具体实施方式

图1示意性地示出了用于处理凸版板前体(例如印刷版前体P)的装置1000。该装置例如是用于用液体清洗凸版板前体的清洗装置。但是，也可以进行其它处理，例如刷洗、漂洗、喷涂、干燥、辐照、显影、加热、冷却、清除凸版板前体的材料、用气体或液体处理凸版板前体、打磨凸版板前体、切割凸版板前体、用电磁波处理凸版板前体、或它们的组合。

装置1000包括输送系统210、220、230，该输送系统210、220、230具有至少一个，优选地至少两个，甚至更优选地至少三个输送杆100，该输送杆100旨在联接至凸版板前体。例如，如图1所示，可以向输送系统210、220、230提供四个输送杆100。输送杆100联接到凸版板前体P的前缘3，优选地，输送杆100延伸超过前缘3的整个长度，使得输送杆100的端部可以联接至输送机构，参见下文进一步的描述。注意，还可以将多个凸版板前体联接至输送杆100。优选地，输送杆100的长度在100mm至1000mm之间，更优选地，在1000mm至4000mm之间。

装置1000包括：板联接工位300，其配置为将凸版板前体P联接至输送杆100；处理室400，其配置为用于在联接有凸版板前体P的输送杆100移动穿过处理室400时，处理凸版板前体；以及板分离工位500，其配置为使处理后的凸版板前体P与输送杆100分离。输送系统210、220、230配置为：在于板联接工位300中联接至凸版板前体P之后，自动地将每个输送杆100从板联接工位300穿过处理工位400移动至板分离工位500，并且在与处理后的凸版板前体P分离之后，从板分离工位500返回至板联接工位300，从而使得输送杆100以闭环方式移动通过装置1000。在图1所示的示例中，四个输送杆100在装置1000中循环。

在一个优选实施例中，每个输送杆100都设置有多个穿透元件110(这里以销或杆的形式)，并且板联接工位300配置为在凸版板前体P的前缘3附近区域中接合多个穿透元件110。在图1中，凸版板前体P具有：前缘3和后缘4，二者均垂直于凸版板前体P通过装置1000的前向输送方向Tf；以及两个侧边缘1、2，两个侧边缘1、2平行于前向输送方向Tf。凸版板前体P的前缘3附近的区域联接至输送杆100的多个穿透元件110。图2和图2A示出了输送杆100的更详细的示例性实施例。如在图2A中最佳可见，多个穿透元件100优选地具有尖锐的尖端113，并且板联接工位300优选地配置为使得多个穿透元件110至少部分地穿入或穿过凸版板前体P的前缘3的附近的未穿孔区域。然而，应注意，根据另一示例性实施例，图1的装置1000也可以与输送杆100一起使用，输送杆100设置有多个不具有尖锐的尖端的穿透元件110。例如，可以在使凸版板前体P到达板联接工位300之前对凸版板前体P的前缘3附近的区域进行预穿孔，从而可以通过前缘3附近区域中的预穿孔来布置多个穿透元件110。

处理室400具有入口侧410和出口侧420。连接有凸版板前体P的输送杆100从入口侧410移动至出口侧420通过处理室400，其中，输送杆100在前向输送方向Tf上移动。在处理室400的出口侧420和板分离工位500之间设置有板排出区域600。凸版板前体P在于分离工位500中与输送杆100分离之前，通过输送系统从处理室400中完全拉出，进入板排出区域600中。以此方式，当凸版板前体P与输送杆100分离时，凸版板前体P可以在板排出区域600中排出。在板排出区域600的底部，可以设置移除器件，该移除器件配置为在凸版板前体P于板分离工位500中与输送杆100分离之后，移除处理后的凸版板前体P。在所示的实施例中，移除器件700是手推车，该手推车配置为在板排出区域600中接收处理后的凸版板前体P，并且从板排出区域600中移出，由此该手推车可以容易地从板排出区域移走。例如，如果装置1000是清洗机，则操作员可以将清洗后的凸版板前体P运送到干燥机，以干燥清洗后的凸版板前体。在其它未示出的实施例中，移除器件700可以是货架、机器人、输送带、至少一个旋转滚筒等。同样，这种器具可以配置为在凸版板前体P于板分离工位500中分离之后使处理后的凸版板前体P从板排出区域600移出。

