阅读说明：本技术 玻璃基板组及其制造方法 (Glass substrate set and method for manufacturing same ) 是由 冈本大和 于 2019-01-23 设计创作，主要内容包括：一种玻璃基板组,其包括多个玻璃基板(Gs),多个玻璃基板(Gs)分别是具有沿着板牵拉方向(X)的第一边(Ga)、以及沿着与板牵拉方向(X)正交的方向(Y)的第二边(Gb)的矩形状,并且第一边(Ga)和第二边(Gb)的长度为1000mm以上,板厚为2.0mm以下,对于多个玻璃基板(Gs),在设定第二边(Gb)的方向的位置为等间隔且相同的大小的七个评价区域(A～G),并分别测定出七个评价区域(A～G)的表面背面挠曲差的情况下,在七个评价区域(A～G)中,表面背面挠曲差的变化量都为0.4mm以下。(A glass substrate group comprises a plurality of glass substrates (Gs), each of the plurality of glass substrates (Gs) has a rectangular shape having a first side (Ga) along a sheet drawing direction (X) and a second side (Gb) along a direction (Y) orthogonal to the sheet drawing direction (X), the first side (Ga) and the second side (Gb) have a length of 1000mm or more and a sheet thickness of 2.0mm or less, and when seven evaluation regions (A-G) are set at equal intervals and have the same size in the direction of the second side (Gb) for each of the plurality of glass substrates (Gs), the variation of the front-back surface deflection difference is 0.4mm or less in each of the seven evaluation regions (A-G).)

玻璃基板组及其制造方法

技术领域

本发明涉及包含多片玻璃基板的玻璃基板组及其制造方法。

背景技术

在液晶显示器等平板显示器(FPD)的制造工序中，包括使用光刻技术在玻璃基板(母玻璃)上重叠并形成多层薄膜图案的成膜工序。这些薄膜图案随着FPD的高精细化而变得更复杂且致密。因而，在玻璃基板上形成薄膜图案时，要求较高的图案形成精度(例如，参照专利文献1、2)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-74582号公报

专利文献2：国际公开第2017/150266号

发明内容

发明要解决的课题

薄膜图案的形成精度有时通过在玻璃基板上形成的薄膜图案(例如，栅极电极的图案)的总间距来进行评价。总间距为是否按照设计形成了薄膜图案的指标，例如通过附加了管理标记等的预先确定的两点间的设计距离与实测距离之差的值来进行管理。

总间距的测定结果有时被反馈到曝光装置并校正曝光误差。在该情况下，若玻璃基板组中包含的每个玻璃基板的总间距较大地变动，则难以校正曝光误差。而且，在不能进行曝光误差的校正的情况下，有可能产生像素的开口率降低、像素间的漏光等而使FPD的显示品质显著劣化。

本发明的课题在于，在包括多个玻璃基板的玻璃基板组中减小总间距的变动。

用于解决课题的手段

本申请发明人反复进行了深入研究，结果发现，对于玻璃基板组中包含的每个玻璃基板，表面背面挠曲差局部地变动是总间距的变动原因之一。详细而言，玻璃基板一般通过溢流下拉法等下拉法、浮法成形，但在长时间的成形过程中，与板牵拉方向正交的方向的形状容易变化。因此，若将玻璃基板组中包含的玻璃基板在与板牵拉方向正交的方向上分割为多个区域，对每个玻璃基板比较各区域的表面背面挠曲差，则在对应的相同的区域中表面背面挠曲差容易变动。在成膜工序中，由于在将玻璃基板载置于平板(平面)的状态下进行曝光，因此，若这样表面背面挠曲差变动，则对于每个玻璃基板，在平板上的微视形状不规则地变化，成为总间距的变动原因。因而，从减小玻璃基板组的总间距的变动的观点出发，期望在玻璃基板组内减小每个玻璃基板的表面背面挠曲差的变动(偏差)。

