在成形加工时或蚀刻时颜料脱落，由此能够朝向基材膜11的面内方向比较锋利地深挖。

基材膜11中的颜料的含有比例能够根据要求性能以及用途适当设定，没有特别限定。从尖状凹部31a或尖状凹部41a的成形加工性、蚀刻加工性、尺寸稳定性、机械强度、轻量化等观点出发，颜料的含有比例相对于延伸树脂膜优选为0.3～15质量％，更优选为0.4～12质量％，进一步优选为0.5～10质量％。

基材膜11的厚度能够根据要求性能以及用途适当设定，没有特别限定。从轻量化及薄膜化的观点出发，基材膜11的厚度优选为3μm以上且150μm以下，更优选为4μm以上且140μm以下，进一步优选为5μm以上且130μm以下。此外，特别是在要求薄膜化的用途的情况下，基材膜11的厚度优选为3μm以上，更优选为5μm以上，上限优选为50μm以下，更优选为25μm以下，进一步优选为15μm以下。无论在哪种情况下，基材膜11相对于总厚度的比例都优选较小。

作为基材膜11，尤其是含有黑色颜料的延伸树脂膜即使不在基材膜11上另外设置后述的遮光层，也能够用作遮光性构件，因此是特别优选的方式之一。此时，含有黑色颜料的延伸树脂膜的光学浓度(OD)能够根据要求性能以及用途适当设定，此外，能够根据遮光层的有无适当调整，没有特别限定，优选为1.5以上，更优选为1.7以上，进一步优选为2.0以上，上限为6.0以下。另外，在本说明书中，光学浓度(OD)是依据JIS-K7651：1988，使用光学浓度计(TD-904：Gretag Macbeth公司)以及UV滤光器进行测定而得到的值。

上述的透镜用间隔件100能够通过如下方式得到：通过公知的方法制作含有颜料的延伸树脂膜，或者作为市售品得到，根据需要加工成所希望的外形形状以及中空形状后，形成上述的内周开口部31、外周开口部41。作为内周开口部31、外周开口部41的形成方法，能够通过喷砂加工、微钻加工、切削加工等机械加工、使用蚀刻液等的腐蚀处理(化学处理)等公知的方法进行，其种类没有特别限定。作为基材膜11而使用含有颜料的延伸树脂膜，由此能够朝向基材膜11的面内方向比较锐利地深挖，因此能够对具有上述的给定深度的比较锐利的尖状凹部31a或尖状凹部41a进行成形加工。其中，使用蚀刻液的腐蚀处理(化学处理)由于生产率以及经济性比较优异，因此特别优选使用。

在上述的腐蚀处理(化学处理)中使用的蚀刻液只要根据所使用的基材膜11的种类适当制备即可，其种类没有特别限定，通常优选使用碱性水溶液。作为碱性水溶液，优选为10～25质量％的氢氧化钠水溶液、向其中加入乙二胺等碳原子数为1～10的脂肪族伯胺的水溶液(NaOH∶乙二胺＝8～12∶1)等。腐蚀处理的处理条件能够根据基材膜11、蚀刻液的种类等适当调整，没有特别限定。从生产率等观点出发，一般而言，处理温度为10～80℃左右，处理时间为3～60分钟左右为标准。通过使所使用的蚀刻液的种类、浓度、处理时间、处理温度等变动，能够适当调整尖状凹部31a的最大深度La、尖状凹部41a的最大深度Lb。

(作用)

在本实施方式的透镜用间隔件100中，在内周面设置了具有尖状凹部31a的内周开口部31，该尖状凹部具有5μm以上的最大深度La。因此，通过将其用作透镜单元、照相机模块等光学设备用遮光构件，能够有效地抑制不需要的入射光、反射光的内周面的反射，不仅能够抑制光斑现象的产生，还能够抑制重影的产生，因此能够提高摄像图像的画质。

(变形例)

