阅读说明：本技术 具有扰流结构的光罩盒 (Photomask box with flow disturbing structure ) 是由 庄家和 薛新民 林书弘 邱铭乾 于 2019-11-20 设计创作，主要内容包括：本发明公开一种具有扰流结构的光罩盒,包括本体及盖体,本体的中央区域有光罩置放区,盖体盖合于本体,盖体的边缘区域与本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合,凹部及凸部搭配形成环绕光罩置放区的扰流结构,其中扰流结构包括在凹部及凸部之间的扰流通道,且本体在形成扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁,以形成集尘空间。借由本发明的具有扰流结构的光罩盒,当气流挟带的尘粒自外部进入扰流通道,尘粒将被滞留于集尘空间中,因而有效阻拦尘粒进入光罩置放区。(The invention discloses a photomask box with a turbulence structure, which comprises a body and a cover body, wherein the central area of the body is provided with a photomask placing area, the cover body covers the body, the edge area of the cover body and the edge area of the body are mutually combined by a convex part and a concave part, and the concave part and the convex part are matched to form the turbulence structure surrounding the photomask placing area, wherein the turbulence structure comprises a turbulence channel between the concave part and the convex part, and the surface of the body forming the turbulence channel is provided with at least an inward-contracted side wall so as to form a dust collection space. By the light shield box with the flow disturbing structure, when dust particles carried by the airflow enter the flow disturbing channel from the outside, the dust particles are retained in the dust collecting space, so that the dust particles are effectively prevented from entering the light shield placing area.)

具有扰流结构的光罩盒

技术领域

本发明涉及一种光罩盒，更特别的是涉及一种具有扰流结构的光罩盒。

背景技术

先进微影制程中，特别是EUV(极紫外光)微影制程，对制程环境的洁净度要求极高。若有尘粒(particle)污染光罩，则会造成微影制程的缺陷。为达到洁净度与保护光罩的需求，一般使用光罩盒以阻拦外界的尘粒。而传统的光罩盒在微污染控制上依赖光罩盒上下盖的密合的气密程度，一旦气密失效，尘粒就极容易进入光罩盒中污染光罩。

发明内容

本发明的目的在于解决公知光罩盒的种种问题，提出一种具有扰流结构的光罩盒。

为达上述目的及其他目的，本发明提出一种具有扰流结构的光罩盒，包含：本体，该本体的中央区域有光罩置放区；以及盖体，盖合于该本体，该盖体的边缘区域与该本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合，该凹部及该凸部搭配形成环绕该光罩置放区的扰流结构，其中该扰流结构包括在该凹部及该凸部之间的扰流通道，且该本体在形成该扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁，以形成集尘空间。

可选地，该凹部设置于该本体，该凸部设置于盖体，该凹部的一侧具有内缩的侧壁。

可选地，该凹部的两侧皆具有内缩的侧壁。

可选地，该凹部设置于该盖体，该凸部设置于本体，该凸部的一侧具有内缩的侧壁。

可选地，该凸部的两侧皆具有内缩的侧壁。

可选地，该凸部的截面为矩形。

可选地，该凸部的截面为圆弧形。

可选地，该内缩的侧壁具有锐角。

可选地，该内缩的侧壁具有圆角。

借此，本发明的具有扰流结构的光罩盒具有扰流通道，有效地延长气体流通路径，使得气体挟带的尘粒到达光罩置放区的可能性大为降低。除此之外，本体在形成扰流通道的表面上具有至少一个内缩的侧壁，当气流挟带的尘粒进入内缩的侧壁中，将更难以沿着内缩的侧壁爬升，因而使得尘粒被滞留于扰流通道中，更进一步阻拦尘粒进入光罩置放区。

为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关发明的详细说明与附图，但是此说明与所附附图仅用来说明本发明，而非对本发明的权利范围作任何的限制。