在图1的实施例中，输送系统包括前向输送机构，该前向输送机构包括：第一机构210，其位于装置1000的一侧上；和第二输送机构220，其位于装置1000的另一侧上。输送机构210、220配置为在前向输送方向Tf上至少使联接有凸版板前体P的输送杆100从处理室400的入口侧410输送到处理室400的出口侧420，以及从出口侧420输送到板分离工位500。为此，输送杆100的第一端101与第一前向输送机构210联接，输送杆100的第二端102与第二前向输送机构220联接。如图9中的示例性实施例所示，输送系统可包括杆联接件215，该杆联接件215配置为将输送杆，更具体地，将输送杆的端101和第二端102联接至第一前向输送机构210和第二前向输送机构220。杆联接件215可以例如配置为用于在第一前向输送机构和第二前向输送机构的方向上推动或移动输送杆100，以使得输送杆100的端部101和102联接至前向输送机构210、220。在图1的实施例中，处理室400具有相对的第一侧面430和第二侧面440，第一侧面430和第二侧面440在前向输送方向Tf上延伸，并且第一前向输送机构210和第二前向输送机构220分别在处理室400的相对的第一侧面430和第二侧面440上延伸。

如图9所示，在一个示例性实施例中，第一前向输送机构210包括第一丝杠，并且输送杆100的第一端101设置有第一联接部121，该第一联接部121配置为联接至第一丝杠210。以类似的方式，第二前向输送机构220可以设置有第二丝杠，该第二丝杠可以联接至第二联接部122。这些第一联接部121和第二联接部122也在图2中示出。然而，在其它实施例中，第一前向输送机构210和/或第二前向输送机构220可以包括其它输送器件，例如链或带，并且第一联接部121和第二联接部122可以相应地适配。

输送系统还包括后向输送机构230，该后向输送机构230配置为将输送杆100从板分离工位500输送回板联接工位300。在图1所示的实施例中，后向输送机构230位于装置1000的上侧。然而，在其它实施例中，后向输送机构230可以布置在装置1000的下部中，位于前向输送机构210、220的下方。后向输送机构230可包括以下中的任一项：一个或多个带、一个或多个链、一个或多个丝杠、线性马达或它们的组合。

在图1中，后向输送机构230居中地布置在处理室400上方。然而，后向输送机构230也可以通过第一后向输送机构和第二后向输送机构来实现，该第一后向输送机构和第二后向输送机构位于处理室400的相对的侧面上，在第一前向输送机构210和第二前向输送机构220的上方或下方。可选地，后向输送机构可以位于处理室的侧面，并且可选地，输送杆可以在竖直位置旋转并被向后输送。然而，为了降低装置的占地面积，后向输送机构优选地位于第一前向输送机构210和第二前向输送机构220的上方或下方。

如图1所示，后向输送机构230部分地位于处理室400上方，并且输送系统还包括向上输送机构250，该向上输送机构250配置为使在板分离工位500中的分离的输送杆100向上地朝向后向输送机构230移动。例如，向上输送机构250可以使输送杆100在向上方向Tu(通常是竖直方向)上朝向后向输送机构230移动，该后向输送机构230使输送杆100在与前向输送方向Tf相反的后向输送方向Tb上移回板联接工位300。向上输送机构250可以包括以下中的任何的一个或多个：磁性器件、电磁器件、夹紧器件、真空器件、线性马达、链、带、丝杠、活塞或它们的组合。在其它实施例中，其中后向输送机构230位于前向输送机构的下方，可以设置有向下输送机构。向下输送机构可以包括以下中的任何的一个或多个：磁性器件、电磁器件、夹紧器件、真空器件、线性马达、链、带、丝杠、活塞或它们的组合，或者可以通过重力实现。

图2和图2A示出了输送杆100的更详细的示例性实施例。输送杆100在第一端101和第二端102处设置有第一联接部121和第二联接部122。在这种情况下，联接部121配置为具有联接器件，以与丝杠结合使用。图2A示出了具有穿透元件110的输送杆100的特写。每个穿透元件110都具有连接部111、穿透部112和尖端113。值得注意的是，在这种情况下，穿透部112具有矩形横截面和不对称的尖端113。优选地，在垂直于穿透方向的横截面中观察，穿透部分112的最大尺寸小于5mm，更优选地，小于3mm。换句话说，在所示的矩形横截面的示例中，矩形的最长边优选地小于5mm，更优选地小于3mm。输送杆100配备有通道120，该通道120允许销从输送杆下方穿过输送杆100，还参见下面讨论的图3和3A。

