阅读说明：本技术 烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法 (Baking device and control method thereof ) 是由 禹钟旭 于 2019-10-08 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种烘焙装置以及烘焙装置的控制方法,更加详细地涉及一种在烘焙腔室搅拌对象物并烘焙的烘焙装置以及烘焙装置的控制方法。根据本发明的烘焙装置,作为加热对象物的烘焙装置,包括：烘焙腔室部,包括对象物在内部被搅拌并沿上下方向延伸形成的圆筒形的烘焙腔室和为了搅拌收纳于所述烘焙腔室的所述对象物而旋转的旋转搅拌部,所述旋转搅拌部以沿垂直的方向形成的搅拌轴为中心旋转；以及热源部,对所述烘焙腔室部提供热,其中,所述热源部包括：第一热源部,向所述烘焙腔室提供热风,从而向所述烘焙腔室内部提供对流热；第二热源部,接触于所述烘焙腔室的表面,并以传导方式向所述烘焙腔室提供传导热；以及第三热源部,向所述烘焙腔室内部提供辐射热。(The present invention relates to a roasting apparatus and a method for controlling the roasting apparatus, and more particularly, to a roasting apparatus and a method for controlling the roasting apparatus, in which an object is stirred and roasted in a roasting chamber. According to the present invention, a roasting apparatus for heating an object includes: a baking chamber part including a cylindrical baking chamber in which an object is stirred and which extends in a vertical direction, and a rotary stirring part which rotates to stir the object accommodated in the baking chamber, the rotary stirring part rotating around a stirring shaft formed in a vertical direction; and a heat source part that supplies heat to the roasting chamber part, wherein the heat source part includes: a first heat source part supplying hot wind to the roasting chamber to supply convection heat to the inside of the roasting chamber; a second heat source part contacting a surface of the roasting chamber and providing conductive heat to the roasting chamber in a conductive manner; and a third heat source part supplying radiant heat to the inside of the roasting chamber.)

烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法

技术领域

本发明涉及一种烘焙装置以及烘焙装置的控制方法，更加详细地涉及一种在烘焙腔室搅拌对象物并烘焙的烘焙装置以及烘焙装置的控制方法。

背景技术

最近，正在推出在专门的咖啡店或者在家中能够简单地自动烘焙如咖啡豆的谷物的谷物烘焙机或者咖啡烘焙机。

这样的咖啡烘焙机利用温度传感器和微型计算机设置烘焙运行模式来自动烘焙咖啡豆。

现有的商用自动咖啡烘焙机主要采用如下的搅拌方式：以水平旋转滚筒式将滚筒正反旋转，从而使咖啡豆被均匀地搅拌。(授权专利第342091号、授权专利第369539号、授权专利第463341号、授权专利第8041061号、授权专利第887985号、授权专利第963695号、公开专利第2009-30655号、公开专利第2010-38802号)。

然而，对现有的自动咖啡烘焙机而言，提供仅利用气体燃烧等的一种热源来对水平旋转滚筒进行加热的方式，从而存在预热时需要很多时间，并且无法应对多种烘焙环境的问题。

发明内容

技术问题

对此，本发明提供一种减少烘焙预热操作时间而使生产性进一步提升的烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法。

并且，本发明提供一种更加有效地测量对象物的烘焙进行过程，从而使用户能够进行期望的烘焙的烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法。

技术方案

根据本发明的实施例的一侧面的烘焙装置，作为加热对象物的烘焙装置，包括：烘焙腔室部，包括对象物在内部被搅拌并沿上下方向延伸形成的圆筒形的烘焙腔室和为了搅拌收纳于所述烘焙腔室的所述对象物而旋转的旋转搅拌部，所述旋转搅拌部以沿垂直的方向形成的搅拌轴为中心旋转；以及热源部，对所述烘焙腔室部提供热，其中，所述热源部包括：第一热源部，向所述烘焙腔室提供热风，从而向所述烘焙腔室内部提供对流热；第二热源部，接触于所述烘焙腔室的表面，并以传导方式向所述烘焙腔室提供传导热；以及第三热源部，向所述烘焙腔室内部提供辐射热。

