具体实施方式

为了让本揭露的目的、特征、及优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附附图做详细说明。其中，实施例中的各元件的配置是为说明之用，并非用以限制本揭露。且实施例中附图标号的部分重复，是为了简化说明，并非意指不同实施例之间的关联性。以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本揭露。

此外，实施例中可能使用相对性的用语，例如“较低”或“底部”及“较高”或“顶部”，以描述附图的一个元件对于另一元件的相对关系。能理解的是，如果将附图的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“较低”侧的元件将会成为在“较高”侧的元件。

在此，“约”、“大约”的用语通常表示在一给定值或范围的20％之内，较佳是10％之内，且更佳是5％之内。在此给定的数量为大约的数量，意即在没有特定说明的情况下，仍可隐含“约”、“大约”的含义。

本揭露内容是有关于一种处理装置。在一些实施例中，处理装置可包含一溢流装置，其包括一引流板，可动地配置于盒体部的至少一侧上，且引流板的位置可随处理液的液面调整，以控制处理液的流向并将其导引至盒体部内过滤掉杂质，减少杂质沾附于光学膜材上的机率。

须注意的是，本揭露并非显示出所有可能的实施例，未于本揭露提出的其他实施态样也可能可以应用。再者，附图上的尺寸比例并非按照实际产品等比例绘制。因此，说明书和附图内容仅作叙述实施例之用，而非作为限缩本揭露保护范围之用。另外，实施例中的叙述，例如细部结构、制程步骤和材料应用等等，仅为举例说明之用，并非对本揭露欲保护的范围做限缩。各实施例的步骤和结构的细节可在不脱离本揭露的精神和范围内根据实际应用制程的需要而加以变化与修饰。以下是以相同/类似的符号表示相同/类似的元件做说明。

请参照图1，其绘示根据本揭露一些实施例中，光学膜材100的制程设备示意图。举例而言，在光学膜材100的制程中，可具有以下步骤：膨润处理、染色处理、拉伸处理、交联处理、洗净处理以及干燥处理。光学膜材100可经过多个滚轮160的导引依序通过：用以进行膨润处理的膨润槽110、用以进行染色处理的染色槽120、以及用以进行交联处理的交联槽130。接着，输送光学膜材100通过水洗槽140，以将表面附着的反应溶液洗净。之后，通过干燥炉150予以干燥，即可获得光学膜材100。然而，由于光学膜材100在通过例如是膨润槽110、染色槽120、交联槽130及水洗槽140等光学膜处理槽时，其表面或制程环境中的膜屑或尘埃等杂质容易带入于这些光学膜处理槽中，此些杂质可能附着于光学膜材100的表面，而影响光学膜材100的光学性质与产出品质。

在一实施例中，光学膜材100表面的杂质包括光学膜材屑，例如是聚乙烯醇屑、制程浴槽中的化学药剂结晶、铁锈屑或其他制程材料或设备中产生的杂质。

在一实施例中，所述的光学膜材100可为一单层或多层膜片，例如可为一偏光片、相位差膜、增亮膜或其他对光学的增益、配向、补偿、转向、直交、扩散、保护、防粘、耐刮、抗眩、反射抑制、高折射率等有所助益的膜片。

在一实施例中，光学膜材100可为一聚乙烯醇(PVA)树脂膜，其可通过皂化聚醋酸乙烯树脂制得。聚醋酸乙烯树脂的例子包括醋酸乙烯的单聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯的共聚合物和其他能与醋酸乙烯进行共聚合的单体。其他能与醋酸乙烯进行共聚合的单体的例子包括不饱和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯)、烯烃(例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲丙烯)、乙烯醚(例如乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、异丙基乙烯醚)、不饱和磺酸(例如乙烯基磺酸、乙烯基磺酸钠)等。

请参照图2A，其绘示根据本揭露一实施例的处理装置的光学膜处理槽1的处理液2的循环示意图。光学膜处理槽1可以是上述膨润槽110、染色槽120、交联槽130及水洗槽140中之一，但本揭露不限于此。光学膜处理槽1中贮存有处理液2，且可包括至少一溢流装置3。为便于说明，实施例中，是将光学膜材(未绘示)浸入处理液2的区域定义为一入液区域P1，将光学膜材于处理液2中移送的区域定义为一移送区域P2，将光学膜材从处理液2拉出的区域定义为一出液区域P3。通过至少一溢流装置3的设置，可控制处理液2的流向，并将处理液2中的杂质经由溢流装置3过滤掉，避免这些杂质回流至入液区域P1、移送区域P2或是出液区域P3而沾附于光学膜材。具体而言，溢流装置3可包括一引流板31以及一排水管30，引流板31的位置可随处理液2的液面调整，以将含杂质的处理液2自引流板31导引入内，并经由排水管30排出至光学膜处理槽1外部的循环管路101。于此，循环管路101可设有一净化装置10，借以过滤掉处理液2中的杂质。接着，经过滤净化后的处理液2可再循环流回至光学膜处理槽1中使用。

