具体实施方式

以下参照附图来说明本发明的实施方式。本发明并不限定于以下的实施方式。

[盖构件]

在图1A和图1B中示出本发明的盖构件的一个例子。图1B是从保护膜2所处一侧观察图1A的盖构件1(1A)的俯视图。图1A表示图1B的A－A剖面。盖构件1A是配置于包括具有开口52的面53的对象物51的面53，且能防止异物经过开口52的构件。图1A和图1B表示处于配置于对象物51的面53的状态的盖构件1A。

盖构件1A具有保护膜2和与保护膜2的一个主面相接合的第1基材层3。盖构件1A由包含保护膜2和第1基材层3的层叠体构成。保护膜2具有在盖构件1A配置于面53时覆盖开口52的形状。第1基材层3在盖构件1A配置于面53时，位于保护膜2与面53之间。

第1基材层3具有包含两个基材薄膜11的层叠构造。第1基材层3具有由非发泡体构成的非发泡薄膜11A和由发泡体构成的发泡薄膜11B来作为基材薄膜11。发泡薄膜11B位于比非发泡薄膜11A远离保护膜2的位置。在该形态中，在剥离盖构件1A时，由发泡薄膜11B引起的第1基材层3的变形更加适度，能够提高盖构件1A的剥离性。另外，在第1基材层3中位于最远离保护膜2的位置的基材薄膜11为发泡薄膜11B。在该形态中，基于上述适度的变形来提高剥离性变得更加可靠。

其中，第1基材层3的层叠构造只要包含非发泡薄膜11A和发泡薄膜11B来作为两个以上的基材薄膜11，则不限定于上述例子。第1基材层3也可以具有两个以上的非发泡薄膜11A和/或两个以上的发泡薄膜11B。在图2中示出第1基材层3的结构不同的变形例。

图2的盖构件1A除了第1基材层3的结构不同之外，具有与图1A和图1B的盖构件1A同样的结构。图2的第1基材层3具有两个非发泡薄膜11A、11C和1个发泡薄膜11B来作为基材薄膜11。将非发泡薄膜11A、11C和发泡薄膜11B按该顺序层叠。发泡薄膜11B位于比非发泡薄膜11A、11C远离保护膜2的位置。在第1基材层3中位于最远离保护膜2的位置的基材薄膜11为发泡薄膜11B。

第1基材层3中的两个以上的基材薄膜11通常彼此接合。基材薄膜11既可以利用粘合剂或粘接剂彼此接合，也可以通过超声波熔接、热熔接等各种熔接法彼此接合。用于使基材薄膜11彼此接合的粘合剂也可以是层状(粘合剂层)。在该形态中，粘合剂层的柔软性有助于提高剥离性。粘合剂层也可以是无基材的双面粘合带。

粘合剂的例子为丙烯酸类粘合剂、硅酮类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、环氧类粘合剂以及橡胶类粘合剂。在需要考虑高温下使用盖构件1A的情况下，优选耐热性优异的丙烯酸类粘合剂或硅酮类粘合剂，特别优选硅酮类粘合剂。

也可以使用基材和在该基材的单面或两个面涂布粘合剂而成的单面粘合带或双面粘合带，来作为基材薄膜11和粘合剂层。在图3和图4中示出使用双面粘合带的例子。

在图3的第1基材层3中，发泡薄膜11B为双面粘合带13的基材。发泡薄膜11B和非发泡薄膜11A利用双面粘合带13的粘合剂层12A接合。另外，图3的盖构件1A借助双面粘合带13的粘合剂层12B配置于面53。图3的盖构件1A除了这些方面之外，具有与图1A和图1B的盖构件1A同样的结构。

在图4的第1基材层3中，发泡薄膜11B为双面粘合带13的基材。发泡薄膜11B和非发泡薄膜11C利用双面粘合带13的粘合剂层12A接合。非发泡薄膜11A为双面粘合带15的基材。非发泡薄膜11C和非发泡薄膜11A利用双面粘合带15的粘合剂层14B接合。另外，保护膜2和第1基材层3利用双面粘合带15的粘合剂层14A接合。图4的盖构件1A借助双面粘合带13的粘合剂层12B配置于面53。图4的盖构件1A除了这些方面之外，具有与图2的盖构件1A同样的结构。

保护膜2和第1基材层3既可以利用粘合剂或粘接剂接合，也可以通过上述各种熔接法接合。保护膜2和第1基材层3也可以利用粘合剂层17接合(参照图5)。在该形态中，粘合剂层的柔软性有助于提高剥离性。粘合剂和粘合剂层的例子如上所述。用于使保护膜2和第1基材层3接合的粘合剂层也可以是以基材薄膜11为基材的单面粘合带或双面粘合带的粘合剂层(例如图4的粘合剂层14A)。

