阅读说明：本技术 一种高温釉中金的烧制工艺 (Firing process of gold in high-temperature glaze ) 是由 黄少晨 于 2020-06-16 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种高温釉中金的烧制工艺,其釉烧温度为1000℃--1050℃,釉烧时降温采取快速降温的方式,降温速率为180--200℃/min。所述烧制工艺包括如下步骤：制坯、上釉、素烧、描金和╱或印金、釉烧。其采用电窑烧制。并且其通过调节散热孔和窑门以及烟筒来达到快速降温的目的。通过采用本发明的高温釉中金烧制工艺,使烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。(The invention relates to a firing process of gold in high-temperature glaze, wherein the glaze firing temperature is 1000-1050 ℃, the temperature reduction during glaze firing adopts a rapid temperature reduction mode, and the temperature reduction rate is 180-200 ℃/min. The firing process comprises the following steps: blank making, glazing, biscuit firing, gilding and/or bronzing, and glaze firing. It is fired by an electric kiln. And the purpose of rapid cooling is achieved by adjusting the heat dissipation holes, the kiln door and the chimney. By adopting the gold firing process in the high-temperature glaze, the firing rate can reach 100% from less than 50%. The glossiness and the vividness of the glaze surface are improved.)

一种高温釉中金的烧制工艺

技术领域

本发明涉及一种陶瓷烧制领域，特别涉及一种高温釉中金的烧制工艺。

背景技术

高温釉中金技术是通过高温让表层釉面***，使金面浸入釉中，形成高温釉中金效果。所形成的金面不但光亮平滑，经久耐磨，且更抗腐蚀、抗氧化。高温釉中金技术，瓷器与人的日常相伴，将历久弥新。但是现有的高温釉中金的烧制过程存在许多缺陷和不足，烧成率很多都不足50％，釉面的光泽度和鲜艳度也欠佳，在烧制过程中还经常出现流釉的问题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高温釉中金的烧制工艺。

本发明的一种高温釉中金的烧制工艺，其釉烧温度为1000℃-1050℃，釉烧时降温采取快速降温的方式，降温速率为180-200℃/min。

经过本发明试验发现降温速率对釉面的光泽度和鲜艳度影响很大。采用本发明的快速降温的方法，能极大提高釉面的光泽度和鲜艳度。

优选所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、描金或印金、釉烧。

优选所述釉烧温度为1050℃或1000℃。

优选所述釉烧时的降温速率为190℃/min。

优选采用电窑烧制。因为电窑烧成的气氛为中性气氛，天然气加热的气氛影响釉面的光泽度。

优选其烧制过程中的温控程序为：

从室温—670℃，升温速率为420-440℃/h；

670℃—790℃，升温速率为110-130℃/h；

790℃—1050℃，升温速率为130-150℃/h；

1050℃保温10min后采取快速降温的方式以180-200℃/min降温。

进一步优选其釉烧的温控程序为：

从室温—670℃，升温速率为433℃/h；

670℃—790℃，升温速率为120℃/h；

790℃—1000℃，升温速率为140℃/h；

1050℃保温10min采取快速降温的方式以190℃/min降温。

本发明釉烧时的快速降温通过调节散热孔和窑门开的大小以及烟筒来实现。

有益效果

本发明通过合理地调节高温釉中金的烧成工艺，特别是控制其釉烧的温控程序，使最终的烧成率从不足50％达到100％。釉面的光泽度和鲜艳度均提高。

具体实施方式

为便于理解本发明，本发明列举实施例如下。本领域技术人员应该明了，所述实施例仅仅用于帮助理解本发明，不应视为对本发明的具体限制。如无具体说明，本发明的各种原料均可以通过市售得到，或根据本领域的常规方法制备得到；本发明的生产工艺中所用的设备均可采用本领域中的公知设备，本发明没有特别说明的生产工艺均为本领域中公知的生产工艺，在此不再对具体的生产设备和工艺进行赘述。除非另有定义或说明，本文中所使用的所有专业与科学用语与本领域技术熟练入员所熟悉的意义相同。

下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。以下实施例中烧制采用电窑，电窑型号为HQ-3-5。

实施例1

本实施例的一种高温釉中金的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、印金、釉烧。其中釉烧温度为1050℃，釉烧的温控程序为：

从室温—670℃，升温速率为433℃/h；

670℃—790℃，升温速率为120℃/h；

790℃—1050℃，升温速率为140℃/h；

1050℃保温10min后以190℃/min的降温速率快速降到室温。

釉烧和素烧时均采用电窑烧制。

釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒三者单独或三者结合使用来实现。烟筒的高度为16m，直径380mm。

实施例2

本实施例的一种高温釉中金的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、描金、釉烧。其中釉烧温度为1000℃，釉烧的温控程序为：

从室温—423℃，升温速率为250℃/min；

423℃—698℃，升温速率为190℃/min；

698℃—898℃，升温速率为120℃/min；

898℃—1000℃，升温速率为210℃/min；

1000℃保温10min中后降温时采取快速降温的方式，降温速率为150℃/min。

釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。

釉烧和素烧时均采用电窑烧制。

实施例3

本实施例的一种高温釉中金的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、描金、釉烧。其中釉烧温度为1020℃，釉烧的升温程序为：

从室温—423℃，升温速率为270℃/min；

423℃—698℃，升温速率为170℃/min；

698℃—898℃，升温速率为140℃/min；

898℃—1098℃，升温速率为190℃/min；

1098℃—1100℃，升温速率为0.4℃/min。

釉烧降温时采取快速降温的方式，降温速率为135℃/min。

釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。

釉烧和素烧时均采用电窑烧制。

实施例4

本实施例的一种高温釉中金的烧制工艺，所述工艺的步骤包括：配料、球磨、除铁、榨泥、练泥、陈腐、制坯成型、干燥、修坯、上釉、素烧、抛光清洗、印金、釉烧。其中釉烧温度为1040℃，釉烧的温控程序为：

从室温—423℃，升温速率为270℃/min；

423℃—698℃，升温速率为170℃/min；

698℃—898℃，升温速率为140℃/min；

898℃—1040℃，升温速率为190℃/min；

1040保温10min后以140℃/min的降温速率快速降到室温。

釉烧时的快速降温通过调节散热孔或窑门开的大小以及烟筒来实现。

釉烧和素烧时均采用电窑烧制。

对比例1

本对比例的一种高温釉中金的烧制工艺，其采用的原料与实施例1均相同，按照现有的方法进行烧制，并采用天然气窑炉。

将实施例1-4及对比例1烧制的陶瓷件进行相关性能测试，结果汇总如下：

	实施例1	实施例2	实施例3	实施例4	对比例1
						釉面的光泽度	92.0	90.5	89.9	91.4	81.2
釉面的鲜艳度	鲜艳	鲜艳	鲜艳	鲜艳	较暗
						成品合格率	100％	99％	99％	99％	49％

由上表可以看出，采用本发明的工艺制备的高温釉中金陶瓷件，其釉面的光泽度和鲜艳度以及成品的合格率明显好于对比例1的陶瓷件。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。