阅读说明：本技术 改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器及其制备方法 (Infrared cut-off filter for improving glare ghost phenomenon and preparation method thereof ) 是由 李涛 葛文志 翁钦盛 王懿伟 于 2020-07-16 设计创作，主要内容包括：一种改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器,包括折射率为1.45～1.55的基板,所述基板两侧设有光学膜厚为70～100nm、折射率为1.38～1.50的第一膜层,所述第一膜层远离基板的一侧设有光学膜厚为80～110nm、折射率为1.15～1.23的第二膜层；所述基板对于波长在350～395nm范围内的光线的平均透过率≤3％,在425～565nm波段的最小透过率≥70％,在725～1100nm波段的最大透过率≤1.5％,在透过率为50％处的中心波长为640±5nm。本发明的基板可对700～1080nm波段进行深度截止,在基板上进行双面超低反射结构设计,采用涂布工艺,实现在可见光宽带波长范围内获得高性能、超低反射截止膜,减少像面与IRCF之间的发射,且在CRA变化时,可视域波长移位更小,眩光鬼影得到大大改善,解决了市场上手机成像时出现严重眩光鬼影的难题。(An infrared cut filter for improving glare ghost phenomenon comprises a substrate with a refractive index of 1.45-1.55, wherein first film layers with an optical film thickness of 70-100nm and a refractive index of 1.38-1.50 are arranged on two sides of the substrate, and second film layers with an optical film thickness of 80-110 nm and a refractive index of 1.15-1.23 are arranged on one side, away from the substrate, of each first film layer; the average transmittance of the substrate to light with the wavelength within the range of 350-395 nm is less than or equal to 3%, the minimum transmittance of the substrate in the waveband of 425-565 nm is more than or equal to 70%, the maximum transmittance of the substrate in the waveband of 725-1100 nm is less than or equal to 1.5%, and the central wavelength of the substrate at the position where the transmittance is 50% is 640 +/-5 nm. The substrate can carry out depth cutoff on a 700-1080 nm waveband, carries out double-sided ultra-low reflection structure design on the substrate, adopts a coating process, realizes that a high-performance and ultra-low reflection cutoff film is obtained in a visible light broadband wavelength range, reduces emission between an image plane and IRCF, has smaller visible domain wavelength shift when CRA changes, greatly improves glare ghost, and solves the problem of serious glare ghost when mobile phone imaging is carried out in the market.)

改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器及其制备方法

【技术领域】

本发明涉及光学领域，尤其是涉及摄像模组领域中的一种改善摄像模组的眩光鬼影现象的红外截止滤光器及其制备方法。

【背景技术】

摄像模组(CCM)是一种用于各种新型便携式摄像设备的核心器件，主要应用于手机、笔记本电脑、平板电脑、智能家居、车载、VR/AR及安全监视等领域，与传统摄像系统相比具有小型化、低功耗、低成本、高影像品质等优点。

摄像头的成像过程就是将光信号数字化的过程。光线首先通过镜头，到达感光元件(CCD或者CMOS)，将光线转换为数字信号，然后数字信号被传送到处理器(DSP)，进行图像信号增强以及压缩优化后再传输到手机或者其它存储设备上。摄像模组主要由玻璃盖板(Cover)、镜头(Lens)、红外截止滤光器(IRCF或者IR Filter)、图像传感器(Sensor)、软板(FPC)部分组成。

当镜头在传输影像过程受到某些非理想性因素的影响时，会使光线误差偏转造成像差，出现眩光(Flare)和/或“鬼影(Ghost)”现象。眩光和/或鬼影现象与光学元件表面的性能直接相关。光学系统中包含的镜头和光学滤光片等光学元件大部分使用光学玻璃或光学塑料等透明部材作为基板，当基板的折射率变大时，光入射面、光出射面的反射率会变高，使到达像面的有效光量减少；同时，光学元件间不可避免产生内部的反射再反射现象，最终入射到像面形成鬼影，严重影响成像质量及用户体验。