盖构件1A也可以借助盖构件1A所具有的粘合剂层16配置于面53(参照图5)。粘合剂层的例子如上所述。另外，粘合剂层16也可以是以基材薄膜11为基材的单面粘合带或双面粘合带的粘合剂层(例如图3、4的粘合剂层12B)。

盖构件1A的形状在与保护膜2的主面垂直地看时为长方形。不过，盖构件1的形状并不限定于该例子。盖构件1的形状也可以是，在与保护膜2的主面垂直地看时，为包含正方形和长方形的多边形、圆以及椭圆。也可以使多边形的角为圆角(参照图1B)。

盖构件1A的第1基材层3在与保护膜2的主面垂直地看时，具有与保护膜2的外周一致的外周。另外，盖构件1A的第1基材层3在与保护膜2的主面垂直地看时，具有与保护膜2的周缘部相对应的形状(边框状)。保护膜2的第1基材层3侧的面在未与第1基材层3接触的区域暴露。在保护膜2具有厚度方向上的透气性的情况下，能够将该区域设为盖构件1A的透气区域。不过，第1基材层3的形状并不限定于上述例子。

盖构件1中的透气区域的面积例如是40mm²以下。透气区域的面积处于该范围内的盖构件1例如适合相对于具有小径的开口的对象物配置。透气区域的面积的下限例如是0.008mm²以上。不过，透气区域的面积根据供盖构件1配置的对象物的种类的不同，也可以是更大的范围。

第1基材层3的厚度例如是50μm～1000μm，也可以是70μm～800μm，还可以是130μm～600μm。

发泡薄膜11B具有独立气泡。因此，发泡薄膜11B例如在粘合剂层设于表面的情况下，也能够通过抑制粘合剂向膜内部浸入来维持柔软性。

构成发泡薄膜11B的材料的例子为聚乙烯(PE)和聚丙烯(PP)等聚烯烃、硅酮树脂、丙烯酸树脂以及聚氨酯。不过，构成发泡薄膜11B的材料并不限定于上述例子。

发泡薄膜11B也可以不具有粘接性。

非发泡薄膜11A、11C不具有独立气泡。非发泡薄膜11A、11C也可以具有厚度方向上的透气性。非发泡薄膜11A、11C的例子为金属膜、树脂膜、无纺布、织布以及纸。非发泡薄膜11A、11C优选为树脂膜。

能够构成非发泡薄膜11A、11C的树脂的例子为PE和PP等聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯、硅酮树脂、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮(PEEK)、聚氯乙烯以及氟树脂。氟树脂的例子为聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、氟化乙烯-丙烯共聚物(FEP)、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)。不过，树脂并不限定于上述例子。

能够构成非发泡薄膜11A、11C的金属的例子为不锈钢和铝。不过，金属并不限定于上述例子。

非发泡薄膜11A、11C也可以不具有粘接性。

发泡薄膜11B和非发泡薄膜11A、11C也可以在与第1基材层3垂直地看时具有相同的形状。另外，在第1基材层3中，各基材薄膜11的外周也可以彼此一致。

基材薄膜11的厚度例如是10μm～250μm。

基材薄膜11、特别是非发泡薄膜11A、11C也可以具有比保护膜2高的强度。在该情况下，能够抑制剥离时的保护膜2的破损。强度例如能够作为拉伸断裂强度或内聚破坏强度进行评价。

保护膜2既可以在厚度方向上为非透气性，也可以具有厚度方向上的透气性。在保护膜2具有厚度方向上的透气性的情况下，通过盖构件1的配置，能够防止异物经过对象物的开口，并且能够确保经由该开口透气。通过确保透气，例如能够经由开口来调整压力、缓和压力的变动。

具有厚度方向上的透气性的保护膜2的透气度(厚度方向上的透气度)通过按照日本工业标准(旧日本工业标准；以下记载为“JIS”)L1096所规定的透气性测量B法(格雷(Gurley)型法)求出的空气透过度(以下记载为“格雷透气度”)来表示，例如小于1万秒/100mL。格雷透气度也可以是5000秒/100mL以下、1000秒/100mL以下、500秒/100mL以下、100秒/100mL以下、50秒/100mL以下、10秒/100mL以下，还可以是5秒/100mL以下。格雷透气度的下限例如是0.2秒/100mL以上。

