本发明涉及一种铁氧体表面粗化液及其在铁氧体表面粗化处理和金属化处理的应用。所述铁氧体表面粗化液包括所述铁氧体表面粗化液包括水、酸和盐,所述酸和盐的摩尔比为1：(0.002～11)；酸为有机酸和/或无机酸；盐为碱金属氯化物、碱土金属氯化物、碱金属氟化物和水溶性铵盐中的至少一种；有机酸为甲基磺酸、甲酸、柠檬酸和草酸中的至少一种；无机酸为硫酸、硝酸、硼酸、碘酸、硒酸、亚硫酸、亚硝酸和磷酸中的至少一种；碱金属氯化物为氯化钠和氯化钾中的至少一种；碱土金属氯化物为氯化镁和氯化钙中的至少一种；碱金属氟化物为氟化钠和氟化钾中的至少一种。该铁氧体表面粗化液粗化效果好,非常环保,具有广泛的应用前景。

本发明公开了一种硅腐蚀液,包括以下重量份的原料：氢氟酸8-12份、硝酸70-78份、去离子水15-25份、复合缓蚀剂6-13份。且本发明利用了吡啶-4-甲醛为底物,使其与甲苯、高锰酸钾、二乙烯三胺、硫脲逐步反应形成了复合缓蚀剂；该复合缓释剂通过分子中的氮原子、硫原子、分子机构的大π键与金属形成配位键或化学共价键,在金属表面形成一层致密的疏水膜,阻碍了溶液中的氢离子对金属的腐蚀,但是该复合缓释剂中的的氮原子、硫原子、分子机构的大π键不能与硅形成配位键或共价键,不能在硅表面形成保护膜,不影响腐蚀液对硅的腐蚀行为,实现了对硅腐蚀高效,同时对金属腐蚀低效。

本发明公开了一种微电子用超纯氟化铵蚀刻液及其制备方法,该刻蚀液包括如下重量份原料：磷酸15-20份、硝酸5-10份、超纯氟化铵8-20份、三乙醇铵盐3-8份、水10-15份；并在制备过程中使用了抗腐蚀涂料处理的流化床反应器,该抗腐蚀涂料由如下重量份原料制成：丙烯酸乳液50-80份、硬脂酸10-15份、滑石粉3-5份、高岭土粉3-5份、抗腐蚀填料3-8份、消泡剂1-1.5份、成膜助剂2-5份、平流剂2-4份、三乙烯四胺5-10份、水15-20份；该防腐涂料能够很好的保护流化床反应器不被氢氟酸腐蚀。

本发明有关于用于加工晶圆的装置及方法。根据本发明,晶圆以垂直对齐的方式被传输通过用于加工晶圆的处理溶液,藉此,可能增加产量、简化排出气体的后处理,且减少处理溶液中成分的消耗。特别是,本发明可用于太阳能电池或印刷电路板的制造,例如用于电子产业的印刷电路板。

本发明涉及一种氮化硅膜蚀刻组合物。所述蚀刻组合物由无机酸、环氧(Epoxy)系硅化合物及水组成,本发明的蚀刻组成物具有能够最小化下部金属膜质的损伤和氧化硅膜的蚀刻,并能够选择性地去除氮化硅膜的效果。

本发明公开了一种可提高超薄玻璃面强度的药液及其制备方法和应用,所述药液包括以下重量百分比的原料：氢氟酸0.1％-0.4％,硫酸40％-60％,磷酸0.2-0.4％,硫酸铵1％-2％,醋酸1.0％-20.0％,硝酸2.0％-10.0％,剩余为去离子水；本发明通过对原料的组成及用量的控制,来控制药液蚀刻超薄玻璃表面的程度、及蚀刻的均匀性及蚀刻速率,经本发明中的药液处理之后的超薄玻璃的面内质量显著提高,面内微裂纹得到明显的钝化,且显著降低了面内粗糙度。

本发明涉及一种高铝玻璃蒙砂粉、高铝玻璃的蒙砂方法和蒙砂玻璃及应用。按质量份数计,上述高铝玻璃蒙砂粉包括如下组分：氟化铵40份～50份、葡萄糖40份～50份、氯化锌1份～5份、固体分散颗粒5份～10份、碱金属氟化盐1份～5份、碱金属氯化盐1份及柠檬酸60份～70份。上述蒙砂粉中各组分协同配合,使得蒙砂粉能够用于高铝玻璃蒙砂且蒙砂效果好、良率高。

本发明涉及一种复合膜层用BOE蚀刻液,按照质量百分比包括以下组分：氢氟酸0.5％～2％、氟化铵25％～30％、添加剂0.004%～0.01%、超纯水67.99％～74.496%,其中添加剂为正辛酸。本发明的复合膜层用BOE蚀刻液可用于单一基材的同时可兼顾复合基材,通过调整表面张力,即可同时兼顾CD lose和所需角度。

本公开涉及蚀刻组合物,该蚀刻组合物可供使用于,例如,作为多步骤半导体制备过程中的中间步骤,选择性地从半导体基板去除硅锗(SiGe)。