请参照图2B，其绘示图2A的光学膜处理槽1的上视图。光学膜处理槽1可包括一第一壁11、一第二壁12、一第三壁13及一第四壁14，第一壁11与第三壁13相对，第二壁12与第四壁14相对。在另一实施例中，光学膜处理槽1亦可为其他形状，例如多边形或圆形等，而不以本实施例的附图为限。

实施例中，溢流装置3可设置于光学膜处理槽1内的不同位置，且数量亦不限。举例来说，请参照图2B，溢流装置3可经由一支撑基座(未绘示)而设置于第一壁11、第二壁12、第三壁13及第四壁14的至少一壁上，亦可在每个壁上皆设置溢流装置3。再者，每个壁上亦可设置不只一个溢流装置3。于此，引流板31可配置于面对入液区域P1、移送区域P2及出液区域P3的一侧上，以将漂浮于入液区域P1、移送区域P2或是出液区域P3上方的杂质经由引流板31及排水管30带出，避免杂质回流至入液区域P1、移送区域P2或是出液区域P3。在一实施例中，当溢流装置3设置于第一壁11或第三壁13，光学膜材的行进方向与溢流装置3的长度延伸方向大致垂直；当溢流装置3设置于第二壁12或第四壁14，光学膜材的行进方向与溢流装置3的长度延伸方向大致平行。

在另一实施例中，如图3A和图3B所示，溢流装置3可横跨于第二壁12及第四壁14设置。具体而言，溢流装置3设置于移送区域P2上方，且引流板31分别配置于面对入液区域P1和出液区域P3的相对二侧上，以将漂浮于入液区域P1、移送区域P2或是出液区域P3上方的杂质经由引流板31及排水管30带出。此外，一实施例中，亦可同时在第一壁11、第二壁12、第三壁13及第四壁14的至少一壁上配置一或多个溢流装置3。在图3A和图3B中，光学膜材的行进方向是与溢流装置3的长度延伸方向大致垂直，且由溢流装置3以下的处理液中通过，如图3A所示。于此，溢流装置3的长度延伸方向例如是图3B中，与第一壁11和第三壁13平行的方向。

请参照图4，其绘示根据本揭露一实施例的光学膜处理槽1的部分分解图。溢流装置3还包括一盒体部32，盒体部32例如是具有五面的盒状物体，且排水管30连接于盒体部32，例如是连接于盒体部32的底面。一实施例中，盒体部32符合2≦(ab)/A≦200及c/a≦0.5，其中a为盒体部32的长度，b为盒体部32的宽度，c为盒体部32的高度，A为排水管30的截面积。其中，a不大于750cm；b不大于20cm；c不大于150cm；以及A不大于300cm2。

以下详细描述引流板31的相关配置。实施例中，引流板31是可动地配置于盒体部32的至少一侧上，如此，引流板31的位置可随着处理液2的液面调整。于图4的实施例中，盒体部32可具有一底面及四个侧面，其中底面是与排水管30连接，且引流板31是设置于四个侧面中高度较低的一面。

详细地说，请参照图4～图5，图5绘示根据本揭露一实施例的光学膜处理槽1的立体图。引流板31可具有一开孔310，故可使用一固定件320穿过开孔310而将引流板31锁固于盒体部32的至少一侧上。此处，即是将引流板31固定在盒体部32的四个侧面中高度较低的一面上。在一实施例中，开孔310例如是长条孔，开孔310的长轴是垂直于液面。借此，可依据处理液2的液面高度，而自由调整引流板31的高度，使处理液2可顺利流进引流板31和盒体部32所围成的内部空间3e中。

如图4所示，引流板31可具有一起伏结构31A，起伏结构31A具有一最高点31At和一最低点31Ab。使用者在调整引流板31的位置时，可使处理液2的液面介于起伏结构31A的最高点31At和最低点31Ab之间。如此一来，便能够将处理液2导引至内部空间3e中，如图5所示。