在厚度方向上为非透气性的保护膜2的透气度通过格雷透气度表示，例如是1万秒/100mL以上。

构成保护膜2的材料的例子为金属、树脂以及它们的复合材料。

能够构成保护膜2的树脂和金属的例子与能够构成基材薄膜11的树脂和金属的例子相同。构成保护膜2的树脂也可以是PTFE。不过，树脂和金属并不限定于上述例子。

具有厚度方向上的透气性的保护膜2也可以包含拉伸多孔质膜。拉伸多孔质膜也可以是氟树脂的拉伸多孔质膜，特别是PTFE拉伸多孔质膜。PTFE拉伸多孔质膜通常使包含PTFE颗粒的糊剂挤出物或流延膜延伸而形成。PTFE拉伸多孔质膜由PTFE的微小的原纤维构成，有时还具有与原纤维相比处于PTFE内聚的状态的节点。根据PTFE拉伸多孔质膜，能够以较高的等级兼顾防止异物侵入的性能和透气性。保护膜2能够使用公知的拉伸多孔质膜。

具有厚度方向上的透气性的保护膜2也可以包含穿孔膜，在该穿孔膜形成有连接两者的主面的多个贯通孔。穿孔膜也可以是在具有非多孔质的基质构造的原膜、例如无孔膜设有多个贯通孔的膜。穿孔膜除了上述多个贯通孔之外，也可以不具有厚度方向上的透气路径。贯通孔可以在穿孔膜的厚度方向上延伸，也可以是在厚度方向上以直线状延伸的直孔。贯通孔的开口的形状也可以在与穿孔膜的主面垂直地看时为圆或椭圆。穿孔膜能够通过例如对原膜进行的激光加工而形成，或者通过基于离子束照射和在此之后的化学蚀刻进行的开孔加工而形成。

具有厚度方向上的透气性的保护膜2也可以包含无纺布、织布、网眼、网格。

保护膜2既可以具有单层构造，也可以具有包括两个以上的不同的层的多层构造。具有多层构造的保护膜2的例子具有PTFE拉伸多孔质膜和无纺布的层叠构造。

保护膜2并不限定于上述例子。

盖构件1A的保护膜2的形状在与保护膜2的主面垂直地看时为长方形。不过，保护膜2的形状并不限定于上述例子，例如也可以是，在与保护膜2的主面垂直地看时为包含正方形和长方形的多边形、圆以及椭圆。也可以使多边形的角为圆角。

保护膜2的厚度例如是1μm～100μm。

保护膜2的内聚力也可以是2.0N/20mm以下。存在具有厚度方向上的较高的透气性的保护膜2的内聚力较低的倾向。因此，包含具有厚度方向上的较高的透气性的保护膜2的以往的盖构件在剥离时容易使保护膜2破损。另一方面，在盖构件1中，在包含具有厚度方向上的较高的透气性的保护膜2的情况下，也能够抑制保护膜2的破损。换言之，在盖构件1包含具有厚度方向上的较高的透气性的保护膜2的情况下，本发明尤其有利。保护膜2的内聚力也可以是1.8N/20mm以下，还可以是1.5N/20mm以下。具有厚度方向上的较高的透气性的保护膜2例如通过格雷透气度表示，具有100秒/100mL以下的透气度。

保护膜2的内聚力能够参考JIS Z0237：2009所规定的180°剥离粘合力的测量方法，利用以下所示的方法来测量。

＜试验片的准备＞

首先，将作为测量对象的保护膜2切割为长方形(长度为100mm×宽度为20mm)。接下来，准备两片具有与保护膜2相同的形状的双面粘合带(日东电工制，No.5610)。各双面粘合带各自均以外周与保护膜2的一个面和另一个面一致的方式与之粘贴。接下来，准备两片长度为150mm×宽度为20mm的长方形的PET薄膜(厚度为25μm)。各PET薄膜各自均利用上述双面粘合带粘贴于保护膜2的一个面和另一个面。PET薄膜的粘贴以如下的方式实施，即，各PET薄膜的宽度方向上的两端部与保护膜2的宽度方向上的两端部一致，且各PET薄膜的长度方向上的两端部在与PET薄膜的主面垂直地看时不与保护膜2和双面粘合带重叠。其中，作为各PET薄膜的自由端部的长度(长度方向)，确保由拉伸试验机的卡盘稳定地把持PET薄膜的长度(例如25mm)。接下来，使载荷19.6N的压接辊往返一次，以在PET薄膜/双面粘合带/保护膜2/双面粘合带/PET薄膜的层叠体的厚度方向上施加压接力。然后，在开始拉伸试验之前，至少放置30分钟，制成试验片。

＜通过拉伸试验进行的保护膜2的内聚力的测量＞

接下来，准备拉伸试验机(例如岛津制作所制，台式精密万能试验机AUTOGRAPHAGS－X)。将一个PET薄膜的处于试验片的长度方向上的一个端部的自由端部固定于拉伸试验机的上部卡盘。将另一个PET薄膜的处于试验片的长度方向上的另一个端部的自由端部安装于下部卡盘。接下来，在测量温度为25±5℃、测量湿度为60±5％RH以及拉伸速度为300mm/分钟的条件下，实施将另一个PET薄膜的下端部向下拉伸的拉伸试验，使保护膜2产生内聚破坏。在因保护膜2的内聚破坏引起的PET薄膜的位移开始之后，忽略在初始的25mm的位移时所测量的卡盘间的应力，将之后的50mm的位移时连续记录的应力的测量值的平均值设为保护膜2的内聚力(单位：N/25mm)。

