一种光影处理技术合成革及其制备方法

文档序号:872737 发布日期:2021-03-19 浏览:9次 >En<

阅读说明:本技术 一种光影处理技术合成革及其制备方法 (Synthetic leather adopting shadow treatment technology and preparation method thereof ) 是由 张哲� 周文贽 于 2019-09-18 设计创作,主要内容包括:本发明属于皮革加工技术领域,尤其是一种光影处理技术合成革及其制备方法,针对现有的现有的皮革处理工艺周期长,投入大,化学处理不环保,对环境有危害的问题,现提出如下解决方案,包括光影革成品,所述光影革成品顶部设有触光表面,所述光影革成品和触光表面为一体化设置,所述光影革成品底部设有传输面板,所述光影革成品顶部设有遮光板。在皮革表面进行纳米光学处理,使产品在光照下产生不同的光泽效果,达到个性化目的,同时也实现跨界设计,在皮革表面实现了织物纹理、家装墙纸、壁布能够表现的等纹理色泽要求,是一种的环保生态高效的技术,解决车内室内皮革印刷、涂层、轧花、雕刻、镭射等二次环境污染和开发效率低下的问题。(The invention belongs to the technical field of leather processing, and particularly relates to synthetic leather with a light and shadow treatment technology and a preparation method thereof. The nano optical treatment is carried out on the surface of the leather, so that the product can generate different gloss effects under illumination, the purpose of individuation is achieved, the cross-border design is realized, the requirements of texture color and luster which can be expressed by fabric texture, home decoration wallpaper and wall cloth are met on the surface of the leather, the leather is an environment-friendly, ecological and efficient technology, and the problems of secondary environmental pollution and low development efficiency such as leather printing, coating, embossing, carving, laser and the like in the inner chamber of a vehicle are solved.)

一种光影处理技术合成革及其制备方法

技术领域

本发明涉及皮革加工技术领域,尤其涉及一种光影处理技术合成革及其制备方法。

背景技术

皮革行业涵盖了制革、制鞋、皮衣、皮件、毛皮及其制品等主体行业,以及皮革化工、皮革五金、皮革机械、辅料等配套行业。上下游关联度高,依靠市场拉动,产品常青,集创汇、富民、就业为一体的特点。

皮革后处理是产品能够广泛应用满足不同客户个性化的一种技术手段,目前国际上基本采用化学涂层、印刷、喷涂、烫印、雕刻、轧花、镭射、激光处理等工艺。这种工艺特点是周期长,投入大,开发费用高,处理工序繁杂,化学处理不环保,对环境有危害,因此,发明一种光影处理技术合成革及其制备方法很有必要。

发明内容

本发明提出的一种光影处理技术合成革及其制备方法,解决了现有的皮革处理工艺周期长,投入大,化学处理不环保,对环境有危害的问题。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种光影处理技术合成革及其制备方法,包括光影革成品,所述光影革成品顶部设有触光表面,所述光影革成品和触光表面为一体化设置,所述光影革成品底部设有传输面板,所述光影革成品顶部设有遮光板,所述遮光板内部均匀设有通光孔,所述遮光板顶部设有红外发射器。

优选的,所述遮光板一侧设有雾化加热机构,所述遮光板另一侧设有整平机构,所述雾化加热机构和整平机构用于对触光表面表面进行加热和整平工作。

优选的,所述遮光板采用纳米模块的光掩模版遮光方式进行遮光,所述遮光板最小尺寸为500nm,所述遮光板由耐温铬合金材料制成。

优选的,所述红外发射器输出光线为红外线光,所述红外线光波长为90-800nm。

优选的,本发明还提供了一种光影处理技术合成革的制备方法,具体制备步骤为:

步骤一:根据触光表面表面所需图案,使用不同的遮光板,经过计算机调节处理其内部的通孔排列方式,可以透过通孔实现各种不同的图案效果;

步骤二:将光影革成品放置在传输面板表面移动,在移动传输的过程中雾化加热机构对触光表面表面进行雾化加温,移动至遮光板底部后,红外发射器工作发射光波,使触光表面表面产生光泽变化;

