一种抗变形低反射玻璃及其制备方法
阅读说明：本技术 一种抗变形低反射玻璃及其制备方法 (Anti-deformation low-reflection glass and preparation method thereof ) 是由 宋兴庭 于 2021-01-09 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种抗变形低反射玻璃及其制备方法,包括抗变形低反射玻璃本体,所述抗变形低反射玻璃本体的表面一侧设有第一纳米保护层,所述第一纳米保护层的侧面设有第一磁控溅射膜,所述第一磁控溅射膜的侧面设有第一玻璃原片,所述第一玻璃原片的侧面设有第一特殊处理层,所述第一特殊处理层的侧面设有中间层,所述中间层的侧面设有第二特殊处理层,所述第二特殊处理层的侧面设有第二玻璃原片,所述第二玻璃原片的侧面设有第二磁控溅射膜,所述第二磁控溅射膜的侧面设有第二纳米保护层。本发明的玻璃具有了抗变形抗弯曲性能,有利于加强展柜的密闭性,防止文物保存环境被破坏。(The invention discloses anti-deformation low-reflection glass and a preparation method thereof, and the anti-deformation low-reflection glass comprises an anti-deformation low-reflection glass body, wherein a first nano protective layer is arranged on one side of the surface of the anti-deformation low-reflection glass body, a first magnetron sputtering film is arranged on the side surface of the first nano protective layer, a first glass raw sheet is arranged on the side surface of the first magnetron sputtering film, a first special treatment layer is arranged on the side surface of the first glass raw sheet, an intermediate layer is arranged on the side surface of the first special treatment layer, a second special treatment layer is arranged on the side surface of the intermediate layer, a second glass raw sheet is arranged on the side surface of the second special treatment layer, a second magnetron sputtering film is arranged on the side surface of the second glass raw sheet, and a second nano protective layer is arranged on the side surface of the second magnetron sputtering. The glass has the deformation resistance and bending resistance, is favorable for enhancing the tightness of the showcase and prevents the cultural relic preservation environment from being damaged.)
技术领域：
本发明涉及玻璃制造技术领域，具体为一种抗变形低反射玻璃及其制备方法。
背景技术：
展柜玻璃由于外力挤压、版面较大、玻璃自重等原因，普遍存在弯曲变形，有的弯曲变形甚至达到2～3cm之多，导致两块玻璃平面前后错位，使得密封条撕裂，随着时间的推移会越来越严重，最终导致玻璃间出现缝隙，因弯曲问题造成密闭性差，无法保证展柜内温湿度而造成对文物的侵蚀，破坏了文物保护环境；目前展柜玻璃在加工时为了追求生产效率往往压缩工序，降低热合、养护等时间，导致加工出的玻璃强度和韧性不够，在安装后容易造成玻璃弯曲变形；对于需要严格控制微环境或者密闭性、透光性要求很高的展柜夹层玻璃来说，现有的这种夹层玻璃无法很好的满足要求。
发明内容
：本发明的目的在于提供一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的现有夹层玻璃容易弯曲变形，密闭性差，造成对文物的侵蚀的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体由第一纳米保护层、第一磁控溅射膜、第一玻璃原片、第一特殊处理层、中间层、第二特殊处理层、第二玻璃原片、第二磁控溅射膜以及第二纳米保护层组成，所述抗变形低反射玻璃本体的表面一侧设有第一纳米保护层，所述第一纳米保护层的侧面设有第一磁控溅射膜，所述第一磁控溅射膜的侧面设有第一玻璃原片，所述第一玻璃原片的侧面设有第一特殊处理层，所述第一特殊处理层的侧面设有中间层，所述中间层的侧面设有第二特殊处理层，所述第二特殊处理层的侧面设有第二玻璃原片，所述第二玻璃原片的侧面设有第二磁控溅射膜，所述第二磁控溅射膜的侧面设有第二纳米保护层；