保护膜2的面积例如是175mm²以下。保护膜2的面积处于该范围内的盖构件1例如适合相对于具有小径的开口的对象物配置。保护膜2的面积的下限例如是0.20mm²以上。不过，保护膜2的面积根据配置盖构件1的对象物的种类的不同，也可以是更大的值。

盖构件1的面积例如是175mm²以下。面积处于该范围内的盖构件1例如适合相对于具有小径的开口的对象物配置。盖构件1的面积的下限例如是0.20mm²以上。其中，盖构件1的面积根据所配置的对象物的种类的不同，也可以是更大的值。此外，盖构件1的面积越小，越难以从构件供给用的片材剥离。因此，在盖构件1的面积处于上述范围内的情况下，本发明的效果尤为显著。

只要能够得到本发明的效果，则盖构件1也可以具有除上述之外的任意的层和/或构件。

在图6A和图6B中表示本发明的盖构件的与上述不同的一个例子。图6B是从第2基材层4所处一侧观察图6A的盖构件1(1B)的俯视图。图6A表示图6B的A－A剖面。在图6A和图6B中表示处于配置于对象物51的面53的状态的盖构件1B。盖构件1B除了还包括具有1个或两个以上的基材薄膜18的第2基材层4之外，具有与盖构件1A同样的结构。

第2基材层4与保护膜2的另一个主面相接合，与第1基材层3一起夹持保护膜2。在该形态中，能够更可靠地抑制剥离时的保护膜2的破损。另外，在盖构件1具有后述的突耳薄膜5的情况下，能够抑制突耳薄膜5的剥离时的保护膜2的破损。

第2基材层4也可以仅具有由非发泡体构成的非发泡薄膜18A来作为基材薄膜18。基材薄膜18和非发泡薄膜18A的结构能够分别与基材薄膜11和非发泡薄膜11A的结构相同。

在各第1基材层3和第2基材层4中，位于距保护膜2最近的位置的基材薄膜11、18的结构也可以相同。在该形态中，能够更可靠地抑制上述保护膜2的破损。

第2基材层4也可以具有两个以上的基材薄膜18。两个以上的基材薄膜18也可以在与第2基材层4垂直地看时具有相同的形状。另外，两个以上的各基材薄膜18的外周也可以在第2基材层4中彼此一致。两个以上的基材薄膜18通常彼此接合。基材薄膜18的接合法也可以与基材薄膜11的接合法相同。

也可以是，将基材和在该基材的单面或两个面涂布粘合剂而成的单面粘合带或双面粘合带用作基材薄膜18和粘合剂层。在图7中示出使用双面粘合带的例子。

图7的第2基材层4具有两个非发泡薄膜18A、18B作为基材薄膜18。非发泡薄膜18A为双面粘合带20的基材。非发泡薄膜18A和非发泡薄膜18B利用双面粘合带20的粘合剂层19A接合。另外，保护膜2和第2基材层4利用双面粘合带20的粘合剂层19B接合。图7的盖构件1B除了这些方面之外，具有与图6A和图6B的盖构件1B同样的结构。

保护膜2和第2基材层4既可以利用粘合剂或粘接剂接合，也可以通过上述各种熔接法接合。保护膜2和第2基材层4也可以利用粘合剂层接合。粘合剂和粘合剂层的例子如上所述。另外，将保护膜2和第2基材层4接合的粘合剂层也可以是以基材薄膜18为基材的单面粘合带或双面粘合带的粘合剂层(例如图7的粘合剂层19B)。

盖构件1B的第2基材层4在与保护膜2的主面垂直地看时具有与保护膜2的外周一致的外周。另外，盖构件1B的第2基材层4在与保护膜2的主面垂直地看时，具有与保护膜2的周缘部相对应的形状(边框状)。保护膜2的第2基材层4侧的面在未与第2基材层4接触的区域暴露。在保护膜2具有厚度方向上的透气性的情况下，能够将该区域设为盖构件1的透气区域。不过，第2基材层4的形状并不限定于上述例子。

第2基材层4的厚度例如是10μm～700μm，也可以是30μm～300μm。

在图8A和图8B中表示本发明的盖构件的与上述不同的一个例子。图8B是从突耳薄膜5所处一侧观察图8A的盖构件1(1C)的俯视图。图8A表示图8B的A－A剖面。在图8A和图8B中表示处于配置于对象物51的面53的状态的盖构件1C。盖构件1C除了还具有突耳薄膜5之外，具有与盖构件1B同样的结构。