针对眩光和/或鬼影问题，目前市场上改善方案主要有两种：一种是通过设计优化光学元件镀膜工艺及镜头的色散校正(硬件方式)，另一种是通过软件后期修正(软件方式)。如CN106662676A公开了一种摄像头模组和终端，包括光学保护窗、红外截止滤光器和抗反射涂层，该抗反射涂层包括若干锥形抗反射结构，其底部直径为40nm～150nm，顶部直径为底部直径的0～30％，高度为150nm～300nm，相邻两个锥形抗反射结构的兼具为可见光波段波长的1/5～1/3,通过设定抗反射涂层结构减少光线反射，一致拍照中的鬼影和眩光问题；又如CN104299188B公开了一种图像修正方法及系统，根据图像中各像素点的亮度值来确定图像中鬼影和/或眩光所在的区域，并利用开操作、闭操作、及区域填充等方法对所属区域进行处理，以利用软件的方式修正图像中的鬼影和眩光。但是，无论哪种手段，也只能适用于特定应用环境，不能满足目前微小型摄像模组(如手机)对消除眩光/鬼影的要求。

对于手机等应用环境的微小型摄像模组来说，入射光线进入摄像头模组后造成眩光/鬼影现象主要有4部分的反射——镜头(Lens)和Cover间的反射、镜头(Lens)之间的反射、红外截止滤光器(IRCF)与镜头(Lens)之间的反射、像面(Sensor的一面)与红外截止滤光器(IRCF)之间的反射，如图1所示。

以上四种反射造成的成像问题及现有解决方法如下：

①镜头(Lens)和Cover间的反射造成的鬼影一般以可见光部分为主，颜色以白色或蓝绿色比较常见，并且形状与原物体相似，目前常用的解决方法是镀AR增透膜，减少反射的发生。

②镜头(Lens)之间的反射容易造成成串的光斑图像(眩光)，由于造成这个原因的反射光线都是可见光部分，因此无法通过IRCF去有效改善，但是可以通过镀膜减少反射的发生以及通过Lens的光路设计使得反射光线不能在像面上成像进行改善。

③红外截止滤光器(IRCF)与镜头(Lens)之间的反射会造成角落红光。对于不同角度入射的光线，镀膜曲线会出现偏移现象；入射角度越大，偏移也就越大；而偏移这部分波长光线，就是形成角落红光的主要原因。当大角度入射光线经过像面上的微透镜(Microlens)反射后，有可能会以小角度重新经过红外截止滤光器(IRCF)，而这部分光线波长大部分是大角度与小角度偏移部分波长(偏移部分波长一般集中在600-700nm波段)，就在像面上形成角落红色鬼影。由于形成这部分鬼影的光线波长与蓝玻璃的吸收区域大部分重合，因此目前通过蓝玻璃IRCF来减弱这部分反射光线从而改善此现象。

④像面与红外截止滤光器(IRCF)之间的反射会造成花瓣式的红色鬼影，与角落红光鬼影形成的原因类似，入射光线经过微透镜(Microlens)反射之后，可能会以大角度反射回红外截止滤光器(IRCF)，同样大角度入射的光线会反射偏移波段部分光线到像面，多次反射后形成花瓣状鬼影。现有工艺同样是采用蓝玻璃IRCF来减弱这部分反射光线从而改善此现象。

然而，现有市场上红外截止滤光器采用镀膜方式，一面镀AR，一面镀IR，成本高，且AR面和IR面反射率较高，像面与IRCF(红外截止滤光器)之间的发射较大，在CRA(主入射角)变化时，可视域波长移位较大，成像时眩光鬼影问题较严重，Ripple(波纹)严重(如图6所示)，仅通过使用对IR面发生反射的偏移部分光线有吸收特性的蓝玻璃，仍无法有效改善，这成为当前限制微小型摄像模组成像效果的主要因素之一；且为了获得低反射率和高吸收率，现有蓝玻璃红外截止滤光器需要进行多次镀膜，镀膜工艺复杂，也有待于进一步改进。

【

发明内容

】

本发明提供一种改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器，能够有效改善现有手机摄像模组成像时出现的眩光/鬼影问题。本发明还提供了上述红外截止滤光器的制备方法，简化了制备工艺，降低了生产成本。