所述第一纳米保护层、第二纳米保护层采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，所述第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一玻璃原片和第二玻璃原片为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，所述中间层为SGP离子型玻璃夹层胶片，所述第一特殊处理层、第二特殊处理层为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂40～75％、聚氨酯树脂15％～20％、硅烷耦合剂5～10％、异丙醇2～6％、硬度调节剂1～5％、固化剂0.5～4％、光敏剂0.001～0.005％、引发剂0.01～0.0001％以及余量的水；
所述抗变形低反射玻璃本体采用以下步骤制备而成：
步骤一，原片切割：将第一玻璃原片和第二玻璃原片进行切割、粗磨、清洗并烘干；
步骤二，胶片切割：将中间层按照第一玻璃原片和第二玻璃原片的尺寸进行切割，并进行表面清理；
步骤三，胶片涂胶：在中间层的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层和第二特殊处理层；
步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层和第二特殊处理层后的中间层放入第一玻璃原片和第二玻璃原片之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；
步骤五，高压热合：将夹合预热后的夹层玻璃基片放入辊压机进行加热滚压、排气和封边，再放入高压釜中进行高压热合,高压热合时温度逐步从50℃升温至130～140℃，压力逐步从0.1Mpa升至1.25～1.30Mpa，升温时间为240～300min，然后快速降温至40～45℃，降温时间为30～40min，使SGP胶片与第一玻璃原片和第二玻璃原片完全粘合为一体；
步骤六，真空镀膜：将高压热合后的夹层玻璃上下两面分别通过真空磁控溅射镀膜形成第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜；
步骤七，粘合保护层：在第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜上粘合第一纳米保护层、第二纳米保护层，形成抗变形低反射玻璃半成品；
步骤八，养护固化：将抗变形低反射玻璃半成品进行养护固化，养护保持温度为22～25℃，相对湿度为50～65％，养护时间至少48h以上；
步骤九，热绷处理：采用热绷炉对抗变形低反射玻璃半成品进行热绷处理，热绷处理包括三个阶段：第一阶段温度逐步从20～25℃升温至35～40℃，升温时间5～10min，保温温度30～35℃，恒温时间5～10min；第二阶段温度逐步从35～40℃升温至55～65℃，升温时间10～15min，保温温度55～60℃，恒温时间10～15min；第三阶段温度逐步从55～65℃升温至100～105℃，升温时间15～25min，保温温度100～105℃，恒温时间60～75min；
步骤十，表面处理：进行表面抛光打磨清洗，形成抗变形低反射玻璃成品；
步骤十一，质量检测：采用玻璃缺陷检测装置进行表面质量检测。
优选的，所述第一纳米保护层、第二纳米保护层的厚度为10～15μm。
优选的，所述第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜为多层结构，包括至少2层介质层、2～7层保护层以及至少1层银层，且第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜的厚度为35～250nm。
优选的，所述第一玻璃原片和第二玻璃原片的厚度为3～15mm。
优选的，所述中间层的厚度为0.89mm。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1.本发明采用比PVB胶片硬度高100～300倍的SGP离子型玻璃夹层胶片做中间层，使得受力时第一玻璃原片和第二玻璃原片之间不会产生滑动，两片玻璃如同一片玻璃，为玻璃整体强度的提高提供结构支撑。
2.本发明设置由无机纳米氧化硅为主制成的第一纳米保护层、第二纳米保护层，具有不沾水、不沾灰、易清洁的优点。
3.本发明设置第一磁控溅射膜、第二磁控溅射膜，采用纳米陶瓷材质经多层真空磁控溅射镀成，使反射率降低到0.8％，优化了视野，并不影响透过率，提高了审美效果。
4.本发明设置第一特殊处理层、第二特殊处理层，采用改性聚酯树脂夹层胶水制成该特殊处理层，改性聚酯树脂夹层胶水与丙烯酸脂类胶水相比，生产成本低，胶层拉伸强度、剥离强度、伸长率等力学指标均优于丙烯酸脂类胶水，提高了本发明的粘结强度。
5.本发明的制备方法强化了高压热合的工艺控制要求，高压热合时温度和压力需要逐步缓慢升高，热合时间要达到240～300min，使得中间层SGP胶片与第一玻璃原片和第二玻璃原片完全粘合为一体，提高了整体强度，为提高玻璃的抗弯曲性能提供了工艺上的有力支撑。