现在将参考图3、图3A、图4和图4A-4C详细描述板联接工位300和在板联接工位300中发生的步骤的示例性实施例。图3和3A示出了联接工位300中的输送杆100。板联接工位300包括对准件，在此为可移动销320的形式，该对准件配置为使凸版板前体P相对于输送杆100对准。可移动销320在输送杆100附近延伸。为此，输送杆100设置有通道120，该通道120允许销从输送杆100下方穿过输送杆100到达它们穿过输送杆100突出的位置，如图3A中最佳可见。在将凸版板前体P对准对准销320之后，使对准销320向下移动，并且锤工具310推动多个穿透元件110穿过凸版板前体的材料，参见图4A和4B。在一个优选实施例中，锤工具310包括多个孔311，多个孔311配置为用于接收多个穿透元件110。然而，其它的锤工具310也是可能的，本领域技术人员将理解，也可以提供例如配置为用于接收多个穿透元件110的一个细长凹部，而不是一系列孔311。

图5示出了输送杆100的另一个示例性实施例，该输送杆100设置有多个穿透元件110，该穿透元件110附接到一个或多个可移动板180，该可移动板180被锤工具(未示出)向下推动，以将多个穿透元件110至少部分地推进入印刷版前体的材料中。穿透元件110的长度可以使得穿透元件110的尖端113在穿透凸版前体之后终止于前体下方的板的孔中。在这样的实施例中，锤工具可以具有平坦的下表面。此外，可以设置驱动器，以使得一个或多个可移动板180向上移动，以接收凸版板前体，从而激活锤工具。代替具有用于多个穿透元件110的可动板180，可以为每个穿透元件设置可枢转臂，然后将锤工具推向可枢转臂。

图6A和图6B示出了输送杆100的另一实施例，该输送杆100设置有多个穿透元件110，该穿透元件110配置为穿透凸版板前体P的前缘3附近的未穿孔区域。在该实施例中，穿透元件110具有锋利的刀刃130，该刀刃130能够被锤工具推动穿过凸版板前体的材料。在这样的实施例中，锤工具将穿透元件110向下推入凸版板前体P的材料中。由多个穿透元件110引起的穿透作用优选地在不去除材料的情况下在凸版板前体的材料中产生孔。

注意，穿透元件110的形状可以变化，并且该形状可以是例如以下中任意一种：管状、刀片状、针状或它们的组合。优选地，每个穿透元件110都包括旨在基本垂直地延伸穿过凸版板前体的穿透部分112(见图2A和6A)，其中，穿透部分112的长度在1mm至20mm之间。在其它实施例中，代替为输送杆提供多个穿透元件，输送杆可以设置有一个或多个具有锋利边缘的细长刀片元件。

图7A和图7B示意性地示出了板分离工位500和在板分离工位500中执行的步骤。在图7A中，凸版板前体P仍联接至输送杆100。在输送杆100被保持在适当的位置的同时，存在于凸版板前体P下方的分离工具510向上移动，由此凸版板前体P从多个穿透元件110中移除。在凸版板前体P从多个穿透元件110中移除之后，凸版板前体P可以落入板排出区域600，并且可以从装置1000中移除，如已经在上文参考图1所示出的。分离工具510可以是简单的线性棒或杆或具有波纹状或齿状结构的杆。优选地，使用波纹状或齿状结构以简化分离。

如在图1中所示，装置1000优选地包括控制单元800，该控制单元800配置为控制装置的不同部件，例如输送机构210、220、230、250，使得当多个输送杆中的一个输送杆100移动通过处理室400时，另一个输送杆100移回至板联接工位300。更优选地，至少三个输送杆在系统中移动。在图1中，装置1000被示出为具有四个输送杆，四个输送杆被控制为，同时地，在板联接工位300中存在一个输送杆，在处理室400中存在一个输送杆，在板分离工位500中一个输送杆，并且一个输送杆由后向输送机构230向后输送。优选地，至少两个输送杆中的一个被运输通过处理区域，同时另一个输送杆被运输回联接工位。此外，在前向输送方向Tf上的输送速度可以与在后向输送方向Tb上的输送速度不同，其中优选地，在后向输送方向Tb上的输送速度比在前向输送方向Tf上的输送速度快。例如，在后向输送方向的输送速度除以在前向输送方向的输送速度的比率可以在1至400的范围内，优选地，在2至300的范围内。通常地，前向输送速度和后向输送速度在1mm/秒至1000mm/秒的范围内。