本发明的技术解决方案如下：一种改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器，包括一折射率为1.45～1.55的基板，所述基板的两侧设有光学膜厚为70～100nm、折射率为1.38～1.50的第一膜层，所述第一膜层远离所述基板的一侧设有光学膜厚为80～110nm、折射率为1.15～1.23的第二膜层，所述折射率均为基准波长为550nm的折射率；所述基板对于入射角度为0°、波长在350～395nm范围内的光线的平均透过率≤3％，基板在350～380nm波段的透过率≤0.7％,在400～420nm波段的最小透过率≥28％，在425～565nm波段的最小透过率≥70％、平均透过率≥84％，在450～600nm波段的透过率≥80％，在700～725nm波段的平均透过率≤2.5％，在755～1000nm波段的透过率≤0.2％，在725～1100nm波段的平均透过率≤0.5％、最大透过率≤1.5％，在900～1000nm波段的平均透过率≤0.1％、最大透过率≤0.2％，在透过率为50％处的中心波长为410±5nm或/和640±5nm。

本发明的结构可实现在可见光宽带波长范围内获得高性能、超低反射截止膜，基板折射率>第一膜层折射率>第二膜层折射率，由此可以降低反射特性的灵敏度，同时基板能够实现在可见光高效通过、在750～1080nm波段深度截止，取消现有市场上通过在基板上进行镀膜来实现该功能的工艺，简化了结构，提升了效果，且通过该结构的红外截止滤光器，能够有效改善现有手机摄像模组成像时出现的眩光/鬼影问题，大大提高成像品质。

作为优选，所述基板主要由含硅元素的树脂原料制备而成。

作为优选，所述基板主要由含硅酮树脂的原料制备而成。

作为优选，所述第一膜层主要由包含硅的氧化物或包含镁的化合物组成，第二膜层主要由包含Si的中空微粒子组成。

作为优选，所述第一膜层为SiO₂或MgF₂，所述第二膜层主要为中空SiO₂。

作为优选，所述包含Si的中空微粒子的平均粒径(D₅₀)为50nm。

作为优选，所述第一、第二膜层对于入射角度为0°、波长在400nm～700nm范围内的光线的反射率≤0.6％，平均反射率≤0.21％，曲线最低点波段落在500±10nm。

一种改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器的制备方法，该方法包括以下制备步骤：

1)对基板进行超声清洗，离心甩干；

2)在基板的一侧采用溅射方式镀上第一膜层，离心清洗；

3)在基板的另一侧采用溅射方式镀上第一膜层，离心清洗；

4)采用四周真空吸附，将镀上第一膜层的基材放置于涂布台，在高速旋转情况下，将低折射率的AR油墨滴于基材第一膜层表面，进行涂布形成第二膜层，涂满一面后翻转基板，涂布另一面形成第二膜层；

5)完成双面AR油墨涂布后，真空烘烤；

6)贴UV膜，并在真空烘箱烘烤；

7)刀轮切割成成品。

作为优选，上述AR油墨的真空烘烤温度为70～90℃，UV膜的真空烘烤温度为45℃。

作为优选，上述步骤4)的真空吸附是将基板边缘吸于设置在涂布台上的吸孔槽固定。

本发明的有益效果如下：

1.本发明采用的基板在425～565nm波段的最小透过率≥70％，在700～725nm波段的透过率≤2.5％，在725～1100nm波段的平均透过率≤0.5％、最大透过率≤1.5％，在755～1000nm波段的透过率≤0.2％，在透过率为50％处的中心波长为640±5nm，结合双面超低反射结构设计——折射率为1.38～1.50的第一膜层与折射率为1.15～1.23的第二膜层，实现在可见光宽带波长范围内获得高性能、超低反射截止膜，减少像面与IRCF(红外截止滤光器)之间的反射，且在CRA(主入射角)变化时，可视域波长移位更小(如图5所示)，摄像模组的眩光/鬼影现象得到大大改善，尤其是花瓣状鬼影，解决了市场上手机成像时出现严重眩光/鬼影现象的难题。

2.本发明设计结构简单，仅含有基板、第一膜层、第二膜层，采用涂布加工工艺，中空SiO₂通过AR油墨滴加至高速旋转的基板分散涂布，可以保证油墨层涂布均匀，避免出现放射状、色斑、条纹等不良，工艺流程短，且涂布效率高，能更好地控制涂布层厚度，制作成本低，具有双面超低反射效果，且膜牢固度优异。