突耳薄膜5配置于盖构件1的最外层之上。在盖构件1配置于面53时，最外层位于最远离面53的位置。图8A和图8B的例子的最外层为第2基材层4所具有的基材薄膜18(18B)。突耳薄膜5在与最外层的主面垂直地看时，具有比最外层的外周向外侧突出的突耳21。图8A和图8B的突耳21的形状在与突耳薄膜5的主面垂直地看时为长方形。突耳21的形状并不限定于该例子。此外，在本说明书中，外侧的意思为，在与保护膜2的主面垂直地看时，远离盖构件1的中心的方向。

突耳薄膜5通常在使用盖构件1时被去除。例如在将盖构件1从构件供给用的片材剥离并配置于对象物51的面53之后，去除突耳薄膜5。也可以通过把持突耳21，来实施将该突耳薄膜5从片材剥离和/或去除突耳薄膜5。

突耳薄膜5与最外层之间的剥离力也可以比构件供给用的片材与盖构件1之间的剥离力大。此外，剥离力的意思为，从处于彼此接合的状态的两个层和/或构件剥离一个层或构件所需的力。

从构件供给用的片材剥离盖构件1例如能够通过将盖构件1中的位于最远离片材的位置的层吸附、把持而使之掀起来实施。该层例如是保护膜2或突耳薄膜5。不过，盖构件1的剥离的方式并不限定于上述例子。

配置盖构件1的对象物51例如是电子设备的壳体。盖构件1能够配置于电子设备的壳体的外表面和/或内表面。此时，开口也可以是设于电子设备的壳体的透气口和/或透声口。电子设备的例子为：智能手表和手环等可穿戴设备；包含运动照相机和监控照相机的各种照相机；手机、智能手机以及平板电脑等信息通信设备；虚拟现实(VR)设备；增强现实(AR)设备；以及传感器设备。不过，电子设备并不限定于该例子。

配置盖构件1从而被防止经过的异物例如是尘埃等颗粒、水滴等液体的水。

在图9和图10中表示使用盖构件1的方式的例子。

在图9的例子中，在作为对象物的电子设备的壳体51的内表面54配置有盖构件1。在壳体51设有开口52，盖构件1以保护膜2覆盖开口52的方式配置于内表面54。在盖构件1配置于内表面54的状态下，第1基材层3位于保护膜2与内表面54之间。第2基材层4面向壳体51的内部的空间。第1基材层3在与内表面54垂直地看时，包围开口52。利用保护膜2来防止异物经过开口52。盖构件1能够作为确保声音经由开口52透过并且防止异物经过的构件发挥功能。另外，在保护膜2具有厚度方向上的透气性的情况下，确保经由保护膜2的透气。此时，盖构件1能够作为确保经由开口52的透气并且防止异物经过的构件发挥功能。

在图10的例子中，第2基材层4与半导体元件55接触。除了该点之外，其他与图9的例子相同。半导体元件55配置于壳体51的内部。也可以在半导体元件55设有透气和/或透声用的开口。此时，也可以是，在与具有该开口的半导体元件55的面垂直地看时，第2基材层4包围该开口。半导体元件55的例子例如是检测气压、湿度、气体、气流或加速度等的各种传感器元件以及扬声器和麦克风等声音转换元件。盖构件1能够作为确保经由开口52和半导体元件55的开口的透气和/或透声、并且防止异物从壳体51的外部经过半导体元件55的构件发挥功能。

使用盖构件1的方式并不限定于上述例子。

盖构件1能够通过例如保护膜2、基材薄膜11、18以及突耳薄膜5的形状加工和层叠来形成。

[构件供给组件]

盖构件1能够由构件供给用的片材供给。在图11中表示通过该片材来供给盖构件1的供给方式即构件供给组件的一个例子。图11的构件供给组件41具有构件供给用的片材31和配置于片材31上的1个或两个以上的盖构件1。在各盖构件1中，第1基材层3面向片材31。根据构件供给组件41，例如能够针对配置于对象物的面的工序高效地供给盖构件1。

在图12和图13中表示盖构件1配置于片材31上的例子。在图12的例子中，图1A的盖构件1A配置于片材31上。在图13的例子中，图8A的盖构件1C配置于片材31上。盖构件1相对于片材31的配置能够使用粘合剂层16(参照图5)。另外，盖构件1也可以借助片材31中的设于盖构件1的配置面的粘合剂层配置于片材31上。配置面的粘合剂层优选为弱粘合性。

构成片材31的材料的例子为纸、金属、树脂以及它们的复合材料。金属例如是不锈钢和铝。树脂例如是PET等聚酯、PE以及PP等聚烯烃。不过，构成片材31的材料并不限定于上述例子。