请参照图6A，其绘示起伏结构31A的形状。其中，起伏结构31A的形状是为三角形的连续组合。起伏结构31A相邻波段的最高点的距离为L，起伏结构31A的最高点31At与最低点31Ab之间的距离为H，起伏结构31A是符合0.005≦L/a≦1及0.03≦H/c≦1。较佳的，起伏结构31A是符合0.01≦L/a≦0.1及0.03≦H/c≦0.33，其中，a为盒体部32的长度，c为盒体部32的高度。

虽然图6A所绘示的起伏结构31A的形状为三角形的连续组合，但本揭露并未限定于此。请参照图6B至图6K，其分别绘示本揭露内容实施例的不同形状的起伏结构31B、31C、31D、31E、31F、31G、31H、31I、31J及31K。如图6B所示，起伏结构31B的形状可为三角形的非连续组合。如图6C、图6D、图6E和图6F所示，起伏结构31C、31D、31E和31F可分别包括不同弧度及其组合的弧形。如图6G和图6H所示，起伏结构31G和31H可分别为四边形的连续和非连续组合，四边形例如为梯形。如图6I、图6J和图6K所示，起伏结构31I、31J和31K可为多边形的连续或非连续组合，例如，起伏结构31I和31J可分别为五边形的连续和非连续组合，起伏结构31K可为六边形的连续组合。再者，本揭露起伏结构的形状并未限于此，起伏结构的形状亦可为上述图形的各种组合。

另外，请参照图5，在另一实施例中，溢流装置3可还包括一过滤件4，过滤件4是可拆卸地配置于盒体部32内，例如是配置在内部空间3e中。过滤件4例如是一过滤网。其中过滤件4具有每平方英寸20～500的孔目数(单位：mesh)，借此，可初步滤除较大型的杂质与杂质，以进一步增加滤除杂质的效率，同时可避免大型杂质与杂质造成排水管30阻塞。再者，排水管30的数量可为一个以上，故可依据实际使用情形增加/减少排水管30的数量。

如图5所示，由于排水管30可不断地将内部空间3e中的处理液2向外排出，故内部空间3e中处理液2的液面高度较光学膜处理槽1中的处理液2液面高度低，内部空间3e中的处理液2不会回流至光学膜处理槽1中，防止光学膜材沾附处理液2的杂质。

此外，一实施例中，排水管30是可拆卸地连接于盒体部32。请参照图4，盒体部32可具有一通孔32h，通孔32h例如是设置在盒体部32的底面，但不以此为限。排水管30可具有一开口30h，开口30h对应于通孔32h的大小，例如是依据公差的设计而略小于通孔32h的大小。如此，排水管30可透过开口30h嵌入于通孔32h内而与盒体部32结合，但本揭露不以此结合方式为限。此外，排水管30的内部亦可设置一过滤网(未绘制)，以进一步将杂质滤除而避免排水管30阻塞。所述的过滤网具有每平方英寸40～2500的孔目数(单位：mesh)，配置时，为到达较佳的过滤效果，过滤网每平方英寸孔目数相对于过滤件4的孔目数较多，例如介于过滤件4的孔目数2～5倍之间。

一实施例中，如图4所示，排水管30可还包括一提把301。当需要进行清洗时，使用者可将盒体部32与排水管30拆解开，且可握住提把301而将排水管30拉出光学膜处理槽1进行清洗，便利使用者操作及维护所述的溢流装置。

上述所提供的溢流装置及光学膜处理槽，可控制光学膜处理槽中处理液的流向，以滤除处理液中含有的杂质。溢流装置可依据使用情况而配置于光学膜处理槽内的不同位置，且配置的数量亦不限。溢流装置包括一引流板，可动地配置于盒体部的至少一侧上。借此，引流板的位置可随处理液的液面调整，以控制处理液的流向并将其导引至盒体部内过滤掉杂质，减少杂质沾附于光学膜材上的机率。

接着请参考图7，图7为根据本揭露另一实施例的光学膜处理槽1的立体图。于此实施例中，本揭露的处理装置可还包含一洒水模块250以及一导液结构200。洒水模块250是配置以对一滚轮160喷洒一清洁液体，以除去杂质或残留的处理液，确保在制程中滚轮160的清洁，避免影响光学膜的良率。在一实施例中，清洁液体例如可为水，但不限于此。在一实施例中，洒水模块250的长度与导液结构200的长度大致相同，且对应配置。在一实施例中，洒水模块250是从滚轮下方且/或上方喷洒清洁液体。