并且，所述第二热源部可以包括在与所述烘焙腔室的外周面接触的状态下包围所述外周面的第二热源部主体，所述第二热源部主体可以利用陶瓷材质形成。

并且，在所述烘焙腔室可以形成有与外部连通的至少一个烘焙腔室侧贯通孔，所述第二热源部主体可以形成有在与所述烘焙腔室侧贯通孔对应的位置形成的第二热源部主体侧贯通孔。

所述烘焙装置还可以包括：传导温度测量单元，用于测量所述第二热源部的温度，

其中，所述传导温度测量单元的传导温度测量探头可以在布置于所述第二热源部和所述烘焙腔室之间的状态下同时与所述第三热源部主体的内面和所述烘焙腔室的所述外周面接触，所述传导温度测量单元的所述传导温度测量探头可以布置于与所述烘焙腔室侧贯通孔以及所述第二热源主体侧贯通孔相隔最远的位置。

所述烘焙装置还可以包括：辐射温度测量单元，用于测量收纳于所述烘焙腔室的内部空间的对象物的温度，其中，所述辐射温度测量单元可以布置于在所述烘焙腔室的上侧布置的上部单元而朝向所述烘焙腔室的内部空间侧。

并且，所述上部单元可以包括形成为圆形的上部单元主体，在所述上部单元主体形成有沿上下方向贯通的测量孔，其中，所述辐射温度测量单元可以包括：感测部，用于测量温度；以及过滤部，布置于所述感测部的前方，并且使预设的波段的光通过，其中，所述感测部以及所述过滤部可以与所述测量孔对齐。

并且，所述辐射温度测量单元可以包括：第一支架，固定于所述上部单元主体，并在内部形成有第一贯通孔；第二支架，一侧与所述第一支架接触而被固定，并且形成有使所述感测部插入并与所述第一贯通孔对齐的第二贯通孔；以及基板，使所述感测部安装，并且固定于所述第二支架的另一侧，其中，所述第一贯通孔以及所述第二贯通孔可以与所述测量孔对齐，在所述第一支架和所述第二支架之间可以设置有所述过滤部。

并且，所述第一支架可以包括：第一支架主体，形成所述第一支架的外形，并在中央布置所述第一贯通孔；以及一对突出部，在所述第一支架主体的一侧朝上方突出形成，其中，在所述突出部之间可以形成有凹陷空间，所述第二支架可以包括：第二支架主体，形成所述第二支架的外形，并在中央布置所述第二贯通孔，以及插入部，形成于所述第二支架主体的一侧，并插入于所述第一支架的所述凹陷空间，其中，所述过滤部可以在与布置于所述凹陷空间的所述第一贯通孔对齐的状态下，紧贴于所述第一支架的所述凹陷空间和所述第二支架的所述插入部之间。

并且，在所述过滤部和所述第一支架之间以及所述过滤部和所述第二支架之间中的至少一处可以布置有弹性部件。

在所述上部单元的下面可以形成有包围所述测量孔并朝下方突出形成的圆筒形状的引导部，所述引导部可以与所述测量孔对齐。

并且，所述第一热源部可以包括：流动管，流动有空气；以及加热单元，布置于所述流动管的一侧，并加热流动的空气，所述第三热源部可以包括发散辐射热的灯具单元，在所述上部单元可以形成有：第一热源布置孔，固定所述加热单元，并且使被加热的空气流动至所述烘焙腔室的所述内部空间；以及第三热源布置孔，固定所述灯具单元，以使从所述灯具单元发散的所述辐射热传递至所述烘焙腔室的所述内部空间，其中，所述灯具单元以及所述第三热源布置孔可以配备为一对，在所述一对所述第三热源布置孔之间可以布置有所述第一热源布置孔。

并且，所述第一热源布置孔可以形成为圆形，所述第三热源布置孔可以形成为矩形形状。

在使所述烘焙腔室的内部空间的温度从常温上升至预设的温度的预热操作过程中，所述第一热源部、所述第二热源部以及所述第三热源部可以以如下的方式依次被激活：首先所述第一热源部向所述烘焙腔室的所述内部空间提供对流热之后，所述第二热源部向所述烘焙腔室的所述内部空间提供传导热，随后所述第三热源部向所述烘焙腔室的所述内部空间提供辐射热。