片材31的厚度例如是1μm～250μm。

图11的构件供给组件41在与片材31的主面垂直地看时具有长方形的片材31。不过，片材31的形状并不限定于该例子。片材31的形状也可以在与片材31的主面垂直地看时为除了长方形之外的多边形(例如正方形)、圆、椭圆或带状。也可以使多边形的角为圆角。

在图11的构件供给组件41中，多个盖构件1在片材31上规则地排列配置。更具体而言，多个盖构件1配置于配置面上的假想的格子的交点。不过，构件供给组件41中的盖构件1的配置的形态并不限定于上述例子。

图11的构件供给组件41在与该组件41的主面垂直地看时为长方形。不过，构件供给组件41的形状并不限定于上述例子。构件供给组件41的形状也可以在与该组件41的主面垂直地看时为除了长方形之外的多边形(例如正方形)、圆、椭圆或带状。也可以使多边形的角为圆角。构件供给组件41的形状也可以与片材31的形状相同。带状的构件供给组件41通常具有带状的片材31。带状的构件供给组件41也可以是卷绕体(也可以被卷绕起来而构成卷绕体)。带状的构件供给组件41也可以卷绕于卷芯而构成卷绕体。

构件供给组件41能够通过将盖构件1配置于片材31上来制造。

实施例

以下利用实施例更详细地说明本发明。不过，本发明并不限定于实施例所示的方式。

首先，表示盖构件的评价方法。

[从构件供给用的片材剥离盖构件的剥离性]

关于实施例和比较例的各盖构件，如以下这样评价从构件供给用的片材进行剥离的剥离性。将制成的盖构件放置于温度为23℃、湿度为65％RH的氛围中24小时，使构成盖构件的各层之间的接合以及盖构件与构件供给用的片材之间的接合稳定。接下来，用镊子把持盖构件的侧面(实施例1、2以及比较例1～3)或突耳薄膜的突耳(实施例3～7、比较例4、5)并掀起，从而将盖构件从构件供给用的片材剥离。将保护膜不产生龟裂等破损，且能够在不使构件供给用的片材弯折的情况下剥离盖构件这样的情况设为优(◎)，将保护膜没有产生龟裂等破损，但盖构件的剥离需要构件供给用的片材的弯折(以盖构件的配置面为外表面的弯折)这样的情况设为劣(△)，将虽然使构件供给用的片材弯折，但在剥离时保护膜产生龟裂等破损这样的情况设为不可(×)。

[在剥离突耳薄膜时有无保护膜的破损]

关于具有第1基材层、第2基材层以及突耳薄膜的实施例3～7以及比较例4、5的各盖构件，如以下所述，对剥离突耳薄膜时有无保护膜的破损进行了评价。将制成的盖构件在温度为23℃、湿度为65％RH的氛围中放置24小时，使构成盖构件的各层之间的接合以及盖构件与构件供给用的片材之间的接合稳定。接下来，用镊子把持突耳薄膜的突耳并掀起，从而将盖构件从构件供给用的片材剥离。接下来，将剥离的盖构件借助第1基材层粘贴于聚碳酸酯板的表面。接下来，用镊子把持突耳，将突耳薄膜从第2基材层剥离。此时，将保护膜产生龟裂等破损的情况设为有破损(×)，将保护膜未产生龟裂等破损的情况设为无破损(〇)。

[第1基材层和构件供给用的片材之间的剥离力]

第1基材层和构件供给用的片材之间的剥离力，与实施例和比较例的各盖构件的制作不同地，按照JIS Z0237：2009所规定的180°剥离粘合力的测量方法，如以下这样进行了评价。

首先，准备用于各盖构件的构件供给用的片材和在各盖构件中与该片材接触的双面粘合带。接下来，将片材和双面粘合带在温度为23℃、湿度为65％RH的气氛下粘贴，在该气氛中放置24小时，使两者之间的接合稳定。在粘贴时，使质量为2kg的压接辊往返一次。接下来，将片材和双面粘合带的层叠体切割为长方形(长度为120mm×宽度为30mm)，得到试验片。接下来，在测量温度为23℃、测量湿度为65％RH以及拉伸速度为300mm/分钟的测量条件下，实施将双面粘合带从片材剥离的180°剥离试验，测量了180°剥离粘合力(单位：N/30mm)。拉伸试验机使用台式精密万能试验机AUTOGRAPH AGS－X(岛津制作所制)。将得到的180°剥离粘合力设为第1基材层和片材之间的剥离力。

[具有第1基材层的盖构件]

(实施例1)