【附图说明】

图1是现有摄像头模组中的光线反射情况；

图2是实施例一的滤光片的结构示意图；

图3是实施例一的基板的透过率特性图；

图4是实施例一的红外截止滤光器不同入射角(0°和30°)的反射率特性图；

图5是实施例一的红外截止滤光器不同入射角(0°和30°)的透过率特性图；

图6是现有红外截止滤光器不同入射角(0°和30°)的反射率特性图；

图7是现有手机摄像模组在暗室拍摄对灯的拍摄效果(彩色未显示)；

图8是采用实施例一的红外截止滤光器的摄像模组在暗室拍摄对灯的拍摄效果(彩色未显示)；

图9是实施例一中基板与带铁环的UV膜结合的剖面结构示意图。

标注说明：1-基板；2-第一膜层；3-第二膜层；4-UV膜；5-铁环。

【

具体实施方式

】

下面用具体实施例对本发明做进一步详细说明，但本发明不仅局限于以下具体实施例。

以下所提供的实施例并非用以限制本发明所涵盖的范围，所描述的步骤也不是用以限制其执行顺序，所描述的方向仅限于附图。本领域技术人员结合现有公知常识对本发明做显而易见的改进，亦落入本发明要求的保护范围之内。

实施例1

如图2所示，一种改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器，包括一折射率为1.52的基板1，所述基板的两侧设有光学膜厚为90nm、折射率为1.47的第一膜层2，所述第一膜层远离基板的一侧设有光学膜厚为100nm、折射率为1.16的第二膜层3，所述折射率均为基准波长为550nm的折射率。其中，基板1由包含硅酮树脂、苯基膦酸、(4-溴苯基)膦酸、磷酸酯以及乙酸铜(II)-水合物的原料制备而成。具体地，首先将物料硅酮树脂、苯基膦酸、(4-溴苯基)膦酸、磷酸酯和乙酸铜(II)-水合物混合搅拌，形成混合料，然后通过离型剂对尺寸合适的模具表面进行处理，并将上述的混合料滴加到设有离型剂的模具上，对混合料进行干燥、硬化处理，形成复合膜片，并将复合膜片从模具上剥离后即为基板1。

第一膜层2主要由SiO₂制成，第二膜层3主要由中空SiO₂制成，中空SiO₂的平均粒径为50nm。基板1对于入射角度为0°、波长为350nm～395nm范围内的光线的平均透过率≤3％，基板在350～380nm波段的透过率≤0.7％,在400～420nm波段的最小透过率≥28％，在425～565nm波段的最小透过率≥70％、平均透过率≥84％，在450～600nm波段的透过率≥80％，在700～725nm波段的平均透过率≤2.5％，在755～1000nm波段的透过率≤0.2％，在725～1100nm波段的平均透过率≤0.5％、最大透过率≤1.5％，在900～1000nm波段的平均透过率≤0.1％、最大透过率≤0.2％，在透过率为50％处的中心波长为410±5nm和640±5nm，如图3所示。如图4所示，第一、第二膜层对于入射角度为0°、波长在400nm～700nm范围内的光线的反射率为≤0.6％，平均反射率为≤0.21％，曲线最低点波段落在500nm；而对于入射角度为30°、波长在400nm～550nm范围内的光线的反射率≤0.21％，曲线最低点波段落在463nm，可有效解决因入射角度(CRA)变化时，像面与红外截止滤光器(IRCF)之间的反射过大造成的花瓣式眩光鬼影现象。

本实施例的红外截止滤光器的透过率特性如图5所示，对于入射角度为0°、波长在430～600nm波段的光学的平均透过率为92.1％，最小值为80.2％，在750～800nm波段的透过率≤0.2％，在750～1000nm波段的平均透过率≤0.1％，在透过率为50％处的中心波长为640nm；而当光线入射角度为30°时，在上述波段下的透过率与相对应波段的入射角度为0°的光线的透过率基本相同，在透过率为50％处的中心波长为638nm，偏差极小。

制备上述本发明的改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器的方法，包括以下具体步骤：

(A)采用超声波清洗工艺清洗硅酮树脂等原料合成的基板1。本步骤中超声清洗第一槽采用PH为10～10.5的碱性洗剂，第二槽至第七槽采用纯水清洗，频率设定为80HZ，洗掉基板1的待镀制膜层表面污物以及有机物料等污物，保证基板1表面洁净度良好，有利于提高镀制膜层的质量，洗净后，在40℃条件下，通过离心机将基板1甩干。

(B)在基板1的一个面上镀制单层SiO₂。如图9所示，首先将基板1待镀膜面的反面贴附在带铁环5的UV膜4上进行固定，避免镀膜时产品发送翘曲，然后在基板1上镀制SiO₂采用离子源预清洗、溅射镀膜方法沉积设计好的膜层，膜层厚度为70～100nm，优选90nm,镀膜温度为30～40℃，避免高温对基板1强度造成影响，且生产效率也高。

