阅读说明：本技术 一种化学机械研磨的防溅罩 (Splash guard for chemical mechanical polishing ) 是由 刘永 于 2020-07-04 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种化学机械研磨的防溅罩,其设置在圆形板状的研磨平台四周；防溅罩本体包括圆环状的支撑座；支撑座与研磨平台两者的旋转中心轴共线设置；支撑座位于研磨平台的下侧；支撑座的上端面上成型有同轴设置的圆环槽状的下落槽；下落槽内设置有一对左右对称设置的扇环状的固定罩部；固定罩部的外圆柱面上圆周移动设置有扇环状的移动罩部；一对移动罩部同步移动设置；当一对移动罩部之间的开口与一对固定罩部之间的开口相对时,研磨头可从相对的开口中水平移出；一对移动罩部的角度和一对固定罩部的角度之和大于三百六十度。(The invention discloses a splash guard for chemical mechanical polishing, which is arranged around a circular plate-shaped polishing platform; the splash guard body comprises a circular supporting seat; the rotation central shafts of the supporting seat and the grinding platform are arranged in a collinear way; the supporting seat is positioned at the lower side of the grinding platform; the upper end surface of the supporting seat is formed with a coaxially arranged circular ring groove-shaped falling groove; a pair of fan-ring-shaped fixed cover parts which are symmetrically arranged left and right are arranged in the falling groove; a sector ring-shaped movable cover part is arranged on the outer cylindrical surface of the fixed cover part in a circumferential moving manner; the pair of movable cover parts are synchronously arranged; when the opening between the pair of movable cover parts is opposite to the opening between the pair of fixed cover parts, the grinding head can be horizontally moved out of the opposite opening; the sum of the angle of the pair of movable cover portions and the angle of the pair of fixed cover portions is greater than three hundred and sixty degrees.)

一种化学机械研磨的防溅罩

技术领域

本发明涉及化学机械研磨的技术领域，具体涉及一种化学机械研磨的防溅罩。

背景技术

化学机械抛光(CMP)工艺又称化学机械平坦化工艺或化学机械研磨工艺，是目前主流的抛光工艺，用于降低晶圆表面粗糙度或对晶圆进行减薄。化学机械抛光机台在进行研磨作业的过程中，旋转的研磨平台会将废液从研磨平台的表面甩向研磨平台的四周，这些废液中含有大量的研磨液成分，因此，当废液挥发后会析出大量结晶物，这些结晶物不仅对化学抛光机台上的各运动部件造成阻碍，还会对金属部件造成腐蚀，影响到机台的使用寿命。

在现有技术中，通过在研磨平台的四周增设一防溅罩来阻挡废液甩溅到平台周围的部件上，防溅罩环绕在研磨平台的四周设置，且罩体采用塑料材质，防溅罩与三个位于不同方位的气缸固定连接，且连接方式采用气缸与防溅罩点接触的方式，当研磨头与研磨平台配合进行研磨作业时，防溅罩需要在气缸的带动下升起，从而罩住研磨平台，研磨平台进行研磨作业过程中甩出的废液便会被防溅罩承接，然后顺着防溅罩流向排水口排走；当研磨作业完成后，研磨头需要转动至下一止点，此时，气缸带动防溅罩下降至研磨平台以下，以避免妨碍到研磨头的转动。在这个过程中，由于防溅罩是一个整体，因此对带动防溅罩的3个气缸驱动的同步性要求很高，如果任意1个气缸因故障导致上下运动速度和其他气缸不一致，就会导致防溅罩受到扯拽，导致罩体扭曲变形，甚至损坏。变形的防溅罩又会反过来对气缸进行挤压拉扯，降低气缸的使用寿命。

发明内容

本发明的目的是现在的防溅罩容易变形，寿命短的技术问题，提供了一种化学机械研磨的防溅罩，可以在有效阻挡各种工作机台甩溅出来的液体的同时，防止防溅罩变形，提高机台的使用寿命，并节约了更换成本。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种化学机械研磨的防溅罩，其设置在圆形板状的研磨平台四周；防溅罩包括防溅罩本体；防溅罩本体包括圆环状的支撑座；支撑座与研磨平台两者的旋转中心轴共线设置；支撑座位于研磨平台的下侧；支撑座的上端面上成型有同轴设置的圆环槽状的下落槽；下落槽内设置有一对左右对称设置的扇环状的固定罩部；固定罩部的外圆柱面上圆周移动设置有扇环状的移动罩部；一对移动罩部同步移动设置；当一对移动罩部之间的开口与一对固定罩部之间的开口相对时，研磨头可从相对的开口中水平移出；一对移动罩部的角度和一对固定罩部的角度之和大于三百六十度；研磨平台的上端面与移动罩部和固定罩部的水平中心面共面。