＜保护膜的准备＞

将PTFE细粉体(DAIKIN工业制，POLYFLON PTFE F－104)100重量份数和作为成形助剂的n－十二烷(Japan Energy Corporation制)20重量份数均匀地混合。将得到的混合物使用料筒压缩之后，柱塞挤出成形，形成片状的混合物。接下来，经由一对金属辊将片状的混合物轧制为厚度为0.2mm，进一步通过150℃的加热去除成形助剂，形成PTFE片材成形体。接下来，使形成的片材成形体在延伸温度为260℃、延伸倍率为1.5倍的情况下沿长度方向延伸。接下来，在延伸温度为150℃、延伸倍率为6.5倍的情况下沿宽度方向延伸，进一步在360℃下烧制10分钟，得到PTFE拉伸多孔质膜即保护膜A。保护膜A的内聚力为2.0N/20mm。使用上述的方法评价保护膜A的内聚力。

接下来，使无纺布(厚度为270μm，单位面积重量为70g/m²)接合于保护膜A的一个主面，得到保护膜B。该无纺布包括复合纤维，该复合纤维具有以PET为芯、以聚乙烯为鞘的芯鞘构造。保护膜A和无纺布利用热层压(温度为200℃，压力为0.2MPa)接合。

＜第1基材层的准备＞

准备了双面粘合带A(日东电工制，No.57120B，厚度为100μm)，PET薄膜A(东丽制，Lumirror#25S10，厚度为25μm，非发泡)以及双面粘合带B(日东电工制，No.5603，厚度为30μm)的层叠体(按该顺序配置各层)。双面粘合带A的基材为PE的发泡薄膜(厚度为60μm)。双面粘合带B的基材为PET的非发泡薄膜(厚度为12.5μm)。接下来，以外形为11mm×10mm、内形为6.8mm×3.8mm的边框状对层叠体进行冲裁加工，得到第1基材层A。第1基材层A具有两层非发泡薄膜和1层发泡薄膜来作为基材薄膜。双面粘合带A、B的粘合剂为丙烯酸系。

＜构件供给用的片材的准备＞

作为构件供给用的片材，准备了PET片材(NIPPA制，PET75x1－JOL，厚度为75μm)。片材设为长度为160mm和宽度为60mm的长方形形状。

＜盖构件的制作＞

将保护膜B和第1基材层A利用第1基材层A的双面粘合带B接合。接合通过双面粘合带B和PTFE拉伸多孔质膜彼此接触来实施。接下来，以外径为9mm×6mm的长方形形状对整体进行冲裁加工，得到实施例1的盖构件。冲裁加工以边框状的第1基材层A的内形的中心与该加工后的整体的中心一致的方式实施。接下来，将盖构件借助双面粘合带A配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层A所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带A的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜B且距构件供给用的片材最近的位置。

(实施例2)

作为与保护膜A接合的无纺布，使用了包括复合纤维的无纺布(厚度为105μm，单位面积重量为30g/m²)，该复合纤维具有以PET为芯、以低熔点共聚聚酯为鞘的芯鞘构造，除此之外，与实施例1同样地得到了盖构件。将实施例2的盖构件所具有的保护膜设为保护膜C。盖构件借助第1基材层A的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。

(比较例1)

使用第1基材层B来替代第1基材层A，除此之外，与实施例1同样地得到了盖构件。第1基材层B使用双面粘合带C(日东电工制，No.5610，厚度为100μm)。双面粘合带C的基材为PET的非发泡薄膜(厚度为50μm)。第1基材层B具有1层非发泡薄膜来作为基材薄膜。双面粘合带C的粘合剂为丙烯酸类。盖构件借助第1基材层B的双面粘合带C配置于构件供给用的片材。

(比较例2)

使用第1基材层C来替代第1基材层A，除此之外，与实施例2同样地得到了盖构件。第1基材层C使用双面粘合带A。第1基材层C具有1层发泡薄膜来作为基材薄膜。盖构件借助第1基材层C的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。

(比较例3)

使用第1基材层B来替代第1基材层A，除此之外，与实施例2同样地得到了盖构件。比较例3的盖构件借助第1基材层B的双面粘合带C配置于构件供给用的片材。

在表1中表示第1基材层的结构。在表2中表示实施例1、2和比较例1～3的结构和评价结果。表1的“发泡”和“非发泡”分别表示双面粘合带的基材为发泡薄膜和非发泡薄膜。

[表1]

[表2]

¹⁾剥离力为第1基材层和构件供给用的片材之间的剥离力

²⁾剥离性为从构件供给用的片材剥离盖构件的剥离性

如表1所示，第1基材层具有非发泡薄膜和发泡薄膜的实施例的盖构件与比较例的盖构件相比，剥离性优异。

[具有第1基材层、第2基材层以及突耳薄膜的盖构件]

(实施例3)

＜第2基材层的准备＞

准备了双面粘合带C和PET薄膜B(东丽制，Lumirror#50S10，厚度为50μm，非发泡)的层叠体。接下来，以外形为11mm×10mm、内形为6.8mm×3.8mm的边框状对层叠体进行冲裁加工，得到第2基材层A。