根据本发明的实施例的另一侧面的烘焙装置的控制方法，作为包括烘焙腔室部，包括对象物在内部被搅拌并沿上下方向延伸形成的圆筒形的烘焙腔室和为了搅拌收纳于所述烘焙腔室的所述对象物而旋转的旋转搅拌部，所述旋转搅拌部以沿垂直的方向形成的搅拌轴为中心旋转；以及热源部，对所述烘焙腔室部提供热，其中，所述热源部包括：第一热源部，向所述烘焙腔室提供热风，从而向所述烘焙腔室内部提供对流热；第二热源部，接触于所述烘焙腔室的表面，并以传导方式向所述烘焙腔室提供传导热；以及第三热源部，向所述烘焙腔室内部提供辐射热的烘焙装置的控制方法，包括如下步骤：第一热源预热操作，第一热源部向烘焙腔室的内部空间提供热风；第二热源预热操作，在所述第一热源预热操作步骤中，测量的第一预热温度为第一基准温度以上的情况下，第二热源部向所述烘焙腔室的所述内部空间提供传导热；以及第三热源预热操作，在所述第二热源预热操作步骤中，测量的第二预热温度为第二基准温度以上的情况下，第三热源部向所述烘焙腔室的所述内部空间提供辐射热。

并且，所述烘焙装置的控制方法还可以包括如下步骤中的至少一个：第一热源温度维持操作，在所述第一热源预热操作步骤中，在测量的第一预热温度为第一基准温度以上的情况下，所述第一热源部提供对流热而使所述第一预热温度维持在所述第一基准温度；第二热源温度维持操作，在所述第二热源预热操作步骤中，在测量的第二预热温度为第二基准温度以上的情况下，所述第二热源部提供传导热而使所述第二预热温度维持在所述第二基准温度；以及第三热源温度维持操作，在所述第三热源预热操作步骤中，在测量的第三预热温度为第三基准温度以上的情况下，所述第三热源部提供辐射热而使所述第三预热温度维持在所述第三基准温度。

在所述第三热源温度维持操作步骤中，在作为所述烘焙腔室外部的测量温度的第四预热温度上升至第四基准温度的情况下，可以结束预热操作。

并且，所述烘焙装置还可以包括：对流温度测量单元，布置于借由所述第一热源部而向所述烘焙腔室提供的热风的流动路径上，用于测量所述热风的对流温度；传导温度测量单元，传导温度测量探头布置于所述第二热源部和烘焙腔室的外周面之间并测量所述第二热源部的传导温度；以及辐射温度测量单元，用于测量所述烘焙腔室的内部空间的辐射温度，其中，所述热风的对流温度、所述传导温度、所述对象物的温度以及所述烘焙腔室的内部温度可以分别是所述第一预热温度、所述第二预热温度、所述第三预热温度。

所述第一预热温度、所述第二预热温度以及所述第三预热温度的测量位置可以彼此不同。

技术效果

根据所提出的实施例，可以提供一种减少烘焙预热操作时间而使生产性更加提升的烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法。

并且，可以更加有效地测量对象物的烘焙进行过程，从而使用户可以进行期望的烘焙。

附图说明

图1是示出根据本发明的实施例的烘焙装置的图。

图2是示出将图1的烘焙装置的内部构成投影的状态的图。

图3是示出图1的烘焙装置的烘焙腔室部的构成的图。

图4是示出从上侧观察图3的烘焙腔室部的状态的图。

图5是示出在图3的烘焙腔室部中去除第三热源部的状态的图。

图6是示出图3的烘焙腔室部的上部单元的图。

图7是示出图3的烘焙腔室部的截面的图。

图8是示出图1的烘焙装置的第一温度感测单元分解的状态的图。

图9是示出图8的第一温度感测单元的截面的图。

图10是示出图1的烘焙装置的控制方法的图。

最佳实施方式

参照与附图一起详细后述的实施例，可以明确本发明的优点和特征以及达成这些的方法。然而本发明可以呈现为互不相同的多种形态，并不限于以下公开的实施例，本实施例仅用于使本发明的公开完整，并为了向本发明所属技术领域中具有普通知识的人完整地告知发明范围而提供，本发明仅由权利要求的范围而被定义。