即，为了解决上述的课题而提出的本发明是一种玻璃基板组，其包括多个玻璃基板，玻璃基板组的特征在于，多个玻璃基板分别是具有沿着板牵拉方向的第一边、以及沿着与板牵拉方向正交的方向的第二边的矩形状，并且第一边和第二边各自的长度为1000mm以上，板厚为2.0mm以下，对于多个玻璃基板，在设定第二边的方向上的位置为等间隔且相同大小的七个评价区域，并分别测定出七个评价区域的表面背面挠曲差的情况下，在七个评价区域中，多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量都为0.4mm以下。根据这种结构，在第二边的方向的位置为等间隔的七个评价区域中，表面背面挠曲差的变化量(玻璃基板组内的表面背面挠曲差的最大值与最小值之差)都为0.4mm以下，因此每个玻璃基板的表面背面挠曲差的变动被抑制得较小。因而，在包括多个玻璃基板的玻璃基板组中，能够减小总间距的变动。另外，在通过减小玻璃基板的挠曲(表面背面挠曲差)来减小玻璃基板组的总间距的变动的情况下，为了改善由成形体这样的制造设备的消耗引起的挠曲差的恶化而增加修理设备的频率，由此制造成本增大。本发明通过使表面背面挠曲差的变化量为0.4mm以下来减小玻璃基板组的总间距的变动，因此能够在某种程度上允许玻璃基板的挠曲(表面背面挠曲差)，能够抑制制造成本的增大。这里，“板牵拉方向”是指在成形玻璃基板时进行板牵拉的方向。“沿着板牵拉方向的第一边”不仅是指与板牵拉方向在几何学上平行的情况，而且还包括被认为实质上平行的方向。“沿着与板牵拉方向正交的方向的第二边”不仅包括与板牵拉方向在几何学上正交的方向，而且还包括被认为实质上正交的方向。“玻璃基板组”狭义上是指在同一条件下制造的产品的集合，但不限定于此，广义上是指由同一管理者进行品质管理的同种产品的集合。

在上述的结构中，优选的是，在根据七个评价区域的表面背面挠曲差针对七个评价区域的每一个计算出表面背面挠曲差的平均值的情况下，七个评价区域的平均值中的最大值与七个评价区域的平均值中的最小值之差为0.4mm以上。这样，由于玻璃基板组中包含的、各个玻璃基板具有适度的挠曲，因此能够缓和成膜工序中的与平板的紧贴状态。因而，在成膜工序结束之后，将玻璃基板从平板分离时，难以产生可能成为薄膜图案破损原因的剥离带电。

在上述的结构中，优选的是，最大值和最小值各自的绝对值为0.4mm以下。即，即使表面背面挠曲差的值自身变得过大，也存在由于在成膜工序的曝光时玻璃基板从平板偏离而难以校正曝光误差的情况。因而，在七个评价区域中，表面背面挠曲差的绝对值优选都在上述数值范围内。

为了解决上述的课题而提出的本发明是包括多个玻璃基板的玻璃基板组的制造方法，玻璃基板组的制造方法的特征在于，多个玻璃基板分别是具有沿着板牵拉方向的第一边、以及沿着与板牵拉方向正交的方向的第二边的矩形状，并且第一边和第二边各自的长度为1000mm以上，板厚为2.0mm以下，玻璃基板组的制造方法包括如下工序：对于多个玻璃基板，设定第二边的方向上的位置不同的多个评价区域，并分别测定多个评价区域的表面背面挠曲差；对于多个评价区域，分别求出多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量；以及基于多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量来判定多个玻璃基板合格与否。根据这种结构，由于基于多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量来判定多个玻璃基板的合格与否，因此对于判定为合格的多个玻璃基板，将每个基板的表面背面挠曲差的变动抑制得较小。因而，在包括被判定为合格的多个玻璃基板的玻璃基板组中，能够减小总间距的变动。

发明效果

根据本发明，在包括多个玻璃基板的玻璃基板组中，能够减小总间距的变动。

附图说明

图1是表示第一实施方式的玻璃基板组的侧视图。

图2是表示第二实施方式的玻璃基板组的侧视图。

图3是表示设定有七个评价区域的玻璃基板组中包含的玻璃基板的俯视图。

图4是用于说明表面背面挠曲差的测定方法的侧视图。

图5是用于说明玻璃基板组的制造方法的侧视图。

图6是表示比较例的玻璃基板组的七个评价区域中的表面背面挠曲差的测定结果的曲线图。

图7是表示实施例的玻璃基板组的七个评价区域中的表面背面挠曲差的测定结果的曲线图。

具体实施方式

以下，基于附图，说明玻璃基板组的实施方式。

如图1所示，第一实施方式的玻璃基板组Gg由在一个纵置用托盘(pallet)1上以纵向姿势(优选相对于水平方向为45°～80°的倾斜姿势，更优选为60°～75°)层叠的多个玻璃基板Gs构成。