6.本发明的制备方法增加了养护热绷工序，在热合后进行48h以上的养护，使得玻璃充分固化稳定，并进行105～150min三个阶段的热绷处理，使玻璃膜层展开绷紧，达到良好的视觉效果，使各层玻璃得到进一步的粘合，进一步增强了玻璃的强度和韧性。
7.通过上述夹层结构技术和制备方法制作而成的玻璃用于展柜，具有了抗变形抗弯曲性能，在相等荷载、相同厚度的情况下，本发明其初始水平压力极点弯曲距离都小于普通玻璃的38％，最终水平压力极点弯曲距离小于普通玻璃的29％，加强了展柜的密闭性，防止文物保存环境被破坏。
附图说明：
图1为本发明的正视剖面结构示意图；
图2为本发明的制备工艺流程示意图。
图中：1、抗变形低反射玻璃本体；2、第一纳米保护层；3、第一磁控溅射膜；4、第一玻璃原片；5、第一特殊处理层；6、中间层；7、第二特殊处理层；8、第二玻璃原片；9、第二磁控溅射膜；10、第二纳米保护层。
具体实施方式
：
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体(1)，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体(1)的表面一侧设有第一纳米保护层(2)，所述第一纳米保护层(2)的侧面设有第一磁控溅射膜(3)，所述第一磁控溅射膜(3)的侧面设有第一玻璃原片(4)，所述第一玻璃原片(4)的侧面设有第一特殊处理层(5)，所述第一特殊处理层(5)的侧面设有中间层(6)，所述中间层(6)的侧面设有第二特殊处理层(7)，所述第二特殊处理层(7)的侧面设有第二玻璃原片(8)，所述第二玻璃原片(8)的侧面设有第二磁控溅射膜(9)，所述第二磁控溅射膜(9)的侧面设有第二纳米保护层(10)；
抗变形低反射玻璃本体(1)的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，原片切割：将第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)进行切割、粗磨、清洗并烘干；
步骤二，胶片切割：将中间层(6)按照第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的尺寸进行切割，并进行表面清理；
步骤三，胶片涂胶：在中间层(6)的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)；
步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)后的中间层(6)放入第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；
步骤五，高压热合：将夹合预热后的夹层玻璃基片放入辊压机进行加热滚压、排气和封边，再放入高压釜中进行高压热合,使中间层(6)与第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)完全粘合为一体；
步骤六，真空镀膜：将高压热合后的夹层玻璃上下两面分别通过真空磁控溅射镀膜形成第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)；
步骤七，粘合保护层：在第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)上粘合第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)，形成抗变形低反射玻璃半成品；
步骤八，养护固化：将抗变形低反射玻璃半成品养护48h以上；
步骤九，热绷处理：将抗变形低反射玻璃半成品进行热绷处理；
步骤十，表面处理：进行表面抛光打磨清洗，形成抗变形低反射玻璃成品；
步骤十一，质量检测：采用玻璃缺陷检测装置进行表面质量检测。
中间层(6)为SGP离子型玻璃夹层胶片，且中间层(6)的厚度为0.89mm。
第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，且第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)的厚度为10μm。
第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)为多层结构，包括2层介质层、2层保护层以及1层银层，且第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)的厚度为35nm。
第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，且第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的厚度为3mm。
第一特殊处理层(5)、第二特殊处理层(7)为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂40％、聚氨酯树脂20％、硅烷耦合剂10％、异丙醇6％、硬度调节剂5％、固化剂4％、光敏剂0.001％、引发剂0.01％以及余量的水。
步骤五，高压热合时温度逐步从50℃升温至130℃，压力逐步从0.1Mpa升至1.25Mpa，升温时间为240min，然后快速降温至40℃，降温时间为30min。
步骤八，养护保持温度为22℃，相对湿度为50％，养护时间48h。
步骤九，热绷处理包括三个阶段：
第一阶段温度逐步从20℃升温至35℃，升温5min，保温温度30℃，恒温时间5min；