另外，在上述的第一实施方式中，示出了设置尖状凹部31a以及尖状凹部41a的例子，但只要至少在内周面设置了具有尖状凹部31a的内周开口部31，就能够用作本发明的透镜用间隔件。即，具有尖状凹部41a的外周开口部41在本发明中是任意的要素。在图3以及图4中示出不设置具有尖状凹部41a的外周开口部41而仅设置具有尖状凹部31a的内周开口部31的透镜用间隔件200的例子。

此外，在上述的第一实施方式中，示出了具有环状外形的部件，但其外形形状能够根据组装其的透镜单元的收纳形状而适当变更。进而，如图3以及图4所示，也可以设置从外周端面向外侧延伸突出的定位用凸部51，或者将外周的一部分切除而设置定位用凹部61、62。若像这样设置定位用凸部51、52、定位用凹部61、62，则能够提高将多张透镜用间隔件重叠时、将透镜用间隔件夹入到透镜之间时的定位精度，因此使操作性飞跃性地提高。

进而，在上述的第一实施方式中，关于基材膜11的一个主面(表面)以及另一个主面(背面)示出了无加工的例子，但基材膜11的一个主面(表面)和/或另一个主面(背面)可以进行粗糙化处理，如图5所示，也可以形成有表面粗糙面部11a、背面粗糙面部11b。通过这样设置表面粗糙面部11a、背面粗糙面部11b，能够降低表面光泽度并且容易得到哑光质感。作为表面粗糙面部11a、背面粗糙面部11b的形成方法，能够通过喷砂加工、微钻加工、切削加工等机械加工、使用蚀刻液等的腐蚀处理(化学处理)等公知的方法进行，其种类没有特别限定。例如，作为基材膜11而使用含有颜料的延伸树脂膜，并利用碱性水溶液等蚀刻液对其进行腐蚀处理(化学处理)，如上所述，能够朝向基材膜11的面内方向(图5的左右方向)比较锐利地深挖，因此能够同时成形加工具有上述的给定深度的比较锐利的尖状凹部31a、尖状凹部41a、以及具有比这些最大深度La以及最大深度Lb小的表面粗糙度Da以及Db(例如Ra＝0.1～2.0μm)的表面粗糙面部11a、背面粗糙面部11b。

(第二实施方式)

图6是示意性地表示本发明的一实施方式的层叠遮光构件400(层叠遮光环)的剖视图。该层叠遮光构件400的特征在于，具有依次具备具有1.0以上的光学浓度的第一遮光层21、作为基材的基材膜11以及具有1.0以上的光学浓度的第二遮光层22的层叠构造。在此，作为基材膜11，使用设置了具有尖状凹部31a的内周开口部31以及具有尖状凹部41a的外周开口部41的上述第一实施方式的透镜用间隔件100。即，所述基材膜11具备含有树脂以及颜料的延伸树脂膜，在剖视时具有中空板状的外形，由如下透镜用间隔件100构成：在内周端面具有设置了尖状凹部31a的内周开口部31，该尖状凹部31a具有5μm以上的最大深度La，在外周端面具有设置了尖状凹部41a的外周开口部41，该尖状凹部41a具有5μm以上的最大深度Lb。而且，第一遮光层21以及第二遮光层22也在剖视时具有中空板状(俯视时呈环状)的外形。对于透镜用间隔件100已经进行了说明，因此在此省略重复的说明。

本实施方式的层叠遮光构件400至少具备设置于基材膜11的一个主面11a侧的第一遮光层21和设置于另一个主面11b侧的第二遮光层22。而且，层叠遮光构件400具有至少依次排列第一遮光层21、基材膜11以及第二遮光层22而成的层叠构造(3层构造)。另外，在该层叠构造中，第一遮光层21配置于表侧的最表面，并且第二遮光层22配置于里侧的最表面，如图5所示，第一以及第二遮光层21、22以分别在表侧以及里侧的最表面露出的状态配置。另外，第一以及第二遮光层21、22可以在表侧以及里侧的最表面实施赋予导电性炭黑等等的表面处理(防静电处理等)。