图8示出了装置1000的进一步发展的示例性实施例。处理室400包括多个旋转刷450。凸版板前体P被拉到刷450的下方，以便被清洁。刷可以布置为，使得它们位于凸版板前体P上方。可以设置另外的喷嘴和液体注入器件(未示出)，以清洗凸版板前体，同时刷450在凸版板前体上方旋转。在所示的实施例中，刷450具有垂直于凸版板前体P的移动方向布置的旋转轴线。然而，在其它实施例中，可以设置围绕竖直旋转轴线安装的大量旋转刷，这些旋转刷至少部分地浸入液池中。旋转刷450或任何可选的刷布置为用于彻底地清洁凸版板前体。刷的旋转方向可以与输送方向相同或相反，优选地，一些刷在输送方向上旋转，一些刷在与输送方向相反的方向上旋转。另外，刷可以在平行于它们轴线的方向上移动(摆动)。刷的速度可以在很宽的速度范围上变化，例如在1rpm至约2000rpm的范围内变化。另外，可以使用扁平的旋转刷或摆动刷。通过控制刷与板前体接触的压力和/或刷到板前体表面的距离，也可以改变侵入性。刷可以相同或不同，并且可以在以下方面发生改变：直径、刷毛的刚度或硬度、刷毛的密度、刷毛的厚度、刷毛的材料(例如铝、不锈钢、黄铜、聚乙烯、聚甲醛、聚酰胺(尼龙)、聚酯或它们的组合)、刷毛的布置(螺旋形或线性)、刷毛的长度和形状(例如圆形、椭圆形或矩形或六边形的横截面)或它们的组合。刷的侵入强度(高侵入性涉及去除大部分的材料)可以通过将侵入强度从开始时的高侵入性改变为工艺结束时的低侵入性来改变，或者以相反的方式来改变。

所使用的液体的性质取决于所采用的前体的性质。如果待去除的层在水或水溶液中是可溶解的、可乳化的或可分散的，则可以水或水溶液可以用作预清洗工位中的第一液体。如果该层在有机溶剂或有机混合物中是可溶解的、可乳化的或可分散的，则有机溶剂或有机混合物可以用作预清洗工位中的第二液体。如果前体具有水性可显影层，则水或主要为水性的溶剂可以用作显影工位中的第二液体。在有机可显影前体的情况下，不同的有机溶剂或它们的混合物可以用作显影工位中的第二液体。相应地，取决于待清洗的凸版层的性质，后清洗工位可以用作为第三液体的水、水溶液、有机溶剂或有机溶剂的混合物来操作。

液体可以是水或水溶液，水或水溶液可以包含其它成分，例如盐、酸、碱、乳化剂、分散助剂、粘度调节剂、表面活性剂或它们的组合。盐、酸和碱可用于控制液体的pH值。乳化剂和分散助剂可用于增强液体吸收材料的能力，以及稳定此类乳化液和分散体。水溶液可以包括：有机溶剂，例如醇、酯、醚；或烃，或它们的组合。

液体可以是有机溶剂或有机溶剂的混合物。例如，可以使用显影剂，该显影剂包括环烷或芳族石油馏分，环烷或芳族石油馏分与醇(例如苄醇、环己醇或具有5至10个碳原子的脂族醇)混合；以及可选地，其它组分，例如脂环族烃、萜类烃、取代苯(例如二异丙基苯)、具有5至12个碳原子的酯、或二醇醚。例如在文献EP-A332070或EP-A433374中公开了合适的清洗剂。另外，溶剂和溶剂混合物可以包括其它成分，例如盐、酸、碱、乳化剂、分散助剂、粘度调节剂、抗静电剂、水、表面活性剂或它们的组合。为了安全起见以及为了降低成本和装置的复杂度，使用有机溶剂时的温度应比所使用的清洗剂混合物的闪点低5℃至15℃。

处理室可以是使用单种液体的单元，但是也可以由两个或更多个可以使用相同流体或不同流体的子单元组成。同样，刷和包括泵、过滤器、槽、软管等的液体处理系统的布置可以是通用的，或者是根据子单元的数量划分的。