＜盖构件的制作＞

利用第1基材层A的双面粘合带B将第1基材层A相对于保护膜A的一个面接合。接下来，利用第2基材层A的双面粘合带C将第2基材层A相对于保护膜A的另一个面接合。第2基材层A的接合以在与保护膜A的主面垂直地看时，边框状的第1基材层A和第2基材层各自的内形一致的方式实施。接下来，以外径为9mm×6mm的长方形形状对整体进行冲裁加工，得到盖构件。冲裁加工以第1基材层A和第2基材层A的内形的中心成为该加工后的整体的中心的方式实施。接下来，将盖构件借助第1基材层A的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层A所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带A的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜A且距构件供给用的片材最近的位置。

(实施例4)

使用第2基材层B来替代第2基材层A，除此之外，与实施例3同样地得到了盖构件。第2基材层B使用双面粘合带B和PET薄膜B的层叠体。第2基材层B利用第2基材层B的双面粘合带B与保护膜A接合。盖构件借助第1基材层A的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层A所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带A的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜A且距构件供给用的片材最近的位置。

(实施例5)

使用第1基材层D来替代第1基材层A，除此之外，与实施例4同样地得到了盖构件。对于第1基材层D，准备了双面粘合带D(日东电工制，No.57115B，厚度为150μm)，PET薄膜A以及双面粘合带B的层叠体(按该顺序配置各层)。双面粘合带D的基材为聚乙烯的发泡薄膜(厚度为80μm)。第1基材层D具有两层非发泡薄膜和1层发泡薄膜来作为基材薄膜。双面粘合带D的粘合剂为丙烯酸类。第1基材层D利用第1基材层D的双面粘合带B与保护膜A接合。盖构件借助第1基材层D的双面粘合带D配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层D所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带D的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜A且距构件供给用的片材最近的位置。

(实施例6)

使用第1基材层E来替代第1基材层A，除此之外，与实施例4同样地得到了盖构件。对于第1基材层E，准备了双面粘合带E(日东电工制，No.57120B，厚度为200μm)、PET薄膜A以及双面粘合带B的层叠体(按该顺序配置各层)。双面粘合带E的基材为聚乙烯的发泡薄膜(厚度为100μm)。第1基材层E具有两层非发泡薄膜和1层发泡薄膜来作为基材薄膜。双面粘合带E的粘合剂为丙烯酸类。第1基材层E利用第1基材层E的双面粘合带B与保护膜A接合。盖构件借助第1基材层E的双面粘合带E配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层E所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带E的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜A且距构件供给用的片材最近的位置。

(实施例7)

使用第1基材层F来替代第1基材层A，除此之外，与实施例4同样地得到了盖构件。对于第1基材层F，准备了双面粘合带A和双面粘合带B的层叠体。第1基材层F具有1层非发泡薄膜和1层发泡薄膜来作为基材薄膜。第1基材层F利用第1基材层F的双面粘合带B与保护膜A接合。盖构件借助第1基材层F的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。在该状态下，第1基材层F所具有的基材薄膜中的、作为双面粘合带A的基材的发泡薄膜位于最远离保护膜A且距构件供给用的片材最近的位置。

(比较例4)

使用第1基材层B来替代第1基材层A，除此之外，与实施例3同样地得到了盖构件。盖构件借助第1基材层B的双面粘合带C配置于构件供给用的片材。

(比较例5)

使用第1基材层C来替代第1基材层A，除此之外，与实施例3同样地得到了盖构件。盖构件借助第1基材层B的双面粘合带A配置于构件供给用的片材。

在表3、表4中分别表示第1基材层和第2基材层的结构。在表5中表示实施例3～7和比较例4、5的结构和评价结果。表3的“发泡”和“非发泡”分别表示双面粘合带的基材为发泡薄膜和非发泡薄膜。

[表3]

[表4]

[表5]

¹⁾剥离力为第1基材层和构件供给用的片材之间的剥离力

²剥离性为从构件供给用的片材剥离盖构件的剥离性

³破损的有无为在剥离突耳薄膜时的保护膜的破损的有无

如表5所示，第1基材层具有非发泡薄膜和发泡薄膜的实施例的盖构件与比较例的盖构件相比，剥离性优异。另外，在第1基材层仅具有发泡薄膜的比较例5的盖构件中，在剥离突耳薄膜时产生了保护膜的破损。能够推断其原因在于，第1基材层过度柔软，导致剥离突耳薄膜时的保护膜的变形较大，发生了内聚破坏。此外，关于比较例4的盖构件，由于从构件供给用的膜剥离时保护膜发生了破损，因此，无法评价剥离突耳薄膜时的保护膜的破损的有无。

产业上的可利用性

本发明的盖构件能够用于与具有保护膜的以往的盖构件同样的用途。