在此，在本说明书中，“设置于基材膜的一个(另一)主面侧”不仅包含如本实施方式那样在基材膜11的表面(例如第一遮光层21侧的主面、第二遮光层22侧的主面)分别直接载置第一以及第二遮光层21、22的方式，还包含在基材膜11的表面与第一以及第二遮光层21、22之间夹设有任意的层(例如底涂层、粘接层等)。因此，至少具备第一以及第二遮光层21、22的层叠构造不仅包含第一遮光层21以及第二遮光层22直接层叠的构造，还包含在上述的3层构造以及3层构造中进一步设置任意的层的构造。

第一以及第二遮光层21、22分别是具有1.0以上的光学浓度(OD)的遮光膜。另外，在本说明书中，光学浓度(OD)是依据JIS-K7651：1988，使用光学浓度计(TD-904：GretagMacbeth公司)以及UV滤光器进行测定而得到的值。从具备更高的遮光性的观点出发，优选第一以及第二遮光层21、22分别以单层具有1.5以上的光学浓度(OD)，更优选分别以单层具有1.7以上的光学浓度(OD)。此外，在使第一以及第二遮光层21、22层叠的情况下，该层叠体的光学浓度(OD)优选为2.5～6.0，更优选为4.5～6.0，进一步优选为5.0～6.0。

作为这样的第一以及第二遮光层21、22的材料，能够使用本领域中公知的材料，其种类没有特别限定。另外，作为光学浓度高的遮光膜，优选使用1种以上的实施了黑色、灰色、紫色、蓝色、茶色、红色、绿色等暗色系的颜料或染料的暗色系的遮光膜。例如作为黑色系的遮光膜，优选使用至少含有粘合剂树脂和黑色颜料、以及根据需要配合的暗色系的颜料或染料的黑色遮光膜(换言之，第一以及第二黑色遮光层21、22)。以下，以该黑色遮光膜为例进行详细叙述。

作为粘合剂树脂，可举出聚(甲基)丙烯酸酸系树脂、聚酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚乙烯醇缩丁醛系树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯系树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、不饱和聚酯系树脂、环氧酯系树脂、环氧系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、脲系树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯系树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，但并不特别限定于这些。此外，也能够使用热塑性弹性体、热固化性弹性体、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。它们能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。另外，粘合剂树脂能够根据要求性能以及用途适当选择使用。例如，在要求耐热性的用途中，优选热固性树脂。

第一以及第二遮光层21、22中的粘合剂树脂的含量(总量)没有特别限定，从粘接性、遮光性、耐损伤性、滑动性及消光性等观点出发，优选为40～90质量％，更优选为50～85质量％，进一步优选为60～80质量％。

黑色颜料是将粘合剂树脂着色成黑色而赋予遮光性的颜料。作为黑色颜料的具体例子，例如，可举出黑色树脂粒子、菱镁系黑、铜-铁-锰系黑、钛黑、炭黑、苯胺黑等，但并不特别限定于这些。其中，从隐蔽性优异的方面考虑，优选黑色树脂颗粒、钛黑、炭黑、苯胺黑，更优选炭黑、苯胺黑。它们能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。此外，同样地，关于根据需要配合的暗色系的颜料或者染料，也可以从公知的物质中适当选择使用即可。

作为炭黑，已知有通过油炉法炭黑、灯黑、槽法炭黑、气体炉法炭黑、乙炔黑、热裂法炭黑、科琴黑等各种公知的制法制作的炭黑，但其种类没有特别限制。从对遮光层21、22赋予导电性而防止静电导致的带电的观点出发，特别优选使用导电性炭黑。炭黑的历史悠久，例如由三菱化学有限公司、Asahi Carbon有限公司、御国色素有限公司、Resino Color工业有限公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等市售有各种等级的炭黑单体以及炭黑分散液，根据要求性能、用途，从它们中适当选择即可。另外，炭黑的粒子尺寸能够根据要求性能等适当设定，没有特别限定。炭黑的平均粒径D₅₀优选为0.01～2.0μm，更优选为0.05～1.0μm，进一步优选为0.08～0.5μm。另外，本说明书中的平均粒径是指利用激光衍射式粒度分布测定装置(例如岛津制作所公司：SALD-7000等)测定的体积基准的中值粒径(D₅₀)。