然而，取决于期望的处理，可以在处理室400中设置其它类型的处理器件。各种类型的处理可以选自清洗、刷洗、漂洗、喷涂、干燥、照射、显影、加热、冷却、去除材料、用气体或液体处理、打磨、切割、用电磁波处理、以及它们的组合。

而且，在处理室400中的处理可以是热处理，该热处理导致凸版板前体的液化部分，然后使液化部分与移动的受体材料(例如网、非织物材料或箔)接触，熔化的材料粘附至该受体材料，并且液化部分与受体材料一起被连续地去除。此外，代替具有一个处理室400，可以设置多个连续的处理室。

例如，可以提供后处理室，以对凸版板前体进行后处理，所述后处理选自清洗、刷洗、漂洗、喷涂、干燥、照射、显影、加热、冷却、去除材料、用气体或液体处理、打磨、切割、用电磁波处理、以及它们的组合。后处理室及其部件可以由控制器控制，以便根据需要调节条件。优选地，后处理包括干燥和/或用电磁波处理(后曝光)。

干燥工位允许可以完全去除液体。这可以通过加热或通过降低压力或两者的结合来实现，从而加快液体的蒸发。加热可以通过烤炉、热气(优选空气或蒸汽)、IR光照射、微波照射或它们的组合来实现。压力的降低可以通过通风、真空泵(例如扩散泵、吸气泵、油泵等)、文丘里管或它们的组合来实现。优选地，使用IR灯或热空气进行加热来进行干燥。优选地，在40℃至200℃，优选地，在50℃至160℃，更优选地，在在50℃至100℃，最优选地，在50℃至80℃的温度下进行干燥。在柔性版印刷元件的尺寸稳定支撑件是金属支撑件的情况下，干燥也可以在高达约160℃的较高温度下进行。

后曝光可以用于使显影的前体的表面不发粘和/或进一步固化可光固化的凸版层。在该工位中，显影的前体用电磁射线处理，优选地，用UVA或UVC光处理。作为光源，可以使用荧光灯、LED或闪光灯或这些光源中的几种的组合。优选地，安装LED或荧光灯。光源可以连接至控制系统，该控制系统控制曝光时间、波长(在安装了具有不同发射光谱的光源的情况下)、光强度或它们的组合。

此外，可以设置预处理室，以对凸版板前体进行预处理，所述预处理选自：切割、烧蚀、暴露于电磁辐射、以及它们的组合。同样，在后处理和预处理期间，印刷版前体可以保持与输送杆联接。预处理室及其部件可以由控制器控制，以便根据需要调节条件。

优选地，预处理工位包括烧蚀器件、曝光器件或两者的组合。烧蚀处理包括从至少一层去除材料。例如，可以根据图像数据去除至少一层材料。更具体地，执行处理可以包括以下任意一项：暴露于电磁波中；雕刻，例如机械雕刻；暴露于物质射流，例如粒子射流、流体射流、气体射流；暴露于等离子体中；暴露于连续的网中，例如用于热显影；或它们的组合。电磁波可以是例如以下任意一种：宽带电磁波、窄带电磁波、单色电磁波、大面积电磁波(例如，使用灯)、选择性电磁波(例如由激光发射)、沿着感光鼓的整个轴向长度或者沿着感光鼓的一部分轴向长度发射的波、连续或脉冲电磁波、高能或低能电磁波、烧蚀或引发电磁波、UV到IR电磁波。电磁波的波长可以在200至20000nm的范围内，优选地，在250至15000nm的范围内，更优选地，在300至11000nm的范围内，最优选地，在350至11000nm的范围内。电磁辐射的总功率为从足以触发化学反应的低值到导致材料快速加热和蒸发或烧蚀的高值的范围，例如在0.1mW至2000W的范围内，优选地，在1mW至1000W的范围内，更优选地，在5mW至7500W的范围内，最优选地，在1W至200W的范围内。通常地，烧蚀光束在表面上移动，以便例如通过旋转镜或在滚筒上旋转凸版板前体来产生图像。