在一实施例中，导液结构200是位于滚轮160以及溢流装置3之间，并且导液结构200是配置以导引来自洒水模块250与流经滚轮160的清洁液体。于一些实施例中，导液结构200可由不锈钢材质制成，但不限于此。

请参考图7至图9，图8为根据本揭露另一实施例的光学膜处理槽1沿着X轴方向观看的示意图，并且图9为根据本揭露另一实施例的光学膜处理槽1沿着Y轴方向观看的示意图。于此实施例中，导液结构200具有一本体201以及二侧翼结构202。本体201定义有一长轴方向AX1以及一短轴方向AX2，长轴方向AX1平行于X轴，短轴方向AX2平行于Y轴，并且长轴方向AX1垂直于短轴方向AX2。

如图8所示，当沿着长轴方向AX1(X轴)观察时，二侧翼结构202连接于本体201的相反两侧。于此实施例中，二侧翼结构202分别与一参考平面HL1(第一参考平面)之间形成的一夹角Ag1可为120度～140度，参考平面HL1例如可平行于水平面，但不限于此。另外，第三壁13上可设置有一延伸连接件131，配置以连接于其中一侧翼结构202，例如利用螺丝锁固连接，以使导液结构200悬吊于溢流装置3上。在一些实施例中，延伸连接件131可以被调整，使得导液结构200于Z轴方向上的位置可以任意地被调整。

于此实施例中，侧翼结构202于短轴方向AX2(Y轴)上的长度L1可介于滚轮的半径的一半(半径/2)与半径之间。在一实施例中，滚轮160的半径可为80毫米(但不限于此)，并且侧翼结构202于短轴方向AX2(Y轴)上的长度L1介于40毫米～80毫米。基于此设计，可以确保经过滚轮160的清洁液体都可以落在导液结构200上。

如图7与图9所示，本体201可形成有一沟槽结构，所述沟槽结构具有二第一导引斜面204以及二第二导引斜面206。当沿着短轴方向AX2(Y轴)观察时，二第一导引斜面204是彼此连接，并且二第一导引斜面204是分别连接于相对应的第二导引斜面206。

于此实施例中，二第一导引斜面204分别与一参考平面HL2(第二参考平面)之间形成的一夹角Ag2为160度～170度，二第二导引斜面206分别与一参考平面HL3(第三参考平面)之间形成的一夹角Ag3为90度～110度。参考平面HL2、HL3例如可平行于水平面，但不限于此。在一实施例中，第二导引斜面206的一部分是侵入溢流装置3中的处理液2的液面下，且位于溢流装置3的盒体部32内。在一实施例中，导液结构200与该盒体部32内处理液2的液面接触。另外，在一实施例中，本体201可还包括多个侧挡墙2011，侧挡墙2011是设置于第二导引斜面206的两旁，以导引清洁液体稳定地沿着第二导引斜面206流入溢流装置3。

基于上述结构设计，由导液结构200所引导的清洁液体可以较稳定地沿着第一导引斜面204与第二导引斜面206流至溢流装置3内，进而降低或减少清洁液体直接滴落至处理液而产生的气泡的机率。

如图8所示，当沿着长轴方向AX1(X轴)观察时，滚轮160与第一导引斜面204之间的一最短距离D1与滚轮160的半径的比值(D1/滚轮半径)介于3.75～6.25之间。在一实施例中，最短距离D1可为30～50厘米，滚轮160的半径可为80毫米，基于此设计，可以使得由滚轮160滴落的清洁液体不容易产生喷溅。再者，滚轮160与侧翼结构202之间的一最短距离D2与滚轮160的半径的比值(D2/滚轮半径)介于1.25～2.5之间，在一实施例中，最短距离D2可为10～20厘米，滚轮160的半径可为80毫米，基于此设计，可以增加导液结构200引导清洁液体的范围，并且便于安装设置而不会对滚轮160造成碰撞伤害。另外，滚轮160具有一转轴160X，并且转轴160X与导液结构200(或溢流装置3)的一中心线CL1于短轴方向AX2(Y轴)上的一距离D3与滚轮160的半径的比值(D3/滚轮半径)介于0.125～0.5之间，在一实施例中，距离D3为10～40毫米，滚轮160的半径可为80毫米，基于此设计，可以使洒水模块250所喷出的清洁液体可以完整地被导液结构200引导。基于上述结构设计，可以降低清洁液体由滚轮160落到导液结构200的冲击，进而降低或减少气泡产生的机率。