(C)采用离心旋洗的方式对镀膜后的基板表面进行清洗，以便去除镀膜时产生的有机物料等污物；其中，离心旋洗时，用纯水首先以800rpm的转速对基板冲洗60s，然后再以2000rpm的转速吹洗30s，最后以2000rpm的转速甩干80s即可。此外需要说明的是，本步骤中，对镀膜后基板的清洗，也可采用步骤(A)超声清洗的方式实现，采用步骤(A)超声清洗方式对此基板进行清洗时，需将第一槽中的碱性洗剂去除，改用纯水清洗。

(D)对上述基板1解胶倒膜，去除基板1镀膜面的反面贴附的带铁环的UV膜，同时在基板1的已镀膜面上贴附带铁环的UV膜，其中解胶能量可设定为300MJ/CM²；然后采用步骤(B)对基板1的另外一面(解胶面)进行溅射单层SiO₂镀膜，膜层厚度为70-100nm，优选膜层厚度为90nm；然后采用步骤(C)对基板1进行离心清洗，并对镀膜的基板1进行解胶以除去表面贴附的UV膜，然后将处理后的基板1放到洗篮中待用。

(E)在镀制有SiO₂膜层基板1的正反两表面，均进行低折射率油墨的涂布，油墨选用含中空SiO₂的AR油墨，油墨在基板1表面涂布后，形成表面反射率超低的膜层，进而形成具有超低反射率的滤光器，其中的油墨涂布采用旋涂方式，涂布夹具采用四周真空吸附，在高转速条件下滴取油墨，滴取油墨至基板的时间控制在1s内，基板和自动注射器的距离控制在3～8mm内，旋转速度为5000～6000rpm，回转时间为5s，高转速条件下可以保证油墨层涂布均匀，避免出现放射状、色斑、条纹等不良，由于超低反射油墨在常温下长时间暴露于空气中时，油墨中sol-gel法低折射率材料由于环境的原因会引起反应，待机过程中中空SiO₂比率增加，油墨折射率发生变化，成膜后会出现涂布膜破裂不良，为防止该现象发生，涂布时，在涂布机内部环境中放置浓度为99.8％以上的甲醇，并保持整个腔体环境处于密封状态，来维持超低反射油墨反应速度，以便更好的控制涂布层厚度。

(E1)涂布超低反射油墨后将产品放置于无尘烘箱内进行烘烤，烘烤首先采用阶梯式升温的方式，具体地，用30min将烤箱温度从0℃升温至70℃～90℃，在70℃～90℃条件下维持30min，更优选维持温度为80℃，然后再在0～80℃下维持30min，该烘烤方式可提高中空SiO₂与镀膜层结合牢固度，烘烤过程中无尘烘箱中冲入氮气。另外，烘烤时，在产品上方罩设一不锈钢密封罩，由于基板1材质主要为树脂的合成品，烘烤时易吸灰尘，且烘箱吹热风时易造成产品翘曲，出现膜层膜裂现象，因此，需将产品放置于密封罩中进行烘烤，避免产品翘曲、脏污、膜裂等问题。

(E2)将产品贴附于UV膜上，由于超低反射油墨中主要成分为中空SiO₂，采用粘性强的UV膜时，粘性材料会被转移至产品上，造成外观不良和光谱特性变化等性能异常，且粘性强的UV膜会将油墨粘掉，选用粘性弱的UV膜时，刀轮切割时会发生产品四周进水现象，造成水印不良，为解决该问题，本发明选粘度为2.8N/20mm，将产品贴敷UV膜后，将贴附的产品放置于45℃无尘烘箱烘烤5min，使UV膜上的胶层***，增加产品与UV胶层间的接触面积，产品四周与UV膜紧紧贴附，该方法可使UV膜粘度控制在一定范围内，不会出现UV上粘性材料残留及产品油墨层脱落现象，同时避免发生切割进水现象。

