含氮的
清洗剂组合物以及清洗方法
本发明提供一种清洗剂组合物,其用于去除粘接剂残留物,所述清洗剂组合物包含季铵盐和溶剂,上述溶剂仅由有机溶剂形成,上述有机溶剂包含N,N,N’,N’-四(烃)脲。

2021-10-29

访问量:39

一种珠宝清洗剂及其制备方法
本发明涉及清洗剂技术领域,尤其涉及一种珠宝清洗剂及其制备方法。珠宝清洗剂按质量百分比计,其组分包括酸性溶液3~8%、水30~50%、有机溶剂5~10%、渗透剂5~15%、缓蚀剂4~10%、光亮剂25~50%、气味调节剂0.1~0.5%。所述制备方法包括如下步骤:将水和渗透剂搅拌均匀,缓慢加入酸性溶液并搅拌均匀,依次加入缓蚀剂、有机溶剂、光亮剂并搅拌均匀,加入气味调节剂,搅拌均匀后得到所述清洗剂成品。本发明的珠宝清洗剂对饰品本身无损伤,具有温和、快速、高效的优点。通过光亮剂和缓蚀剂的协同作用,同时还具有耐腐蚀、增亮的作用。添加的气味调节剂,很好的掩盖了清洗剂中令人不愉快的气味,改善了清洗剂的使用体验。

2021-10-29

访问量:73

一种化学清洗液及其使用方法
本发明提供一种化学清洗液及其使用方法,其中所述化学清洗液含有氧化剂、吡唑及其衍生物、氧化剂稳定剂、二甘醇胺、氟化物以及水。本发明的清洗液清洗能力强,可一步有效去除铜大马士革工艺中等离子体刻蚀残留物和硬膜氮化钛,并且对金属Cu和非金属介质(如SiON、TEOS、低介质常数材料BDII等)均有较小的腐蚀速率。

2021-10-22

访问量:60

一种去污效果好的衣料用天然洗涤剂及其制备方法
本发明属于洗涤剂技术领域,更具体的涉及一种去污效果好的衣料用天然洗涤剂及其制备方法。一种去污效果好的衣料用天然洗涤剂,制备原料至少包括植物提取物和生物酶;所述的植物提取物的重量百分比为10-20%。经本发明制备的天然洗涤剂制备原料安全、环保、无毒,适合用于各种衣料的洗涤,尤其对内衣、内裤、婴幼儿等衣料均适用,无皮肤刺激;经本发明制备的天然洗涤剂通过植物提取物和生物酶之间的协同作用,可以大大提高其去污能力和去污效果,能够通过碳黑污布、蛋白污布、皮脂污布的行业标准;经本发明制备的天然洗涤剂降解性强,在五天内能到达到100%的生物降解,对环境无害,可以大规模广泛推广和使用。

2021-10-15

访问量:54

一种化学机械抛光清洗液及其使用方法
本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及其使用方法,该清洗液包含两种C原子数不同的有机碱、分散助剂、余量为水。本发明的化学机械抛光清洗液是一种用于硅晶圆片抛光垫的清洗液,通过对化学机械抛光后抛光垫的清洗,能够改善抛光后硅晶圆片的表面质量,延长抛光垫的使用时间,降低成本。

2021-10-01

访问量:38

一种PU、PVC处理剂及其制备方法
本发明公开了一种PU、PVC处理剂,包括以下质量份数组分:四氢呋喃10-20份,环己酮25-35份,丁酮35-50份,碳酸二甲酯5-10份,TPU德国巴斯夫733 4.5-5.5份,HDI三聚体0.5-1份。本发明还公开了PU、PVC处理剂制备方法,包括以下步骤:按质量份数将环己酮、丁酮、四氢呋喃、碳酸二甲酯、HDI三聚体投入后边分散边投入TPU德国巴斯夫733,转速为500-800转/分钟,搅拌2-3小时使其溶解分散均匀后过400目筛,放料,包装成品。所得产品PU、PVC处理剂可有效去除PU、PVC表面油污、能够强力渗透PU、PVC表层,提高粘合力。

2021-10-01

访问量:36

清洗剂组合物以及清洗方法
本发明提供一种清洗剂组合物,其用于去除残留于基体上的聚硅氧烷系粘接剂,所述清洗剂组合物包含氟化四(烃)铵和有机溶剂,上述有机溶剂包含式(1)所示的芳香族化合物和式(2)所示的内酰胺化合物。(式中,s表示取代至苯环上的取代基R~(100)的数量,为2或3,s个R~(100)相互独立地表示碳原子数1~6的烷基,s个碳原子数1~6的烷基的合计碳原子数为3以上,R~(101)表示碳原子数1~6的烷基,R~(102)表示碳原子数1~6的亚烷基。)

2021-09-28

访问量:25

用于去除化学残留物的组合物及其用途
本发明涉及用于去除化学残留物的组合物,使用所述组合物的方法,以及所述组合物用于去除被任何类型的化学品污染的材料、机器和设备上的残留物的用途。

2021-09-28

访问量:37

一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液
本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液,包括所述清洗液按照以下质量百分比的原料制成:胍或胍的衍生物的质量百分比1~20%,链烷醇胺的质量百分比1~20%,抗氧化剂的质量百分比0.1~10%,可选的含氮杂环的金属腐蚀阻止剂的质量百分比0.01~5%。本发明中的清洗液不含季铵碱。该清洗液除了可以有效去除抛光后铜晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留并不对铜表面明显腐蚀,该清洗液可以对在半导体高级节点中使用的钴的阻碍层具有保护性能。

2021-09-28

访问量:64

用于清除聚合物的组合物
本发明公开了用于清除聚合物的组合物,所述组合物包含:氟化烷基化合物、极性非质子溶剂和胺化合物,其中,所述胺化合物包括非环状仲胺化合物或非环状叔胺化合物。

2021-09-28

访问量:61

注册成为会员可查看更多数据。