虽然第一、第二、等术语用于叙述多种构成要素，但这些构成要素显然不局限于这些术语。这些术语仅用于将一个构成要素与另一构成要素进行区分。因此，以下提及的第一构成要素在本发明的技术思想内，显然也可以是第二构成要素。

在整体的说明书中，相同的附图符号所指的是同一构成要素。

本发明的多种实施例的每个特征能够部分地或者整体地彼此进行结合或者组合，并且在技术上能够实现多种联动以及驱动，而且每个实施例针对彼此也能够独立地实施，也可以以相关关系而一同实现。

另外，由并未在本发明的说明书中具体提及的本发明的技术特征而能够所期待的潜在的效果应视为与本说明书所记载的相同，本实施例是为了使本领域具有平局知识的人更加完整地理解本发明而提供的，附图中所示的内容相比于实际发明的实现行政可能表现得夸张，并且省略或者简略地记载判断为可能不必要地使本发明的宗旨模糊的构成的详细说。

以下，参照附图详细说明本发明的实施例。

图1是示出根据本发明的实施例的烘焙装置的图，图2是示出将图1的烘焙装置的内部构成投影的状态的图。图3是示出图1的烘焙装置的烘焙腔室部的构成的图，图4是示出从上侧观察图3的烘焙腔室部的状态的图。并且，图5是示出在图3的烘焙腔室部中去除第三热源部的状态的图。图6是示出图3的烘焙腔室部的上部单元的图，图7是示出图3的烘焙腔室部的截面的图。在图2中示出了如下状态：在设置有形成烘焙装置1的外形的壳体190的状态下，使壳体190透射成半透明，以使烘焙装置1的内部构成朝外部投影。

参照图1至图7，根据本发明的实施例的烘焙装置1是作为加热如咖啡豆等的对象物而烘焙对象物的装置，包括：烘焙腔室部100，收纳对象物并烘焙；操作面板部200，显示针对对象物的烘焙状况等的信息，并且从用户接收操作信号；对象物存储部400，存储在烘焙腔室部100完成烘焙的对象物；以及热源部310、320、330，对烘焙腔室部100提供热，其中，烘焙腔室部100被以金属材质形成的壳体190包围。

更加详细地，烘焙腔室部100包括：烘焙腔室120，形成为圆筒形，在内部空间121搅拌所述对象物，并且沿上下方向延伸；旋转搅拌部180，包括为了搅拌收纳于烘焙腔室120的所述对象物而旋转的搅拌翼单元181；上部单元110，布置于烘焙腔室120的上侧，并且形成为圆形；下部单元130，布置于烘焙腔室120的下侧，并且形成为圆形；以及排出单元150，与烘焙腔室120的内部空间121连通，并且选择性地开放，以使在烘焙腔室120的内部空间121完成烘焙的对象物排出至外部。

烘焙腔室120可以形成为沿垂直的方向延伸形成的圆筒形状，并且在烘焙腔室120的内表面可以形成有用于使所述对象物的搅拌更加顺畅地进行的固定翼122。固定翼122在烘焙腔室120的内表面突出形成，固定翼122的形状以其突出高度从烘焙腔室120的下部到上部侧逐渐变大的方式形成。

排出单元150可以包括：门部(未图示)，借由控制部(未图示)的操作信号而开放或者封闭；以及杆部(未图示)，与所述控制部的控制信号无关地，用于在紧急的状况下使用户强制开放所述门部。排出单元150朝对象物存储部400侧倾斜地延伸形成，从而在排出单元150的所述门部开放的情况下，可以使烘焙的所述对象物供应至对象物存储部400侧。