第一以及第二遮光层21、22中的黑色颜料的含量(总量)没有特别限定，从分散性、制膜性、操作性、粘接性、滑动性、消光性、耐磨损性等观点出发，以相对于第一以及第二遮光层21、22中所含的全树脂成分的固体成分换算(phr)计，优选为10～60质量％，更优选为15～50质量％，进一步优选为20～40质量％。

第一以及第二遮光层21、22的厚度能够根据要求性能以及用途适当设定，没有特别限定。从高光学浓度、轻量化以及薄膜化的观点出发，分别优选为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上，进一步优选为0.5μm以上，特别是优选为1μm以上，上限优选为15μm以下，更优选为12μm以下，进一步优选为9μm以下，特别是优选为6μm以下。

另外，从轻量化以及薄膜化的观点出发，层叠遮光构件400的总厚度优选为0.5μm以上且50μm以下，更优选为1μm以上，进一步优选为5μm以上，更优选为40μm以下，进一步优选为25μm以下。

另外，第一以及第二遮光层21、22也可以含有本领域公知的各种添加剂。作为其具体例，可以举出消光剂(消光剂)、润滑剂、导电剂、阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、流平剂、流动调节剂、消泡剂、分散剂等，但并不特别限定于这些。作为消光剂，可举出交联聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交联聚苯乙烯粒子等有机系微粒、二氧化硅、硅酸铝镁、氧化钛等无机系微粒等，但并不特别限定于这些。作为润滑剂，可以举出聚乙烯、石蜡、蜡等烃系润滑剂；硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂；硬脂酸酰胺、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂；硬脂酸丁酯、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂；醇系润滑剂；金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂；硅酮树脂粒子；聚四氟乙烯蜡、聚偏氟乙烯等氟树脂粒子等，但并不特别限定于这些。其中，优选使用有机系润滑剂。此外，作为粘合剂树脂，在使用紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂的情况下，例如可以使用正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等敏化剂、紫外线吸收剂等。它们能够单独使用1种，也能够组合使用2种以上。它们的含有比例没有特别限定，以相对于第一以及第二遮光层21、22中所含的全部树脂成分的固体成分换算计，通常分别优选为0.01～5质量％。

此外，第一以及第二遮光层21、22优选具有10.0％以下的可见光反射率。在此，可见光反射率是指，使用分光光度计(岛津制作所公司制、分光光度计SolidSpec-3700等)以及作为标准板的硫酸钡，相对于遮光层21、22以入射角8°入射光时的相对全光线反射率。从具备更高的遮光性等观点出发，第一以及第二遮光层21、22的可见光反射率更优选为8％以下，进一步优选为6％以下，特别是优选为4％以下。作为层叠遮光构件400，可见光以外的红外光(800～1000nm)范围的扩散反射率优选为10％以下，更优选为8％以下，进一步优选为6％以下，特别是优选为4％以下。

进而，从具备充分的抗静电性能的观点出发，第一以及第二遮光层21、22优选具有小于1.0×10⁸Ω的表面电阻率，更优选小于1.0×10⁵Ω，进一步优选小于5.0×10⁴Ω。另外，在本说明书中，表面电阻率为依据JIS-K6911：1995测定的值。这样的第一以及第二遮光层21、22例如能够通过使用导电性炭黑作为颜料、或进行对第一以及第二遮光层21、22表面赋予导电性炭黑的抗静电处理而得到。

层叠遮光构件400的制造方法只要能够得到上述的结构，就没有特别限定。从在基材膜11上再现性良好且低成本地制造第一以及第二遮光层21、22的观点出发，优选使用刮刀涂敷、浸涂、辊涂、棒涂、模涂、刮涂、气刀涂敷、吻涂、喷涂、旋涂等以往公知的涂敷方法。