步骤三:触光表面表面实现了织物纹理、墙纸、壁布能够表现的纹理色泽效果后在传输面板表面继续传输,整平机构将触光表面表面整平后得到光影革成品。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:在皮革表面进行纳米光学处理,使产品在光照下产生不同的光泽效果,达到个性化目的,同时也实现跨界设计,在皮革表面实现了织物纹理、家装墙纸、壁布能够表现的等纹理色泽要求,通过本发明技术的创新,不使用环境污染严重的重金属和化学药剂,同时也不进行机械加工,是一种的环保生态高效的技术,解决车内室内皮革印刷、涂层、轧花、雕刻、镭射等二次环境污染和开发效率低下的问题;

使用本发明提供的光影革成品加工技术,适用用于汽车内饰、沙发、家装材料,如:座椅、头枕、扶手以及沙发家具等,可以大大提升车内室内车材料的时尚度、空间感、科技感,突破传统工艺,保持材料的原有物化特性,精准控制纳米模块的制作,可以实现个性化定制,且能够满足汽车内饰颜色纹理设计师对于个性化的要求提高的需求,可以更好的满足人们不断提高的生活质量和生命质量的要求。

附图说明

图1为本发明提出的光影革成品加工示意图;

图2为本发明提出的光影革成品加工流程图;

图中:1光影革成品、2触光表面、3传输面板、4遮光板、5红外发射器。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

实施例一:

参照图1所示的一种光影处理技术合成革,包括光影革成品1,所述光影革成品1顶部设有触光表面2,所述光影革成品1和触光表面2为一体化设置,所述光影革成品1底部设有传输面板3,所述光影革成品1顶部设有遮光板4,所述遮光板4内部均匀设有通光孔,所述遮光板4顶部设有红外发射器5。

所述遮光板4一侧设有雾化加热机构,所述遮光板4另一侧设有整平机构,所述雾化加热机构和整平机构用于对触光表面2表面进行加热和整平工作。

所述遮光板4采用纳米模块的光掩模版遮光方式进行遮光,所述遮光板4最小尺寸为500nm,所述遮光板4由耐温铬合金材料制成。

所述红外发射器5输出光线为红外线光,所述红外线光波长为90-800nm。

实施例二:

参照图2所示的一种光影处理技术合成革本的制备方法,具体制备步骤为:

步骤一:根据触光表面2表面所需图案,使用不同的遮光板4,经过计算机调节处理其内部的通孔排列方式,可以透过通孔实现各种不同的图案效果;

步骤二:将光影革成品1放置在传输面板3表面移动,在移动传输的过程中雾化加热机构对触光表面2表面进行雾化加温,移动至遮光板4底部后,红外发射器5工作发射光波,使触光表面2表面产生光泽变化;

步骤三:触光表面2表面实现了织物纹理、墙纸、壁布能够表现的纹理色泽效果后在传输面板3表面继续传输,整平机构将触光表面2表面整平后得到光影革成品。

实施例三:

参照实施例一和实施例二提供的一种光影处理技术合成革本及其制备方法,选取不同 的革类制品进行测试,具体测试如下:

序号 皮革厚度(mm) 温度(℃) 光掩纳米模块规格(nm) 红外光波长(μm) 光照速度(m·min)
1 1.2 91.5 215 150 14.5
2 1.0 81.5 490 240 11.5

取得汽车内饰聚氨酯超纤皮革,采用光影革后处理生产线制备汽车超纤光影革,得样品1,取得家装软包聚氨酯PU革,采用光影革后处理生产线制备家装PU光影革,得样品2,制备的样品1、2等两个样品,都能满足车内室内饰的外观个性化设计要求,其图案形式随着复杂程度光照强度及生产速度有所去区别,但是对成本影响不明显。

综上,本发明提供的方法所制备的光影处理技术合成革,各种物性指标都和普通的超纤汽车内饰及家装PU革基本相同,但其具有优异的环保性能,和个性化色泽表现,产品不仅满足设计师时尚化、个性化要求,解决车内室内皮革后处理开发无法跨界问题,且能够满足人们车内室内健康和美观要求提高的需求。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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