并且，旋转搅拌部180的搅拌翼单元181以沿垂直的方向形成的搅拌轴为中心旋转。因此，根据本实施例的烘焙腔室部100在沿垂直的方向延伸形成的状态下，旋转搅拌部180的搅拌翼单元181以沿垂直的方向形成的搅拌轴为中心旋转而将对象物，从而具有可以更加有效地进行对象物的烘焙，并且可以更加有效地布置烘焙装置的优点。

另外，热源部310、320、330包括：第一热源部310，向烘焙腔室120提供热风(Hotair flow)，从而向烘焙腔室120内部提供对流热；第三热源部320，与烘焙腔室120的表面接触，并以传导方式向烘焙腔室120提供传导热；以及第三热源部320，向烘焙腔室120内部提供辐射热。

第一热源部310包括：流动管311，流动有空气；以及加热单元312，布置于流动管311的一侧，使流动的空气被加热。流动管311与用于提供空气的吹风单元313连接而提供空气，并且加热单元312以及流动管311的一侧与上部单元110连接。示例性地，在加热单元312中，多个加热元件布置为网格(Mesh)或者线圈(Coil)形态，并且空气通过所述加热元件而被加热。

第二热源部330可以包括以与烘焙腔室120的外周面接触的状态包围所述外周面的第二热源部主体，所述第二热源部主体可以是利用陶瓷材质形成的带式加热器(BandHeater)。

另外，在烘焙腔室120形成有与外部连通的至少一个烘焙腔室侧贯通孔，并且在所述第二热源部主体形成有在与所述烘焙腔室侧贯通孔对应的位置形成的第二热源部主体侧贯通孔。

示例性地，烘焙装置1还包括：样品采取单元161，在烘焙过程中能够采取样品；以及窗口单元162，能够通过视觉来确认烘焙腔室120内的烘焙过程，其中，样品采取单元161以及窗口单元162设置于所述烘焙腔室侧贯通孔以及所述第二热源部主体侧贯通孔。另外，在烘焙腔室120的上侧形成有与烘焙腔室120的内部空间连通的空气排出口163，并且在空气排出口163侧并不会布置有第二热源部330。即，第二热源部330仅设置到烘焙腔室120的外周面的预定高度为止，并且可以将设置有第二热源部330的高度为止规定为收纳于烘焙腔室120的内部空间121的对象物的收纳极限线。

在烘焙过程中，从对象物产生的粉尘(外皮等)通过空气排出口163传递至集尘单元600，集尘单元600使空气排出至外部，并且使所述粉尘存储于内部的粉尘储存处(未图示)。

第三热源部320可以包括散发辐射热的灯具单元321，并且可以设置于上部单元110，而向烘焙腔室120的内部空间121提供辐射热。示例性地，灯具单元321可以是卤素灯。

另外，上部单元110包括形成为圆形的上部单元主体111，并且在上部单元主体111形成有：第一热源布置孔113，固定有第一热源部310的加热单元312，以使加热的空气流动至烘焙腔室120的内部空间121；第三热源布置孔114，固定有第三热源部320的灯具单元321，以使由灯具单元321发散的所述辐射热传递至所述烘焙腔室120的内部空间121；以及对象物供应孔112，与烘焙装置1的料斗单元170连接，以使对象物投入至烘焙腔室120的内部空间121。并且，在上部单元110的下侧形成有趋向下方直径增加的扩散部118，所述扩散部118用于引导从第一热源部310供应的热风。扩散部118可以从上部单元的下面延伸至布置于烘焙腔室120的下侧的旋转搅拌部180侧而形成，并且在旋转搅拌部180的搅拌翼单元181可以形成有用于避免与扩散部118的干涉的凹陷槽(未图示)。

此时，第三热源部320的灯具单元331以及第三热源布置孔114配备为一对，并且在一对第三热源布置孔114之间布置有第一热源布置孔113。并且，布置于上部单元主体111的中央的第一热源布置孔113形成为圆形，第三热源布置孔114形成为矩形形状。另外，在根据本实施例的上部单元主体111形成有包围第三热源布置孔114并朝下方延伸形成的第三热源引导部119，第三热源引导部119的截面形成为与第三热源布置孔114对应的矩形形状。借由第三热源引导部119，可以防止在烘焙腔室120的烘焙过程中从所述对象物产生的粉尘对第三热源310的灯具单元321的表面造成污染。