例如，将上述的粘合剂树脂以及黑色颜料、以及根据需要配合的作为任意成分的添加剂在溶剂中含有的涂敷液涂敷在基材膜11的主面上，使其干燥后，根据需要进行热处理、加压处理等，由此能够在基材膜11上制膜第一以及第二遮光层21、22。作为在此使用的涂敷液的溶剂，能够使用：水；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等醚系溶剂；甲醇、乙醇、异丙醇等醇系溶剂；以及它们的混合溶剂等。另外，为了提高基材膜11与第一以及第二遮光层21、22的粘接，也能够根据需要进行锚定处理、电晕处理等。进而，根据需要，也能够在基材膜11与第一以及第二遮光层21、22之间设置底涂层、粘接层等中间层。另外，通过压缩成型、注射成型、吹塑成型、传递成型、挤出成型等各种公知的成型方法，也能够简易地得到具有期望形状的层叠遮光构件400。此外，也可以在暂时成型为片状后，进行真空成型、压缩空气成型等。

此外，形成上述内周开口部31、外周开口部41的定时也没有特别限定。也可以准备预先设置了上述内周开口部31、外周开口部41的基材膜11，在该基材膜11上分别形成第一以及第二遮光层21、22，也可以在设置中空部13、周开口部31、外周开口部41之前的基材膜11上设置第一以及第二遮光层21、22后，形成中空部13、内周开口部31、外周开口部41。

(作用)

在本实施方式的层叠遮光构件400中，在内周面设置了具有尖状凹部31a的内周开口部31，该尖状凹部31a具有5μm以上的最大深度La。因此，通过将其用作透镜单元、照相机模块等光学设备用遮光构件，能够有效地抑制不需要的入射光、反射光的内周面的反射，不仅能够抑制光斑现象的产生，还能够抑制重影的产生，因此能够提高摄像图像的画质。此外，在本实施方式的层叠遮光构件400中，由于设置有第一以及第二遮光层21、22，因此其自身具备充分的遮光性，不仅能够用作透镜用间隔件，还能够用作遮光环、遮光板等。

(变形例)

另外，在上述的第二实施方式中，示出了将设置尖状凹部31a以及尖状凹部41a的透镜用间隔件100用作基材的例子，但只要使用至少在内周面设置了具有尖状凹部31a的内周开口部31的基材，就能够用作本发明的层叠遮光构件。即，具有尖状凹部41a的外周开口部41在本发明中是任意的要素。例如，可以不设置具有尖状凹部41a的外周开口部41而仅设置具有尖状凹部31a的内周开口部31，将上述的透镜用间隔件200用作基材来构成层层叠遮光构件。

此外，在上述的第二实施方式中，示出了具有环状外形的部件，但其外形形状能够根据组装其的透镜单元的收纳形状而适当变更。此外，如图3、图4所示，也可以设为设置了定位用凸部51、52、定位用凹部61、62的形状。进而，本发明的层叠遮光构件也能够形成为透镜用的光圈构件、光圈叶片的外形，将它们组合多片等而作为焦面快门、镜头快门使用。

进而，在上述的第一实施方式中，关于基材膜11的一个主面(表面)以及另一个主面(背面)示出了无加工的例子，但基材膜11的一个主面(表面)和/或另一个主面(背面)可以进行粗糙化处理，如图5所示，也可以形成有表面粗糙面部11a、背面粗糙面部11b。

进而，在上述的第二实施方式中，示出了在基材膜11的表里设置第一遮光层21以及第二遮光层22的方式，但也可以仅是第一遮光层21/第二遮光层22的结构。

(第三实施方式)

图7是示意性地表示本发明的第三实施方式的透镜单元500以及照相机模块600的分解立体图。透镜单元500由透镜组71(透镜71A、71B、71C、71D、71E)、多级圆筒状的保持架72、透镜用间隔件100、300、层叠遮光构件400(透镜用间隔件200)构成。在保持架72的内周部设置有多个高低差部72a、72b、72c。而且，利用该高低差部72a、72b、72c，透镜组71、透镜用间隔件100、300、以及层叠遮光构件400(透镜用间隔件200)在配置于同轴上(相同光轴上)并堆叠的状态下被收纳配置于保持架72内的给定位置。在此，作为透镜71A、71B、71C、71D、71E能够使用凸透镜、凹透镜等各种透镜，该曲面可以是球面，也可以是非球面。另一方面，照相机模块600由上述透镜单元500和配置于该透镜单元500的光轴上并通过透镜单元500拍摄被摄体的CCD图像传感器、CMOS图像传感器等摄像元件81构成。