第二阶段温度逐步从35℃升温至55℃，升温10min，保温温度55℃，恒温时间10min；
第三阶段温度逐步从55℃升温至100℃，升温15min，保温温度100℃，恒温时间60min。
步骤九，热绷设备采用热绷炉。
实施例2：
一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体(1)，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体(1)的表面一侧设有第一纳米保护层(2)，所述第一纳米保护层(2)的侧面设有第一磁控溅射膜(3)，所述第一磁控溅射膜(3)的侧面设有第一玻璃原片(4)，所述第一玻璃原片(4)的侧面设有第一特殊处理层(5)，所述第一特殊处理层(5)的侧面设有中间层(6)，所述中间层(6)的侧面设有第二特殊处理层(7)，所述第二特殊处理层(7)的侧面设有第二玻璃原片(8)，所述第二玻璃原片(8)的侧面设有第二磁控溅射膜(9)，所述第二磁控溅射膜(9)的侧面设有第二纳米保护层(10)；
抗变形低反射玻璃本体(1)的制备方法，包括以下步骤：
步骤一，原片切割：将第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)进行切割、粗磨、清洗并烘干；
步骤二，胶片切割：将中间层(6)按照第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的尺寸进行切割，并进行表面清理；
步骤三，胶片涂胶：在中间层(6)的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)；
步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)后的中间层(6)放入第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；
步骤五，高压热合：将夹合预热后的夹层玻璃基片放入辊压机进行加热滚压、排气和封边，再放入高压釜中进行高压热合,使中间层(6)与第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)完全粘合为一体；
步骤六，真空镀膜：将高压热合后的夹层玻璃上下两面分别通过真空磁控溅射镀膜形成第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)；
步骤七，粘合保护层：在第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)上粘合第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)，形成抗变形低反射玻璃半成品；
步骤八，养护固化：将抗变形低反射玻璃半成品养护48h以上；
步骤九，热绷处理：将抗变形低反射玻璃半成品进行热绷处理；
步骤十，表面处理：进行表面抛光打磨清洗，形成抗变形低反射玻璃成品；
步骤十一，质量检测：采用玻璃缺陷检测装置进行表面质量检测。
中间层(6)为SGP离子型玻璃夹层胶片，且中间层(6)的厚度为0.89mm。
第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，且第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)的厚度为12μm。
第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)为多层结构，包括至少2层介质层、5层保护层以及2层银层，且第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)的厚度为100nm。
第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，且第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的厚度为5mm。
第一特殊处理层(5)、第二特殊处理层(7)为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂60％、聚氨酯树脂18％、硅烷耦合剂8％、异丙醇4％、硬度调节剂3％、固化剂2％、光敏剂0.003％、引发剂0.0005％以及余量的水。
步骤五，高压热合时温度逐步从60℃升温至135℃，压力逐步从0.5Mpa升至1.27Mpa，升温时间为260min，然后快速降温至43℃，降温时间为35min；
步骤八，养护保持温度为23℃，相对湿度为60％，养护时间至少55h。
步骤九，热绷处理包括三个阶段：
第一阶段温度逐步从23℃升温至38℃，升温8min，保温温度33℃，恒温时间8min；
第二阶段温度逐步从38℃升温至60℃，升温13min，保温温度58℃，恒温时间13min；
第三阶段温度逐步从60℃升温至102℃，升温20min，保温温度103℃，恒温时间70min。
步骤九，热绷设备采用热绷炉。
实施例3：
一种抗变形低反射玻璃及其制备方法，包括抗变形低反射玻璃本体(1)，其特征在于，所述抗变形低反射玻璃本体(1)的表面一侧设有第一纳米保护层(2)，所述第一纳米保护层(2)的侧面设有第一磁控溅射膜(3)，所述第一磁控溅射膜(3)的侧面设有第一玻璃原片(4)，所述第一玻璃原片(4)的侧面设有第一特殊处理层(5)，所述第一特殊处理层(5)的侧面设有中间层(6)，所述中间层(6)的侧面设有第二特殊处理层(7)，所述第二特殊处理层(7)的侧面设有第二玻璃原片(8)，所述第二玻璃原片(8)的侧面设有第二磁控溅射膜(9)，所述第二磁控溅射膜(9)的侧面设有第二纳米保护层(10)；