另外，根据本实施例的烘焙装置1还包括：测量单元510、520、530，用于测量提供至烘焙腔室120的热源部310、320、330的热源供应温度。

辐射温度测量单元510测量收纳于烘焙腔室120的内部空间121的对象物的辐射温度，并且布置于在烘焙腔室120的上侧布置的上部单元110，并朝向烘焙腔室120的内部空间120侧。此时，在上部单元主体111形成有沿上下方向贯通的测量孔115。测量孔115位于从上部单元主体111的中心偏心的位置。根据本实施例的辐射温度测量单元510在烘焙过程中感测从对象物的表面发散的红外线来感测对象物的温度变化。因此，相比于仅感测烘焙腔室120内部的温度变化的现有的烘焙装置，根据本发明的实施例的烘焙装置1具有如下优点：可以准确地感测对象物的温度，并可以准确地执行用户所意图的烘焙。在将所述对象物投入至烘焙腔室120的内部之前，在执行对腔室120进行预热的预测操作的过程中，辐射温度测量单元510可以感测形成烘焙腔室120的底面的下部单元130的表面温度。

另外，对于根据本实施例的辐射温度测量单元510的设置位置，进行了如下的多种实验，在本实施例中，设置在作为辐射温度测量单元510的最佳设置位置的，从上部单元110侧朝向下方的方向(即，从上部单元110侧朝向烘焙腔室120的内部空间121的方向)。

【表1】

设置位置	过滤器划伤	过滤器热损伤	测量准确度
				烘焙腔室上部	X	X	高
烘焙腔室中央部	O	X	高
				烘焙腔室下部	O	O	低

以下，更加详细地说明根据本实施例的辐射温度测量单元510。

图8是示出图1的烘焙装置的第一温度感测单元分解的状态的图，图9是示出图8的第一温度感测单元的截面的图。

参照图8以及图9，辐射温度测量单元510包括：感测部511，用于测量温度；过滤部514，布置于感测部511的前方，并且使预设的波段的光通过；第一支架513，固定于烘焙部100的上部单元主体111，并且在内部形成有第一贯通孔519；第二支架521，一侧接触于第一支架513而固定，使感测部511插入，并且形成有与第一贯通孔519对齐的第二贯通孔526；以及基板512，安装有感测部511，并固定于第二支架521的另一侧。

此时，感测部511、第一贯通孔519、第二贯通孔526以及过滤部514与上部单元110的测量孔115对齐，并且在第一支架513与第二支架521之间设置有过滤部514。

感测部511感测从对象物辐射的红外线，并且形成为圆筒形状，而且沿与测量孔115的贯通方向相同的方向延伸形成。示例性地，感测部511可以是红外线(IR：InfraredRadiation)传感器。

示例性地，过滤部514可以利用诸如玻璃、硅胶等的透明且对热的变形较少的材质形成，并且在从烘焙腔室120朝感测部511侧传递的光中，仅使红外线波段的光通过。

另外，第一支架513包括：第一支架主体515，形成第一支架513的外形，并且在中央布置有第一贯通孔519；以及一对突出部518，从第一支架主体515的一侧朝上方突出形成，其中，在突出部518之间形成有凹陷空间517，在第一支架主体515的下侧突出形成有使紧固于上部单元主体111的第一紧固部件630贯通的一对第一支架固定部516。

第二支架521包括：第二支架主体522，形成第二支架521的外形；插入部523，形成于第二支架主体522的一侧，并插入于第一支架513的凹陷空间；基板安置面524，布置于第二支架521的上面，并安置有基板512；以及一对基板固定凸起525，在基板安置面524的边缘朝上方突出形成，并使基板512的一侧以及另一侧卡接。