托盘1具备对由纵向姿势的玻璃基板Gs的层叠体构成的玻璃基板组Gg的底面进行支承的底面支承部1a、以及对玻璃基板组Gg的背面进行支承的背面支承部1b。

玻璃基板组Gg所包含的各玻璃基板Gs中的、背面支承部1b侧的面(背面侧的面)成为在成膜工序中形成薄膜图案的保证面。这是为了在从托盘1取出玻璃基板Gs时，使吸附垫不与保证面直接接触。

虽然省略图示，但例如，通过将按压板配置于玻璃基板组Gg的最前面，并且在该按压板上配置向玻璃基板组Gg的宽度方向(例如，水平方向)的两侧伸出的按压杆，利用紧固构件以向背面支承部1b侧拉入的方式紧固按压杆的两端部，从而将玻璃基板组Gg固定于托盘1。为了限制玻璃基板组Gg的宽度方向的移动，也可以配置按压玻璃基板组Gg的侧面的按压构件。需要说明的是，玻璃基板组Gg和托盘1的固定方法没有特别限定，能够采用带固定等任意的固定方法。

另外，如图2所示，第二实施方式的玻璃基板组Gg由在一个横置用托盘2上以横向姿势(优选为0°(水平姿势)～30°，更优选为0°～15°)层叠的多个玻璃基板Gs构成。

托盘2具备对由横向姿势的玻璃基板Gs的层叠体构成的玻璃基板组Gg的底面进行支承的底面支承部2a。

玻璃基板组Gg所包含的各玻璃基板Gs中的、底面支承部2a侧的面(下表面)成为在成膜工序中形成薄膜图案的保证面。这是为了在从托盘1取出玻璃基板Gs时，使吸附垫不与保证面直接接触。

虽然省略图示，但例如，通过将按压板配置于玻璃基板组Gg的最前面(最上表面)，并且在该按压板上配置向玻璃基板组Gg的两侧伸出的按压杆，利用紧固构件以向底面支承部2a侧拉入的方式紧固按压杆的两端部，从而将玻璃基板组Gg固定于托盘2。为了限制玻璃基板组Gg的横向偏移，也可以配置按压玻璃基板组Gg的侧面的按压构件。按压构件例如以包围玻璃基板组Gg的四方的方式散布地配置多个。需要说明的是，玻璃基板组Gg和托盘2的固定方法没有特别限定，能够采用带固定等任意的固定方法。

这里，在第一以及第二实施方式的玻璃基板组Gg的情况下，由于多个玻璃基板Gs处于层叠状态，因此优选在玻璃基板Gs的各相互之间夹持纸(衬纸)、发泡树脂片材等保护片材(省略图示)。

玻璃基板组Gg所包含的多个玻璃基板Gs分别通过溢流下拉法、狭缝下拉法等下拉法、浮法等公知的成形方法来制造。在本实施方式中，通过溢流下拉法来制造。

玻璃基板组Gg所包含的多个玻璃基板Gs的分别为具有由上述的成形方法得到的沿着板牵拉方向X的第一边Ga、以及沿着与板牵拉方向X正交的方向Y的第二边Gb的矩形状，并且例如被用作FPD用的玻璃基板。第一边Ga和第二边Gb的长度为1000mm以上，优选为1500mm以上。第一边Ga和第二边Gb的长度优选为4000mm以下。板厚为2.0mm以下，优选为0.7mm以下。板厚优选为0.3mm以上。

如图3所示，对于多个玻璃基板Gs的每一个，在设定了第二边Gb的方向的位置为等间隔的七个评价区域A、B、C、D、E、F、G的情况下，在七个评价区域A～G的任一个中，多个玻璃基板Gs(玻璃基板组Gg)的表面背面挠曲差的变化量为0.4mm以下。若在七个评价区域A～G中，包含多个玻璃基板Gs的表面背面挠曲差的变化量超过0.4mm的区域，则总间距的变动变大，在成膜工序中容易产生因曝光不良引起的成膜不良。与此相对，在七个评价区域A～G的任一个中，若多个玻璃基板Gs的表面背面挠曲差的变化量为0.4mm以下，则总间距的变动变小，在成膜工序中难以产生曝光不良，能够形成适当的薄膜图案。表面背面挠曲差的变化量优选为0.3mm以下，更优选为0.2mm以下。