(E3)对产品进行切割，切割方式选用刀轮切割，切割成小片后，进行镜座组装，组装选用常温固化胶，由于产品热膨胀系数较大，采用常规单组分环氧树脂类热固胶时，在可靠性测试时(温度冲击：85±3℃<—>-40℃±3℃，30min转换一次，500cycle)，由于胶水与产品的热膨胀系数相差较大，易造成破裂问题，通过实验验证，选用聚醚树脂类或硫化硅橡胶类常温固化胶水可解决温度冲击产品破裂问题，组装后对产品进行双面等离子清洗，在本实施方式中等离子清洗工艺的功率为380～400W,作用时间为200～250s,通过等离子清洗工艺可提高产品洁净度，且可将产品与UV接触面表面粘性材料进行去除，避免反射率抬升光谱不良现象发生。

采用现行市场红外截止滤光器与本实施例红外截止滤光器的手机摄像模组在同等条件下在暗室拍摄对灯拍摄的情况分别如图7和图8所示(彩色未显示)，可见，本发明的滤光片可以有效地改善摄像模组的眩光/鬼影现象。

实施例2

本实施例与实施例1的区别在于：采用折射率为1.45的基板1，所述基板1的两侧设有光学膜厚为70nm、折射率为1.38的第一膜层2，所述第一膜层远离基板的一侧设有的光学膜厚为80nm、折射率为1.15的第二膜层3，其中的折射率均为基准波长为550nm的折射率。基板1主要由硅酮树脂制成，具体地，基板1为主要含硅酮树脂材料的复合膜片，复合膜片中还包含有苯基膦酸、(4-溴苯基)膦酸、磷酸酯以及乙酸铜(II)-水合物。

第一膜层2由MgF₂制成，第二膜层3主要由中空SiO₂制成，中空SiO₂的平均粒径为50nm。基板1对于入射角度为0°、波长在350nm～395nm范围内的光线的平均透过率为2.5％，基板在350～380nm波段的透过率≤0.65％,在400～420nm波段的最小透过率为32％，在425～565nm波段的最小透过率为73％、平均透过率为86％，在450～600nm波段的透过率≥81％，在700～725nm波段的平均透过率为2.3％，在755～1000nm波段的透过率≤0.15％，在725～1100nm波段的平均透过率为0.35％、最大透过率为1.3％，在900nm～1000nm波段的平均透过率为0.07％、最大透过率为0.18％，在透过率为50％处的中心波长为415nm和645nm。第一、第二膜层对于入射角度为0°、波长在400nm～700nm范围内的光线的反射率≤0.5％，平均反射率为0.20％，曲线最低点波段落在510nm。

本实施例的红外截止滤光器在430～600nm波段的平均透过率为90％，最小值为80％，在750～800nm波段的透过率≤0.15％，在750～1000nm波段的平均透过率≤0.1％，在透过率为50％处的中心波长为410nm和640nm。

实施例3

本实施例与实施例1的区别在于采用折射率为1.55的基板1，所述基板1的两侧设有光学膜厚为100nm、折射率为1.50的第一膜层2，所述第一膜层远离基板的一侧设有的光学膜厚为110nm、折射率为1.23的第二膜层3。基板1主要由硅酮树脂制成，具体地，基板1为含硅酮树脂材料的复合膜片，复合膜片中还含有成分苯基膦酸、(4-溴苯基)膦酸、磷酸酯、乙酸铜(II)-水合物。

第一膜层2由SiO₂制成，第二膜层3主要由中空SiO₂制成，中空SiO₂的平均粒径为50nm。基板1对于入射角度为0°、波长为350nm～395nm范围内的光线的平均透过率为2.8％，基板在350～380nm波段的透过率≤0.6％,在400～420nm波段的最小透过率为30％，在425～565nm波段的最小透过率为72％、平均透过率为85％，在450～600nm波段的透过率≥82％，在700～725nm波段的平均透过率为2.4％，在755～1000nm波段的透过率≤0.2％，在725～1100nm波段的平均透过率≤0.4％、最大透过率为1.4％，在900nm～1000nm波段的平均透过率为0.1％、最大透过率为0.15％，在透过率为50％处的中心波长为412nm和642nm。第一、第二膜层对于入射角度为0°、波长在400nm～700nm范围内的光线的最大反射率为0.45％，平均反射率为0.16％，曲线最低点波段落在510nm。

本实施例的红外截止滤光器在430～600nm波段的平均透过率为88％，最小值为81％，在750～800nm波段的透过率≤0.15％，在750～1000nm波段的平均透过率为0.11％，在透过率为50％处的中心波长为413nm和642nm。