(变形例)

另外，本发明能够在不脱离其主旨的范围内任意变更来实施。例如，层叠遮光构件400(透镜用间隔件100、200、300)的外形形状例如能够采用俯视呈长方形、正方形、六边形等多边形状、椭圆形状、不定形状等任意的形状。此外，层叠遮光构件400(透镜用间隔件100、200、300)的中空部13的形状在本实施方式中也在俯视下形成为圆状，但其外形没有特别限定。例如能够采用俯视呈长方形状、正方形状、六边形状等多边形状、椭圆形状、不定形状等任意的形状。

(实验例)

作为基材，使用厚度50μm的黑色PET膜(东丽公司、商品名：LumirrorX30(注册商标)、炭黑混炼型、光学浓度：2.0)、以及厚度125μm的黑色PET膜(东丽公司、商品名：LumirrorX30(注册商标)、炭黑混炼型、光学浓度：5.0)，在其两面通过棒涂法分别涂敷下述配方的涂敷液后，进行干燥而形成第一遮光层以及第二遮光层，分别制作具有依次具备第一遮光层、基材以及第二遮光层的3层层叠构造的层叠遮光构件A以及B。此外，使用厚度50μm的双轴延伸PET膜(东丽公司制、商品名：LumirrorT50、无颜料混入的高透明型、全光线透过率(550nm)：89.1)，在其两面通过棒涂法分别涂敷下述配方的涂敷液后，进行干燥而形成第一遮光层以及第二遮光层，制作具有依次具备第一遮光层、基材以及第二遮光层的3层层叠构造的层叠遮光构件C。将得到的层叠遮光构件A～C冲裁加工成直径1cm以及内径3mm的环状，分别制作层叠遮光环A～C。

<遮光膜形成用涂敷液>

接下来，调整在20％氢氧化钠水溶液中以10∶1的比例加入乙二胺的蚀刻液。在该蚀刻液中，将上述层叠遮光环A～C在搅拌下分别在70℃浸渍20分钟，进行内周端面以及外周端面的腐蚀处理(化学处理)，由此分别得到具有与图6同等的构造的经过了腐蚀处理的层叠遮光环A～C。分别测定所得到的腐蚀处理完毕的层叠遮光环A～C的内周端面的凹部的深度。将结果示于表1。此外，将层叠遮光构件A的外周端面的光学显微镜照片以及层叠遮光构件B的内周端面的光学显微镜照片(放大照片)示于图8以及图9。进而，将腐蚀处理完毕的层叠遮光环A～C分别组装到透镜单元中，制作照相机模块，分别确认了光斑现象以及重影的产生。将结果示于表1。

[表1]

-工业上的可利用性-

本发明能够广泛且有效地用作精密机械领域、半导体领域、光学设备领域、电子设备领域等中的高性能的遮光构件。尤其，作为搭载于高性能单镜头反光照相机、紧凑型照相机、摄像机、移动电话、投影仪、车载照相机、车载传感器、光学传感器等的透镜单元、照相机模块、传感器单元等中使用的间隔件、遮光构件、光圈构件、光圈叶片等，能够特别有效地利用。

-符号说明-

11：基材(基材膜)，

11a：表面粗糙面部，

11a：背面粗糙面部，

13：中空部，

21：遮光层(第一遮光层)，

22：遮光层(第二遮光层)，

31：内周开口部，

31a：尖状凹部，

La：最大深度，

41：外周开口部，

41a：尖状凹部，

Lb：最大深度，

51：定位用凸部，

61：定位用凹部，

62：定位用凹部，

71：透镜组(透镜71A、71B、71C、71D、71E)，

72：保持架，

72a：高低差部，

72b：高低差部，

72c：高低差部，

81：摄像元件，

100：透镜用间隔件，

200：透镜用间隔件，

300：透镜用间隔件，

400：层叠遮光构件(层叠遮光环)，

500：透镜单元，

600：照相机模块。