另外，在对七个评价区域中的每一个计算了表面背面挠曲差的平均值的情况下，在七个评价区域A～G中表面背面挠曲差的平均值为最大的值与七个评价区域A～G中表面背面挠曲差的平均值最小的值的差优选为0.4mm以上。该最大值与最小值的差更优选为0.5mm以上。需要说明的是，最大值的绝对值与最小值的绝对值分别优选为0.3mm以下。

这里，多个玻璃基板Gs的表面背面挠曲差的变化量通过以下步骤测定。

(1)首先，从玻璃基板组Gg选取任意的5片玻璃基板Gs。

(2)在选取的各玻璃基板Gs设定七个评价区域A～G。各评价区域A～G被设定在成膜工序中形成薄膜图案的有效区域内。各评价区域A～G为与板牵拉方向正交的宽度方向的长度为370mm，板牵拉方向长度为470mm的大小的长方形。各评价区域A～G在宽度方向上等间隔(间隔ΔI)地设置。而且，在各评价区域A～G选取与评价区域相同的大小的玻璃片Gp，针对各玻璃基板Gs准备7片玻璃片Gp。需要说明的是，在有效区域的宽度小且不将七个评价区域A～G沿着宽度方向设置成一列的情况下，如图3所示，以沿着宽度方向成为两列的方式，将七个评价区域A～G设置成交错状。

(3)测定各玻璃片(共计35片玻璃片)Gp的表面背面挠曲差。如图4所示，表面背面挠曲差是测定使玻璃片Gp的一主表面(例如保证面)为上侧时的第一挠曲W1、以及使玻璃片Gp的另一主表面(例如与保证面相反的一侧的非保证面)为上侧时的第二挠曲W2，通过第一挠曲W1与第二挠曲W2之差(W1-W2)而求出。在测定玻璃片Gp的挠曲时，以350mm的支承跨距L支承玻璃片Gp的形成370mm的短边方向两端部。

(4)在宽度方向的各评价区域A～G中，求出表面背面挠曲差的最小值和最大值，将该差作为表面背面挠曲差的变化量。

另外，七个评价区域A～G的平均值中的最大值与七个评价区域A～G的平均值中的最小值之差由通过上述的(1)～(3)的步骤测定的表面背面挠曲差对七个评价区域A～G中的每一个计算平均值，分别求出平均值的最大值和最小值，通过该差来计算。

这里，玻璃基板Gs的板牵拉方向例如在暗室中一边调整玻璃基板Gs的角度一边从光源(例如氙气灯)照射光，将其透过光投影到屏幕上，由此能够观测为条纹状的条纹图案。因而，即使在成形后的玻璃基板Gs的状态下，也能够确定成形时的板牵拉方向。

接下来，说明具备以上结构的玻璃基板组Gg的制造方法。

如图5所示，本制造方法中，使用玻璃基板组的制造装置10。制造装置10是连续成形玻璃带Gr的装置，并且具备成形玻璃带Gr的成形炉11、将玻璃带Gr进行退火(退火处理)的退火炉12、将玻璃带Gr冷却到室温附近的冷却区域13、在成形炉11、退火炉12和冷却区域13各自设置有上下多级的辊对14。

在成形炉11的内部空间配置有通过溢流下拉法从熔融玻璃Gm成形玻璃带Gr的成形体15。供给到成形体15的熔融玻璃Gm从形成于成形体15的顶部15a的槽部溢出，该溢出的熔融玻璃Gm沿着成形体15的截面呈楔形的两侧面15b在下端合流，由此连续成形板状的玻璃带Gr。成形的玻璃带Gr为纵向姿势(优选为铅垂姿势)，X方向为板牵拉方向。

退火炉12的内部空间朝向下方具有规定的温度梯度。纵向姿势的玻璃带Gr以随着在退火炉12的内部空间朝向下方移动而温度变低的方式退火。通过退火来减少玻璃带Gr的内部变形。退火炉12的内部空间的温度梯度例如能够通过设置于退火炉12的内表面的加热装置等温度调整装置进行调整。