曝光器件包括电磁辐射源，该电磁辐射源将具有所需波长的光传递到凸版板前体的前面或后面。优选地，波长处于电磁光谱的UV-Vis区域中。电磁波的波长可以在200至800nm的范围内，优选地，在250至500nm的范围内，更优选地，在300至450nm的范围内，最优选地，在350至400nm的范围内。电磁辐射的强度可以在0.1mW/cm²至200W/cm²的范围内，优选地，在1mW/cm²至200W/cm²的范围内，更优选地，在10mW/cm²至200W/cm²的范围内。作为光源，可以使用金属卤化物灯、荧光灯、LED或闪光灯或这些光源中的几种的组合。优选地，安装LED或荧光灯。光源可以连接至控制系统，该控制系统控制曝光时间、波长(在安装了具有不同发射光谱的光源的情况下)、光强度或它们的组合。光源和板前体在曝光期间可以是静止的，或者在曝光期间可以相对彼此运动。优选地，条状LED阵列移动穿过板前体或板前体通过LED阵列。通常地，曝光通过掩模进行，该掩模可以是板前体的集成部分或单独的掩模层或可电子切换的掩模(例如，具有可切换的透明和非透明区域或像素的显示器状的器件)。也可以使用不使用掩模的扫描光束。曝光室可以在环境条件下或在特定大气(例如氧气含量降低)中使用。

图9详细地示出了板联接工位300，该板联接工位300用于将输送杆100联接至前向输送机构210、220的位置。活塞215将输送杆100朝向丝杠的起点推动，并使输送杆与丝杠接合。注意，在图9中未示出凸版板前体P，但是在所示位置中，通常地，凸版板前体P联接至多个穿透元件110。

图10示出了具有刷450的处理室400的俯视图，并且第一前向输送机构210在处理室400的一个侧面上延伸。图10还示出了多个用于驱动刷450旋转的联接器件455。

图11A、图11B和图11C详细示地出了板分离工位500的示例性实施例。在图11A中，输送杆100处于低位置。在该位置，通过分离工具510使凸版板前体P与输送杆100的穿透元件110分离，该分离工具510在前缘3附近推靠印刷版前体的下表面。板分离工位500包括横向构件530，该横向构件530设置有磁体520，以向上拉动输送杆100。空气活塞525设置为使横向构件530与磁体520一起向上或向下移动。接下来，如图11B和图11C所示，输送杆100在向上的方向Tu上朝向后向输送机构230移动，并且印刷版前体可以下落在排出区域600中。

一般地，凸版板前体包括由第一材料制成的支撑层和由不同于所述第一材料的第二材料制成的附加层。支撑层可以是柔性金属、天然或人造聚合物、纸或它们的组合。优选地，支撑层是柔性金属或聚合物膜或片。在柔性金属的情况下，支撑层可包括薄膜、筛状结构、网状结构、织物或非织物结构或它们的组合。钢、铜、镍或铝板是优选的，并且可以具有约50至1000μm的厚度。在聚合物膜的情况下，该膜在尺寸上是稳定的，但可弯曲，并且可以由例如聚亚烷基、聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺和聚碳酸酯、用织物、非织物或层状纤维(例如玻璃纤维、碳纤维、聚合物纤维)增强的聚合物或它们的组合。优选地，使用聚乙烯和聚酯箔，并且它们的厚度可以在约100至300μm的范围内，优选地，在100至200μm的范围内。

凸版板前体可以带有附加层。例如，附加层可以是以下任意一种：可直接雕刻层(例如通过激光)、溶剂或水可显影层、热可显影层、光敏层、光敏层和掩模层的组合。可选地，可以在附加层的顶部上设置一个或多个另外的附加层。这样的一个或多个另外的附加层可以包括位于所有其它层的顶部的覆盖层，该覆盖层在对可成像层进行成像之前去除。一个或多个附加层可以包括凸版层和防光晕层，该防光晕层位于支撑层和凸版层之间或位于支撑层的与凸版层相对的一侧。一个或多个附加层可以包括凸版层、可成像层以及一个或多个阻挡层，该一个或多个阻挡层位于凸版层与可成像层之间，该一个或多个阻挡层防止氧的扩散。在上述不同层之间可以设置一个或多个粘合层，一个或多个粘合层确保不同层的正确粘合。