过滤部514在与布置于凹陷空间517的第一贯通孔519对齐的状态下，紧贴于第一支架513的凹陷空间517与第二支架521的插入部523之间，并且，在第二支架521的插入部523插入于第一支架513的凹陷空间517的状态下，第一支架513以及第二支架521可以借由将第一支架513的突出部518和第二支架521的插入部523一体地贯通的第二紧固部件620而彼此固定。即，在过滤部514将第一贯通孔519密封的状态下，第一支架513和第二支架521将过滤部514置于中间而彼此牢固地固定，从而通过与烘焙腔室120的测量孔115连通的第一贯通孔519可以防止烘焙腔室120的内部空间121的异物质朝辐射温度测量单元510侧以及外侧侵入。另外，在过滤部514与第一支架513之间以及过滤部514与第二支架521之间中的至少一个可以布置有橡胶或者硅材质弹性部件(未图示)，以牢固得密封两者之间的空间，并且可以抑制过滤部514受损。

另外，在感测部511插入于第二支架521的第二贯通孔526且基板512安置于安置面524的状态下，第三紧固部件610贯通基板512而固定于第二支架521的紧固孔527，从而可以使基板512与第二支架521的固定牢固地实现。

基板512可以是形成为板状的PCB，在基板512中配备有能够测量设置有基板512的位置的温度(即，相邻于烘焙腔室120的烘焙腔室120的外部温度)的烘焙腔室外部温度测量元件(未图示)。即，根据本实施例的辐射温度测量单元510可以测量烘焙腔室120的内部空间121的辐射温度以及烘焙腔室120的外部空间的温度。

并且，在上部单元110的下面形成有包围测量孔115并朝下方突出形成的圆筒形状的引导部116，并且引导部116与测量孔115对齐。即，随着包围测量孔115的引导部116朝烘焙腔室120的内部空间121侧突出形成，从而可以抑制在烘焙过程中在烘焙腔室120的内部空间121产生的粉尘等朝测量孔115侧流入而污染过滤部514的表面。感测部511可以通过被引导部116包围的测量孔115而对烘焙腔室120的内部空间121照射用于测量的光，或者可以接收从所述对象物发散的光。

重新参照图3至图7，根据本实施例的烘焙装置1的测量单元510、530、540、550还包括：对流温度测量单元530，布置于借由第一热源部310而向烘焙腔室120供应的热风的流动路径上，以用于测量所述热风的对流温度；传导温度测量单元540，传导温度测量探头541布置于第二热源部330与烘焙腔室120的外周面之间，以测量第二热源部330的传导温度；以及接触温度测量单元550，设置于烘焙腔室120的下部侧，并在烘焙过程中与所述对象物直接接触，以测量所述对象物的温度。

此时，对流温度测量单元530的对流温度测量探头531可以贯通烘焙腔室120的侧面以及扩散部118，并且对流温度测量探头531的尖端部分可以位于加热单元312的下流侧，从而可以测量通过加热单元312的所述热风的温度。

并且，传导温度测量单元530的传导温度测量探头541在布置于第二热源部330与烘焙腔室120之间的状态下与第二热源部主体331内面和烘焙腔室120的所述外周面同时接触。此时，传导温度测量单元540的传导温度测量探头541布置于与所述烘焙腔室侧贯通孔以及所述第二热源部主体侧贯通孔相隔最远的位置。即，由于所述烘焙腔室侧贯通孔以及所述第二热源部主体侧贯通孔与外部连通，并且在该位置并未布置有第二热源部330的加热元件，从而传导温度测量单元540的传导温度测量探头541布置于测量温度形成得相对较高的、与所述烘焙腔室侧贯通孔以及所述第二热源部主体侧贯通孔相隔最远的位置，从而以最高的温度为基准测量传导温度。

以下，说明根据本实施例的烘焙装置的控制方法，尤其详细说明针对预热操作的控制方法。

图10是示出图1的烘焙装置的控制方法的图。

参照图10，在将对象物投入根据本实施例的烘焙装置1而进行烘焙之前，执行使烘焙腔室120的内部空间121的温度上升至期望水平的预热温度的预热操作。根据本实施例的烘焙装置1将3种热源结合使用而执行所述预热操作，从而具有能够更加迅速地使内部空间121的温度上升至期望的预热温度的优点。并且，在结束所述预热操作之后，根据本实施例的烘焙装置1可以根据用户取向而控制3中热源彼此不同，从而可以实现用户期望的风味的烘焙。