多个辊对14从表面背面两侧夹持纵向姿势的玻璃带Gr的两侧的侧端部。需要说明的是，在退火炉12的内部空间等中，也可以在多个辊对14中包含不夹持玻璃带Gr的侧端部的辊对14。换言之，也可以使辊对14的对置间隔比玻璃带Gr的侧端部的厚度大，并使玻璃带Gr通过辊对14之间。在本实施方式中，构成夹着玻璃带Gr对置的辊对14的各个辊由具有延伸到炉外的旋转轴的双支承辊构成。

需要说明的是，在本实施方式中，划分成形炉11、退火炉12以及冷却区域13的壁部X1的外侧被外包围体(例如，专利文献2公开的房屋)X2包围。在外包围体X2与壁部X1之间的空间中，在与冷却区域13的上端部对应的位置、与冷却区域13的下端部对应的位置分别设置有分隔部(例如，房屋的各层的地板面)X3、X4。通过这些分隔部X3、X4，外包围体X2与壁部X1之间的空间被分割为包围退火炉12的房间R1、包围冷却区域13的房间R2。

如图5所示，制造装置10在冷却区域13的下方位置具备切断装置16。切断装置16构成为通过每隔规定的长度在宽度方向上切断纵向姿势的玻璃带Gr，从玻璃带Gr依次切出玻璃基板Gs。这里，宽度方向是与玻璃带Gr的长度方向(板牵拉方向)正交的方向，在本实施方式中实质上与水平方向一致。

切断装置16具备：圆盘割刀(省略图示)，其通过在从冷却区域13下降来的纵向姿势的玻璃带Gr的一主表面上行进，沿着玻璃带Gr的宽度方向而形成刻划线S；接触部17，其从另一主表面侧支承在形成有刻划线S的区域；以及保持部18，其在保持与切出对象的玻璃基板Gs对应的部分的玻璃带Gr的状态下，进行用于使弯曲应力作用于刻划线S以及其附近的动作(A方向的动作)。

圆盘割刀构成为，一边追随下降中的玻璃带Gr而下降，一边在玻璃带Gr的宽度方向的整个区域或者一部分形成刻划线S。在本实施方式中，在包含厚度相对较大的耳部的侧端部也形成刻划线S，但也可以不在侧端部形成刻划线S。需要说明的是，刻划线S也可以通过激光的照射等形成。另外，由于包含耳部的侧端部在后续工序中被切断去除，因此在玻璃基板Gs的状态下没有耳部。

接触部17由板状体(平板)构成，该板状体具有一边追随下降中的玻璃带Gr而下降，一边与玻璃带Gr的宽度方向的整个区域或者一部分接触的平面。接触部17的接触面也可以是沿宽度方向弯曲的曲面。

保持部18由从表面背面两侧夹持玻璃带Gr的宽度方向两侧的侧端部的夹紧件构成。保持部18在玻璃带Gr的宽度方向两侧的侧端部分别在玻璃带Gr的长度方向上隔开间隔地设置有多个。设置于一侧的侧端部的多个保持部18全部由同一臂部(省略图示)保持。另外，同样地，设置于另一侧的侧端部的多个保持部18也全部由同一臂部(省略图示)保持。通过各个臂部的动作，多个保持部18追随下降中的玻璃带Gr而下降，并且进行用于以接触部17支点使玻璃带Gr弯曲的动作(A方向的动作)。由此，在刻划线S以及其附近施加弯曲应力，沿着刻划线S在宽度方向上割断玻璃带Gr。该割断的结果是，从玻璃带Gr切出与玻璃基板Gs对应的部分。而且，通过重复这种割断(切断)动作，制造出玻璃基板组Gg所包含的多个玻璃基板Gs。需要说明的是，保持部18并不限定于夹持的保持方式，例如，也可以吸附保持玻璃带Gr的任一方的主表面。

制造的玻璃基板Gs1是选取一片或多片产品玻璃基板的玻璃原板(母玻璃)，在包括曝光工序的成膜工序中，在与各产品玻璃基板对应的位置一并形成薄膜图案，由此从一片玻璃原板制造多个FPD。

这里，通过在由上述的退火炉12实施的退火工序中适当地将玻璃带Gr退火，从而在玻璃带Gr以及从该玻璃带Gr选取的玻璃基板Gs中，能够得到规定的形状品质。此时，若在退火工序的温度域内玻璃带Gr的周围温度随时间变化，则会对玻璃带Gr(玻璃基板Gs)的形状品质带来影响。因而，通过抑制包围退火炉12的房间R1和冷却区域13(由壁部X1划分的冷却区域13的内部空间)的压差变动，将退火炉12内的温度保持为恒定。其结果是，能够大幅度地减少玻璃基板组Gg的表面背面挠曲差的变化量。