在优选实施例中，凸版板前体包括由聚合物材料的聚酯制成的支撑层，以及由可直接雕刻的材料(例如树脂材料)制成的附加层。然后，可选层可以是激光烧蚀层。在示例性实施例中，凸版板前体可至少包含尺寸上稳定的支撑层、凸版层和可成像掩模层。可选地，可以存在其它层。可以存在位于所有其它层的顶部的覆盖层，该覆盖层在对可成像掩模层进行成像之前去除。在支撑层和凸版层之间可以存在防光晕层，或者防光晕层可以位于支撑层的与凸版层相对的一侧。在凸版层和可成像掩模层之间可以存在一个或多个阻挡层，一个或多个阻挡层防止氧的扩散。在上述不同层之间可以设置一个或多个粘合层，一个或多个粘合层确保不同层的正确粘合。一个或多个层可以通过用液体处理而去除。对于不同的层，所使用的液体可以相同或不同。优选地，所使用的液体是不同的。

在优选实施例中，凸版板前体包括光敏层和掩模层。掩模层可以在处理期间被烧蚀或改变透明度，并形成具有透明和非透明区域的掩模。在掩模的透明区域下面，光敏层在照射时经历溶解度和/或流动性的变化。该变化用于通过在一个或多个后续步骤中去除光敏层的一部分来产生凸版。溶解度和/或流动性的变化可以通过光诱导聚合和/或交联来实现，从而使得被照射的区域的溶解性更低和熔融性更低。在其它情况下，电磁辐射可导致键的断裂或保护基团的裂解，从而使得被照射的区域的溶解性更高和/或熔融性更高。优选地，使用使用光诱导交联和/或聚合的工艺。

在一个实施例中，柔性板包括光敏层，该光敏层至少包括光引发剂或光引发剂系统、粘合剂和反应性化合物或单体。光引发剂是一种化合物，该化合物在受到电磁辐射照射后可形成反应性物质，该反应性物质可引发聚合反应、交联反应、断链或键断裂反应，这导致组合物的溶解度和/或熔融性的变化。光引发剂是已知的，光引发剂发生裂解并产生自由基、酸或碱。这些引发剂是本领域技术人员已知的，并描述于以下文献中：[Bruce M.Monroeet al.，Chemical Review，93，435(1993)]，[R.S.Davidson，Journal of Photochemistryand Biology A:Chemistry，73，81(1993)]，[J.P.Faussier，PhotoinitiatedPolymerization-Theory and Applications:Rapra Review，Vol.9，Report，RapraTechnology(1998)]，[M.Tsunooka et al.，25Prog.Polym.Sci.，21，1(1996)]，[F.D.Saeva，Topics in Current Chemistry，1 56，59(1990)]，[G.G.Maslak，Topics inCurrent Chemistry，168，1(1993)]，[H.B.Shuster et al.，JAGS，112，6329(1990)]and[I.D.F.Eaton et al.，JAGS，102，3298(1980)]，[P.Fouassier and J.F.Rabek，RadiationCuring in Polymer Science and Technology，pages 77to 117(1993)]或[K.K.Dietliker，Photoinitiators for free Radical and Cationic Polymerisation，Chemistry&Technology of UV&EB Formulation for Coatings，Inks and Paints，Volume，3，Sita Technology LTD，London 1991]；or[R.S.Davidson，Exploring theScience，technology and Applications of U.V.and E.B.Curing，Sita TechnologyLTD，London 1999]。其它的引发剂描述于以下文献中:JP45-37377，JP44-86516，US3567453，US4343891，EP109772，EP109773，JP63138345，JP63142345，JP63142346，JP63143537，JP4642363，JP59152396，JP61151197，JP6341484，JP2249 and JP24705，JP626223，JPB6314340，JP1559174831，JP1304453和JP1152109.