请参考图10，图10为根据本揭露另一实施例的光学膜处理槽1的部分结构的立体图。在一些实施例中，排水管40可具有第一管体41、第二管体42及底阀座44。当需要排水时，可驱动第二管体42朝向第一管体41移动，使底阀座44上被第二管体42遮蔽的侧开口445露出，进而使处理液2由侧开口445排放。基于排水管40的结构设计，工作人员只需要拉动第二管体42便可以进行排水，而不需要将溢流装置3的盒体部32以及排水管40整个移出光学膜处理槽1，因此本揭露的设计可降低人员的负担以及增加排水的便利性。

在一实施例中，排水管40的第一管体41是连接于溢流装置3的盒体部32的底面，并且第一管体41连通于盒体部32，以使位于盒体部32的液体可以流入第一管体41。在一实施例中，第二管体42是可活动地连接于第一管体41，例如，第一管体41的管径略大于第二管体42的管径，以使第二管体42以可活动的方式套设于第一管体41内，但本揭露并不限于此，也可使第二管体42的管径略大于第一管体41的管径，以使第二管体42以可活动的方式套设于第一管体41外。

在一实施例中，底阀座44配置于光学膜处理槽1的一排水孔15上。具体而言，排水孔15位于光学膜处理槽1的一排水面151上，排水面151的高度(Z轴方向上的位置)低于光学膜处理槽1的底面16，以利于光学膜处理槽1排出处理液2。底阀座44具有一阻挡部441以及一管状部443，并且管状部443的第一部分4431设置于排水孔15的一侧(例如为内侧)，管状部443的第二部分4432设置于排水孔15的另一侧(例如为外侧)，阻挡部441设置于第一部分4431与第二部分4432之间，并且向外径向延伸，以阻挡液体由排水口15与管状部443之间的缝隙流入排水孔15。另外，第二管体42是活动地连接于底阀座44，例如第二管体42是套设于底阀座44的管状部443外，但本揭露并不限于此，也可以是底阀座44的管状部443套设于第二管体42外，且底阀座44的管状部443的第二部分4432设置有多个侧开口445，当光学膜处理槽1有排出处理液2的需求时，可以移动第二管体42使侧开口445露出，以排出光学膜处理槽1内的处理液2。

在一实施例中，第二管体42上可具有一卡勾部421，配置以连接于一驱动件60。在一实施例中，卡勾部421可为一提把，驱动件60可为一炼条，但不限于此。驱动件60可用以拉动第二管体42沿着Z轴方向移动。

请参考图10至图11，图11为根据本揭露一实施例的第二管体42相对于第一管体41移动后的立体示意图。如图11所示，当驱动件60驱动第二管体42沿着Z轴方向朝向第一管体41移动时，被第二管体42遮蔽的侧开口445便会露出。于是，光学膜处理槽1内的处理液2便可经由侧开口445流入排水孔15而被排出至光学膜处理槽1外。

另外，第三壁13上可设置有一固定件50，驱动件60可被固定于固定件50上，以使处理液2持续地经由侧开口445流入排水孔15内。当处理液2排放到所需的水位时，驱动件60可由固定件50解开并放松，此时第二管体42会因重力而朝向阻挡部441移动而遮蔽侧开口445，如图10所示，以使处理液2不再排出。

本揭露提供一种导液结构200，设置于滚轮160以及溢流装置3之间，导液结构200是配置以引导来自洒水模块250以及流经滚轮160的清洁液体，以避免清洁液体直接滴落至溢流装置3而产生气泡的问题。因此，根据本揭露的导液结构200的设计，清洁液体直接滴落至处理液而产生的气泡吸附杂质而造成杂质沾附于光学膜材上的机率可以大幅地被降低。

另外，在一些实施例中，排水管40可具有第一管体41、第二管体42及底阀座44。当需要排水时，可驱动第二管体42朝向第一管体41移动，使底阀座44上被第二管体42遮蔽的侧开口445露出，进而使处理液2由侧开口445排放。基于排水管40的结构设计，工作人员只需要拉动第二管体42便可以进行排水，而不需要将盒体部32以及排水管40整个移出光学膜处理槽1，因此本揭露的设计可降低人员的负担以及增加排水的便利性。

虽然本揭露的实施例及其优点已揭露如上，但应该了解的是，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本揭露的精神和范围内，当可作更动、替代与润饰。此外，本揭露的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何所属技术领域中具有通常知识者可从本揭露揭示内容中理解现行或未来所发展出的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本揭露使用。因此，本揭露的保护范围包括上述制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成个别的实施例，且本揭露的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。