首先，执行第一热源部向烘焙腔室的内部空间提供热风的第一热源预热操作步骤(S110)。

随后，在第一热源预测操作步骤(S110)中，在测量的第一预热温度T₁为第一基准温度T_ref1以上的情况(S120)下，执行第一热源部310提供对流热而使第一预热温度T₁维持在第一基准温度T_ref1的第一热源温度维持操作步骤(S130)。此时，根据本实施例的第一热源温度T₁可以是对流温度测量单元530所测量的热风的对流温度，在第一热源温度维持操作步骤(S130)中，向第一热源部310提供比在第一热源预热操作步骤(S110)低水平的的电力。

并且，在测量的第一热源温度T₁小于第一基准温度T_ref1的情况(S120)下，将反复执行第一热源预热操作步骤(S110)。

随后，执行第二热源部330向烘焙腔室120的内部空间121提供传导热的第二热源预热操作步骤(S130)。

在第二热源预热操作步骤(S130)中，在测量的第二预热温度T₂为第二基准温度T_ref2以上的情况(S150)下，第二热源部330提供传导热而使第二预热温度T₂维持在第二基准温度T_ref2的第二热源温度维持操作步骤(S160)。此时，根据本实施例的第二预热温度T₂可以是传导温度测量单元540测量的第二热源部330的传导温度，在第二热源温度维持操作步骤(S160)中，向第二热源部330提供比第二热源预热操作步骤(S140)低水平的的电力。

并且，在测量的第二预热温度T₂小于第二基准温度T_ref2的情况(S150)下，将反复执行第二热源预热操作步骤(S140)。

随后，执行第三热源部320向烘焙腔室120的内部空间121提供辐射热的第三热源预热操作步骤(S170)。

在第三热源预热操作步骤(S170)中，在测量的第三预热温度T₃为第三基准温度T_ref3以上的情况(S190)下，第三热源部320提供辐射热而使第三预热温度T₃维持在第三基准温度T_ref3的第三热源温度维持操作步骤(S190)。此时，根据本实施例的第二预热温度T₃可以是辐射温度测量单元510测量的烘焙腔室120的内部空间121的辐射温度，在第三热源温度维持操作步骤(S190)中，向第二热源部330提供比第三热源预热操作步骤(S170)低的水平的电力。

并且，在测量的第三预热温度T₃小于第三基准温度T_ref3的情况(S180)下，将反复执行第三热源预热操作步骤(S170)。

随后，作为烘焙腔室120的外部的测量温度的第四预热温度T₄上升至第四基准温度T_ref4的情况(S200)下，结束预热操作。

并且，在测量的第四预热温度T₄小于第四基准温度T_ref4的情况(S200)下，将反复执行第三热源温度维持操作(S190)。此时，第一热源温度维持操作步骤(S130)以及第二热源温度维持操作步骤(S160)也在继续地执行着。

即，根据本实施例的第一预热温度T₁、第二预热温度T₂、第三预热温度T₃以及第四预热温度T₄的测量位置形成为彼此不同，第一预热温度T₁、第二预热温度T₂以及第三预热温度T₃是从第一热源部310、第二热源部330以及第三热源部320传递的热的对流温度、传导温度以及辐射温度，第四预热温度T₄是作为相邻于烘焙腔室120的外部空间的温度，是能够推测烘焙腔室120的内部空间121的温度的温度。

根据提出的实施例，可以提供减少烘焙预热操作时间而进一步提升生产性的烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法。

并且，更加有效地测量对象物的烘焙进行过程，从而用户可以进行期望的烘焙。

以上针对本发明的优选的实施例进行了说明，然而本发明并不局限于此，在权利要求范围和发明的详细说明以及附图的范围内能够变形为多种形态而实施例，这也当然属于本发明的范围。

具体实施方式

具体实施方式在上述的最佳实施方式中已一同说明。

工业上的可利用性

根据本发明的实施例涉及一种烘焙装置以及该烘焙装置的控制方法，在烘焙咖啡或者谷物等的对象物的烘焙装置等具有反复可能性以及产业上利用可能性。