粘合剂是线性聚合物、支化聚合物或树枝状聚合物，它们可以是均聚物或共聚物。共聚物可以是无规、交替或嵌段共聚物。使用那些在水溶液、有机溶剂或两者的组合中可溶解、可分散或可乳化的聚合物作为粘合剂。合适的聚合物粘合剂是通常用于生产凸版印刷版的那些，例如完全或部分水解的聚乙烯酯，例如部分水解的聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇衍生物，例如部分水解的乙酸乙烯酯/环氧烷接枝共聚物，或随后通过聚合物类似反应而丙烯酸化的聚乙烯醇(例如在文献EP-A-0079514、EP-A-0224164或EP-A-0059988中描述的)，以及它们的混合物。如例如在文献EP-A-00856472或DE-A-1522444中所描述的，可溶于水或水/醇混合物的聚氨酯或聚酰胺也适合作为聚合物粘合剂。对于柔性版印刷前体，使用弹性体粘合剂。热塑性弹性体嵌段共聚物包括至少一个基本上由烯基芳族化合物组成的嵌段，和至少一个基本上由1，3-二烯组成的嵌段。烯基芳族化合物可以是例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯或乙烯基甲苯。苯乙烯是优选的。1，3-二烯优选是丁二烯和/或异戊二烯。这些嵌段共聚物可以是线性、支化或放射状的嵌段共聚物。一般而言，它们是ABA型的三嵌段共聚物，但是它们也可以是AB型的二嵌段聚合物，或者可以是具有多个交替的弹性体和热塑性嵌段的聚合物。例如ABABA。也可以使用两个或更多个不同嵌段共聚物的混合物。商业三嵌段共聚物通常包括二嵌段共聚物的某些部分。二烯单元可以是1，2-或1，4-连接的。此外，也可以使用具有苯乙烯和嵌段以及无规苯乙烯-丁二烯中间嵌段的热塑性弹性体嵌段共聚物。当然，也可以使用两种或更多种热塑性弹性体粘合剂的混合物，条件是不会对凸版形成层的性能造成负面影响。和所描述的热塑性-弹性体嵌段共聚物一样，可光聚合层也可以包含除了嵌段共聚物以外的另外的弹性体粘合剂。使用这种另外的粘合剂，也称为辅助粘合剂，可以改变可光聚合层的性能。辅助粘合剂的示例是乙烯基甲苯-α-甲基苯乙烯共聚物。这些聚合物粘合剂通常占层总量的重量的20％至98％，优选地，50％至90％。

适用于制备混合物的反应性化合物或单体是可聚合的并且与粘合剂相容的那些。这种类型的有用的单体通常具有高于100℃的沸点。它们的分子量通常小于3000，优选地，小于2000。所用的烯键式不饱和单体应与粘合剂相容，并且它们具有至少一个可聚合的烯键式不饱和基团。作为单体，特别地，可以使用丙烯酸或甲基丙烯酸与单或多官能醇、胺、氨基醇或羟基醚和羟基酯的酯或酰胺，富马酸或马来酸的酯和烯丙基化合物的酯。丙烯酸或甲基丙烯酸的酯是优选的。优选1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1，9-壬二醇二丙烯酸酯或三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。当然可以使用不同单体的混合物。基于各情况中凸版形成层的所有成分的总和，在凸版形成层中使用的所有单体的总量通常为1wt％至20wt％，优选为5wt％至20wt％。基于各情况中凸版形成层的所有成分的总和，具有两个烯键式不饱和基团的单体的量优选为5wt％至20wt％，更优选为8wt％至18wt％。

光敏层可以包含其它组分。其它组分选自：其它聚合物、填料、增塑剂、抗粘连剂、单体、添加剂(例如稳定剂、染料)、稳定剂、交联剂、粘合剂、显色化合物、染料、颜料、抗氧化剂以及它们的组合。

在另一个实施例中，柔性板包括如上所述的光敏层和掩模层，该掩模层至少包括能够吸收电磁辐射的化合物和能够通过烧蚀去除的组分(也称为数字板前体)。优选地，掩模层是凸版板前体的整体层，并且与光敏层或设置在光敏层和掩模层之间的功能层直接接触。该功能层优选是阻挡层并且阻挡氧。掩模层可以通过烧蚀而成像并且可以通过溶剂或通过热显影去除。通过使用高能电磁辐射辐照加热并除去掩模层，从而形成成像结构的掩模，该掩模用于将结构转移到凸版板前体上。为此，掩模层在UV区域中可以是不透明的，并且在电磁光谱的VIS-IR区域中可以吸收辐射。然后，可以使用VIS-IR辐射来加热和烧蚀该层。掩模层在330至420nm之间的UV区域中的光密度在1至5的范围内，优选地，在1.5至4的范围内，更优选地，在2至4的范围内。

可烧蚀的掩模层的层厚度可以在0.1至5μm的范围内，优选地，在0.3至4μm的范围内，更优选地，在1至3mm的范围内。掩模层的激光灵敏度(以烧蚀1cm²所需的能量测量)可以在0.1至10mJ/cm²的范围内，优选地，在0.3至5mJ/cm²的范围内，更优选地，在0.5至5mJ/cm²的范围内。

尽管上面已经结合具体实施例阐述了本发明的原理，但是应当理解，该描述仅是示例性的，而不是对由所附权利要求确定的保护范围的限制。