详细地说，在退火炉12内的温度控制不充分的比较例中，如图6所示，在七个区域A～G中，包含玻璃基板组Gg的表面背面挠曲差的变化量超过0.4mm的区域。此时，包围退火炉12的房间R1与冷却区域13的压差的变动幅度以3Pa～5Pa变化。与此相对，如上述那样，在抑制包围退火炉12的房间R1与冷却区域13的压差变动而充分地进行退火炉12内的温度控制的实施例中，如图7所示，在七个评价区域A～G的任一个中，玻璃基板组Gg的表面背面挠曲差的变化量减少到0.4mm以下。此时，包围退火炉12的房间R1与冷却区域13的压差的变动幅度以0.5Pa～2Pa变化。需要说明的是，压差的变动幅度是指生产玻璃基板组Gg的期间中的包围退火炉12的房间R1与冷却区域13的压差的最大值与最小值之差。

在图7的例子的情况下，在七个评价区域A～G的任一个中，玻璃基板组Gg的表面背面挠曲差的变化量为0.1mm以下(区域A：0.1mm，区域B：0.1mm，区域C：0.1mm，区域D：0.1mm，区域E：0.0mm，区域F：0.0mm，区域G：0.1mm)。另外，七个评价区域A～G的表面背面挠曲差的平均值中最大值为0.23mm，七个评价区域A～G的表面背面挠曲差的平均值中最小值为-0.2mm，它们最大值与最小值之差为0.43mm。当然，图7的结果只是一个例子，并不限定于该结果。

本实施方式的制造方法优选包括如下工序：对于多个玻璃基板，设定第二边的方向的位置不同的多个评价区域，并分别测定多个评价区域的表面背面挠曲差；对于多个评价区域，分别求出多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量；以及基于多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量来判定多个玻璃基板(玻璃基板组)的合格与否。通过前述的(1)～(5)的步骤，能够分别测定多个评价区域的表面背面挠曲差，并且能够求出多个玻璃基板间的表面背面挠曲差的变化量。在该情况下，在前述的(1)中从玻璃基板组Gg选取任意的玻璃基板Gs的片数例如为3～10片即可。此时，也可以以恒定的时间间隔(例如每0.5～12小时)选取通过割断而切出的玻璃基板Gs。另外，评价区域A～G并不局限于七个，也可以例如为3～10个。各评价区域的宽度方向的长度并不局限于370mm，也可以例如为300～600mm，板牵拉方向长度并不局限于470mm，例如为300～700mm。而且，支承跨距L并不局限于350mm，也可以例如为200～500mm。

关于合格与否的判定，优选在表面背面挠曲差的变化量为0.4mm以下的情况下判定为合格，更优选在0.3mm以下的情况下判定为合格，最优选在0.2mm以下的情况下判定为合格。其中，随着支承跨距L变长，第一挠曲W1以及第二挠曲W2增加。因此，在支承跨距L不为350mm的情况下，只要基于支承跨距L为350mm的表面背面挠曲差((W1-W2)×350/L)来判定合格与否即可。或者，在支承跨距L不为350mm的情况下，优选在表面背面挠曲差的变化量为(0.4×L/350)mm以下的情况下判定为合格，进一步更优选在(0.3×L/350)mm以下的情况下判定为合格，最优选在(0.2×L/350)mm以下的情况下判定为合格。

需要说明的是，本发明并不局限于上述的实施方式，且并不局限于上述作用效果。本发明能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更。

在上述实施方式中，对刻划割断玻璃带Gr的情况进行了说明，但对于玻璃带Gr和/或玻璃基板Gs的切断，也可以使用激光割断、激光熔断等其他切断方法。

附图标记说明：

1、2 托盘

10 玻璃基板组的制造装置

11 成形炉

12 退火炉

13 冷却区域

14 辊对

15 成形体

16 切断装置

17 接触部

18 保持部

A～G 评价区域

Gg 玻璃基板组

Gs 玻璃基板

Ga 第一边(沿着板牵拉方向的边)

Gb 第二边(沿着与板牵拉方向正交的方向的边)

Gp 玻璃片

Gm 熔融玻璃

Gr 玻璃带。