附图说明

图1为本发明第一实施例的具有扰流结构的光罩盒的立体示意图。

图2为根据图1的A-A连线的剖面示意图。

图3为本发明第二实施例的扰流结构的剖面示意图。

图4为本发明第三实施例的扰流结构的剖面示意图。

图5为本发明第四实施例的扰流结构的剖面示意图。

图6为本发明第五实施例的扰流结构的剖面示意图。

附图标记：

100 具有扰流结构的光罩盒

1 本体

11 光罩置放区

12 边缘区域

121 内缩的侧壁

121a 内缩的侧壁

2 盖体

22 边缘区域

3 扰流结构

31 凹部

31a 凹部

32 凸部

32a 凸部

32b 凸部

33 扰流通道

R 光罩

S 集尘空间

具体实施方式

为了充分了解本发明，通过下述具体的实施例，并配合所附的附图，对本发明做一详细说明。本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的目的、特征及功效。须注意的是，本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本发明的精神下进行各种修饰与变更。另外，本发明所附的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的权利要求。说明如后：

如图1及图2所示，本发明第一实施例的具有扰流结构的光罩盒100其包含：本体1及盖体2。

本体1的中央区域有光罩置放区11，用以置放光罩R；相对的，环绕光罩置放区11的则为本体1的边缘区域12。

盖体2盖合于本体1，盖体2的边缘区域22(位置对应于本体1的边缘区域12)与本体1的边缘区域12以凸部32及凹部31相互组合，凹部31及凸部32搭配形成环绕光罩置放区11的扰流结构3。在本发明中，凹部31及凸部32并不限定分别设置于本体1或盖体2的哪一个，可以为凹部31设于本体1而凸部32设于盖体2，例如图1及图2所示；也可以相反地设置，凹部31设于盖体2而凸部32设于本体1，例如图4及图5所示。在本实施例中，以凹部31设于本体1而凸部32设于盖体2作为实施方式。

扰流结构3包括在凹部31及凸部32之间的扰流通道33，在沿着图1的A-A连线的截面中，扰流通道33为非线性。当气流自外部空间进入本发明的具有扰流结构的光罩盒100时，首先经过盖体2的边缘区域22与本体1的边缘区域12之间形成的平直通道，接着经过非线性的扰流通道33。气体需在扰流通道33中下降、攀升才能抵达位于中央区域的光罩置放区11。因此扰流通道33有效地延长气体流通路径，使得气体挟带的尘粒到达光罩置放区11的可能性大为降低。除此之外，如图2所示，在本实施例中，本体1在形成扰流通道33的表面上具有至少一个内缩的侧壁121，以形成集尘空间S。当气流挟带的尘粒进入内缩的侧壁121中，将更难以沿着内缩的侧壁121爬升，因而使得尘粒被滞留于集尘空间S中。借此，扰流结构3能扰乱气流的爬升，更进一步阻拦尘粒进入光罩置放区11。

进一步地，如图3所示，在本发明第二实施例中，与第一实施例的差别在于，本实施例的凹部31设置于本体1，凸部32设置于盖体2，凹部31只有一侧具有内缩的侧壁121。较佳地，内缩的侧壁121的内缩方向为顺着气流方向(如箭头所示)内缩。

进一步地，如图2所示，凹部31的两侧皆具有内缩的侧壁121，以扩大集尘及扰流的效果。

进一步地，如图4所示，在本发明第三实施例中，与第一实施例的差别在于，凹部31a设置于盖体2，凸部32a设置于本体1，而位于本体1的凸部32a的一侧具有内缩的侧壁121a。较佳地，内缩的侧壁121a的内缩方向为顺着气流方向(如箭头所示)内缩。

进一步地，如图5所示，在本发明第四实施例中，与第三实施例的差别在于，凸部32a的两侧皆具有内缩的侧壁121a，以扩大集尘及扰流的效果。

进一步地，如图3所示，在本发明第二实施例中，凸部32的截面为矩形；然而本发明不限于此，如图6所示，在本发明第五实施例中，凸部32b的截面为圆弧形。换句话说，凸部的截面可以为任意形状。

进一步地，如图3及图4所示，内缩的侧壁121、121a可为具有锐角；然而本发明不限于此，如图2、图5及图6所示，内缩的侧壁121、121a可为具有圆角。也就是说，内缩的侧壁121、121a的形状、数量以及凸部32、32b的形状可任意搭配。

本发明在上文中已以较佳实施例揭露，然而本领域技术人员应理解的是，所述实施例仅用于描绘本发明，而不应解读为限制本发明的范围。应注意的是，凡是与所述实施例等效的变化与置换，均应设定为涵盖在本发明的范围内。因此，本发明的保护范围当以权利要求所界定的内容为准。