阅读说明：本技术 一种有机硅改性丙烯酸酯类光刻胶及其制备方法 (Organic silicon modified acrylate photoresist and preparation method thereof ) 是由 刘兴江 魏柳荷 吴林志 张文英 于 2019-01-05 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种有机硅改性丙烯酸酯类光刻胶及其制备方法,属于胶黏剂技术领域。以质量百分数计算,由以下组份组成：成膜树脂14.2～23.7份,交联剂4.2～7.5份,光引发剂0.8～1.4份,助剂0.06～0.13份,溶剂67.3～80.7份。本发明的光刻胶,利用有机硅对成膜树脂进行改性,增强了其与基材的粘接性,同时也降低了光刻胶的脆性,制备的光刻胶附着力好、分辨率高,在液晶显示屏的制备过程中有着很好的应用前景。(The invention relates to an organic silicon modified acrylate photoresist and a preparation method thereof, belonging to the technical field of adhesives. The coating consists of the following components in percentage by mass: 14.2-23.7 parts of film-forming resin, 4.2-7.5 parts of cross-linking agent, 0.8-1.4 parts of photoinitiator, 0.06-0.13 part of auxiliary agent and 67.3-80.7 parts of solvent. According to the photoresist disclosed by the invention, the film-forming resin is modified by using the organic silicon, so that the adhesion between the film-forming resin and a base material is enhanced, meanwhile, the brittleness of the photoresist is also reduced, and the prepared photoresist is good in adhesive force, high in resolution and good in application prospect in the preparation process of a liquid crystal display screen.)

技术领域

本发明涉及一种有机硅改性丙烯酸酯类光刻胶及其制备方法，属于胶黏剂技术领域。

背景技术

光刻胶，又称光致抗蚀剂，是电子行业微细加工技术的关键材料，主要应用于电子工业集成电路、半导体分立器和平板显示器的制作。光刻胶，简言之，就是在光源的激发下，发生化学反应，致使分子结构发生变化，使得其在特定溶液中的溶解度发生变化。在光源激发下，光刻胶在特定溶液中的溶解度增大，称之为正性光刻胶，反之，称之为负性光刻胶。目前，国内生产的光刻胶主要满足中低端市场的需求，高档次的光刻胶主要依赖进口，而高端光刻胶的生产技术主要被韩国、日本所垄断。甲基丙烯酸类光刻胶，是一类传统的光刻胶，它存在着分辨率不高、脆性大、与基材粘附力差等缺点。本发明主要利用有机硅对其改性，解决了传统丙烯酸酯类光刻胶的缺点。