作为上述技术方案的优选，下落槽的内圆柱面直径小于研磨平台的直径。

作为上述技术方案的优选，研磨平台的下端面四周成型有同轴设置的圆环状的挡水环；挡水环位于下落槽内并且挡水环的下端面高于下落槽的底面；支撑座的上端面内侧端成型有同轴设置的圆环状的上挡水环。

作为上述技术方案的优选，下落槽的底面上设置有若干圆周均匀分布的落水管。

作为上述技术方案的优选，移动罩部的内圆柱面上成型有内挡水槽；固定罩部的内圆柱面上成型有外挡水槽；内挡水槽和外挡水槽的横截面为中部朝外的内腰三角形。

作为上述技术方案的优选，固定罩部的底面上成型有若干圆周均匀分布的连接杆；连接杆的底部固定在下落槽的底面上；移动罩部的下端面上成型有同轴设置的扇环状的导向环；导向环位于下落槽内并且导向环的外径与下落槽的外径相同、内径与固定罩部的外径相同；支撑座上固定有一对圆周均匀分布的驱动支撑板；驱动支撑板的底面上固定有驱动电机；驱动电机的输出轴上端固定有驱动齿轮；移动罩部的外圆柱面下端成型有同轴设置的弧形齿条；弧形齿条与相应侧的驱动齿轮啮合。

本发明的有益效果在于：结构简单，方便研磨头移进移出，防溅罩寿命长，效果好；研磨废液收集方便。

附图说明

图1为本发明的开口时的俯视的结构示意图；

图2为本发明的图1中A-A的剖面的结构示意图；

图3为本发明的正常工作时的俯视的结构示意图；

图中，10、研磨平台；11、挡水环；20、研磨头；30、防溅罩本体；31、支撑座；310、下落槽；311、上挡水环；312、落水管；313、驱动支撑板；32、固定罩部；321、连接杆；33、移动罩部；331、弧形齿条；332、导向环；34、驱动齿轮。

具体实施方式

如图1～图3所示，一种化学机械研磨的防溅罩，其设置在圆形板状的研磨平台10四周；防溅罩包括防溅罩本体30；防溅罩本体30包括圆环状的支撑座31；支撑座31与研磨平台10两者的旋转中心轴共线设置；支撑座31位于研磨平台10的下侧；支撑座31的上端面上成型有同轴设置的圆环槽状的下落槽310；下落槽310内设置有一对左右对称设置的扇环状的固定罩部32；固定罩部32的外圆柱面上圆周移动设置有扇环状的移动罩部33；一对移动罩部33同步移动设置；当一对移动罩部33之间的开口与一对固定罩部32之间的开口相对时，研磨头20可从相对的开口中水平移出；一对移动罩部33的角度和一对固定罩部32的角度之和大于三百六十度；研磨平台10的上端面与移动罩部33和固定罩部32的水平中心面共面。

如图2所示，下落槽310的内圆柱面直径小于研磨平台10的直径。

如图2所示，研磨平台10的下端面四周成型有同轴设置的圆环状的挡水环11；挡水环11位于下落槽310内并且挡水环11的下端面高于下落槽310的底面；支撑座31的上端面内侧端成型有同轴设置的圆环状的上挡水环311。

如图2所示，下落槽310的底面上设置有若干圆周均匀分布的落水管312。

如图2所示，移动罩部33的内圆柱面上成型有内挡水槽；固定罩部32的内圆柱面上成型有外挡水槽；内挡水槽和外挡水槽的横截面为中部朝外的内腰三角形。

如图1～图3所示，固定罩部32的底面上成型有若干圆周均匀分布的连接杆321；连接杆321的底部固定在下落槽310的底面上；移动罩部33的下端面上成型有同轴设置的扇环状的导向环332；导向环332位于下落槽310内并且导向环332的外径与下落槽310的外径相同、内径与固定罩部32的外径相同；支撑座31上固定有一对圆周均匀分布的驱动支撑板313；驱动支撑板313的底面上固定有驱动电机；驱动电机的输出轴上端固定有驱动齿轮34；移动罩部33的外圆柱面下端成型有同轴设置的弧形齿条331；弧形齿条331与相应侧的驱动齿轮34啮合。

化学机械研磨的防溅罩的工作原理；

正常工作图3所示，一对移动罩部33处于前后位置堵住一对固定罩部32的前后开口，这样从旋转状态的研磨平台10上飞射研磨废液被一对移动罩部33和一对固定罩部32阻挡住，这样防溅效果好，同时由于通过一对移动罩部33同步旋转打开开口供研磨头20水平移进移出，这样不会出现防溅罩在升降过程中所遇见的问题，这样防溅罩的寿命高；由于被阻挡的研磨废液最终滴落到下落槽310内，这样研磨废液收集方便。

以上内容仅为本发明的较佳实施方式，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。