抗变形低反射玻璃的制备方法本体(1)，包括以下步骤：
步骤一，原片切割：将第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)进行切割、粗磨、清洗并烘干；
步骤二，胶片切割：将中间层(6)按照第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的尺寸进行切割，并进行表面清理；
步骤三，胶片涂胶：在中间层(6)的两面涂覆改性聚酯树脂胶水层，形成第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)；
步骤四，夹层合片：将涂覆第一特殊处理层(5)和第二特殊处理层(7)后的中间层(6)放入第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)之间进行夹层合片形成夹层玻璃基片，夹合完成后再将其进行预热；
步骤五，高压热合：将夹合预热后的夹层玻璃基片放入辊压机进行加热滚压、排气和封边，再放入高压釜中进行高压热合,使中间层(6)与第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)完全粘合为一体；
步骤六，真空镀膜：将高压热合后的夹层玻璃上下两面分别通过真空磁控溅射镀膜形成第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)；
步骤七，粘合保护层：在第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)上粘合第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)，形成抗变形低反射玻璃半成品；
步骤八，养护固化：将抗变形低反射玻璃半成品养护48h以上；
步骤九，热绷处理：将抗变形低反射玻璃半成品进行热绷处理；
步骤十，表面处理：进行表面抛光打磨清洗，形成抗变形低反射玻璃成品；
步骤十一，质量检测：采用玻璃缺陷检测装置进行表面质量检测。
中间层(6)为SGP离子型玻璃夹层胶片，且中间层(6)的厚度为0.89mm。
第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)采用无机纳米氧化硅为主体添加纳米氧化锡、纳米氧化钨、纳米铂金等制成，且第一纳米保护层(2)、第二纳米保护层(10)的厚度为15μm。
第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)采用纳米陶瓷材质经真空磁控溅射镀成，所述第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)为多层结构，包括3层介质层、7层保护层以及至少3层银层，且第一磁控溅射膜(3)、第二磁控溅射膜(9)的厚度为250nm。
第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)为超白钠钙硅酸盐浮法玻璃，且第一玻璃原片(4)和第二玻璃原片(8)的厚度为7.5mm。
第一特殊处理层(5)、第二特殊处理层(7)为改性聚酯树脂夹层胶水层，由以下重量百分比的原料制成：聚酯树脂75％、聚氨酯树脂10％、硅烷耦合剂5％、异丙醇2％、硬度调节剂1％、固化剂0.5％、光敏剂0.005％、引发剂0.0001％以及余量的水。
步骤五，高压热合时温度逐步从55℃升温至140℃，压力逐步从0.7Mpa升至1.30Mpa，升温时间为300min，然后快速降温至45℃，降温时间为40min；
步骤八，养护保持温度为25℃，相对湿度为65％，养护时间65h。
步骤九，热绷处理包括三个阶段：
第一阶段温度逐步从25℃升温至40℃，升温10min，保温温度35℃，恒温时间10min；
第二阶段温度逐步从40℃升温至65℃，升温15min，保温温度60℃，恒温时间15min；
第三阶段温度逐步从65℃升温至105℃，升温25min，保温温度105℃，恒温时间75min。
步骤九，热绷设备采用热绷炉。
抗弯曲实验：
该抗变形低反射玻璃与普通夹胶玻璃的14kg水平压力极点弯曲距离实验对比数据如下：
实验时，分别取普通夹胶玻璃6、10、15mm厚度三块，本发明实施例1、2、3制成的6、10、15mm厚度三块，玻璃的长度均为1800mm,宽度800mm，平放，四角分别放置长*宽*高为100mm*70mm*50mm同等大小的垫块，其余部分为空，然后在玻璃中心点分别水平放入14kg砝码，测试不同时间后的极点弯曲距离，即玻璃中心点与地平面的高度与四角水平高度的差距。
对实施例1～3和对比例1～3得到的玻璃进行了14kg水平压力极点弯曲距离的测试，发现：
1、在相同载荷下，本发明实施例具有更小的弯曲变形，其初始水平压力极点弯曲距离都小于对比例的38％；
2、在相同载荷下，随着时间的延长本发明实施例水平压力极点弯曲距离增加极小，几乎不会增加，具有更小的最终弯曲变形量，水平压力极点弯曲距离小于对比例的29％。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
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