阅读说明：本技术 一种屏蔽装置 (Shielding device ) 是由 李大梁 杨华 于 2019-02-03 设计创作，主要内容包括：本发明是关于一种屏蔽装置。所述屏蔽装置包括具有容纳腔的壳体以及填充在所述容纳腔内的屏蔽材料；所述壳体上设置有至少一个开口,所述壳体上的所述开口具有预设深度,所述屏蔽材料填充还填充在所述开口处。本发明实施例可以增加壳体壁的防辐射性能,进而可以提高在两个屏蔽装置连接处的防辐射性能,安全性较高。(The invention relates to a shielding device. The shielding device comprises a shell with a containing cavity and shielding materials filled in the containing cavity; the shell is provided with at least one opening, the opening in the shell has a preset depth, and the opening is filled with the shielding material. The embodiment of the invention can increase the radiation-proof performance of the shell wall, further improve the radiation-proof performance at the joint of the two shielding devices and has higher safety.)

一种屏蔽装置

技术领域

本发明涉及放射源安装技术领域，尤其是一种屏蔽装置。

背景技术

伽玛刀(Gamma Knife)是立体定向放射外科(Stereotactic Radiosurgery)的主要治疗手段，是根据立体几何定向原理，将颅内的正常组织或病变组织选择性地确定为靶点，使用放射源例如钴-60产生的伽玛射线进行一次性大剂量地聚焦照射，使之产生局灶性的坏死或功能改变而达到治疗疾病的目的。

由于放射源具有放射线，对人体危害大，因此放射源在拆装、运输等过程中需要完全屏蔽。目前使用不同的屏蔽装置，例如储源罐、导源罐和取铅塞工装等，通过这些屏蔽装置的组装实现放射源的提取和拆装。而屏蔽装置一般包括中空壳体且内部灌铅以提高防辐射性能，但是防辐射性能依然需要提高，尤其是在两个屏蔽装置连接处，一般只有各自壳体壁相接触，壳体较薄容易达不到防辐射要求，造成潜在的安全隐患。

因此，有必要提供一种新的技术方案改善上述方案中存在的问题。

需要注意的是，本部分旨在为权利要求书中陈述的本发明的实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。

发明内容

本发明的目的在于提供一种屏蔽装置，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致一个或多个问题。

本发明实施例提供一种屏蔽装置，包括具有容纳腔的壳体以及填充在所述容纳腔内的屏蔽材料；所述壳体上设置有至少一个开口，所述壳体上的所述开口具有预设深度，所述屏蔽材料填充还填充在所述开口处。

本发明的实施例中，所述屏蔽材料填充在所述开口的深度不小于所述开口预设深度的二分之一。

本发明的实施例中，所述预设深度不小于2cm。

本发明的实施例中，所述壳体上设置有多个开口。

本发明的实施例中，至少两个所述开口分布在所述壳体的不同表面。

本发明的实施例中，在所述壳体的上表面和下表面分别设置有至少一个开口；或者，在所述壳体的上表面和侧面分别设置有至少一个开口；或者，在所述壳体的下表面和侧面分别设置有至少一个开口。

本发明的实施例中，所述壳体的外表面和/或所述壳体的内表面向所述容纳腔内部凹陷。

本发明的实施例中，所述壳体上有至少一个开口，所述屏蔽装置还包括挡块，所述挡块从所述开口伸入所述壳体的容纳腔。

本发明的实施例中，所述壳体由铸铁制成，所述屏蔽材料为铅。

本发明的实施例中，所述壳体由多个壳体组件连接形成。

本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本发明的实施例中，通过在上述屏蔽装置的壳体上设置有至少一个具有预设深度的开口，所述屏蔽材料除了填充在壳体内的容纳腔，还填充在所述开口处，这样可以增加壳体壁的防辐射性能，进而可以提高在两个屏蔽装置连接处的防辐射性能，安全性较高。

附图说明

图1为本实施例中屏蔽装置示意图；

图2为一具体实施例中取铅塞组件示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本发明将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。

此外，附图仅为本发明的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。

本实施例中提供一种屏蔽装置，参考图1中所示，屏蔽装置包括具有容纳腔110的壳体10以及填充在容纳腔110内的屏蔽材料20。壳体10上设置有至少一个开口111，图1中仅示意性示出两个开口111，不用于限定本实施例。壳体10上的开口111具有预设深度，屏蔽材料20还填充在开口111处。

本实施例中，通过在上述屏蔽装置的壳体上设置有至少一个具有预设深度的开口111，屏蔽材料20除了填充在壳体10内的容纳腔110，还填充在开口111处，这样可以增加壳体10壁的防辐射性能，进而可以提高在两个屏蔽装置连接处的防辐射性能，安全性较高。

示例性的，屏蔽材料20可以是铅，填充屏蔽材料铅时，将铅加热融化为液体，从开口111处灌入容纳腔110，待其冷却凝固后形成一个整体，由于开口具有预设深度，则铅在开口111处凝固，能够防止铅运动。

本实施例中对壳体10的形状不做具体限定，其可以是规则几何形状，或者是其他不规则形状等。这些可以根据屏蔽装置的具体需求而定。该屏蔽装置可以为屏蔽盖、导源屏蔽体或取铅塞子组件、铅塞子、取源屏蔽体或运源罐等，本实施例对此不作限制。

在本实施例中，为了进一步增加壳体10壁的防辐射性能，屏蔽材料20填充在开口111的深度不小于开口预设深度的二分之一，但并不限于此。

在一实施例中，预设深度可以设置为不小于2cm。示例性的，屏蔽材料20填充在开口111的深度不小于2.5cm。将开口的预设深度设置为不小于5cm，屏蔽效果会更好。

在一实施例中，壳体10上可以设置多个开口111(图未示)，屏蔽材料20填充在各个开口111处，这样可以进一步增加壳体壁的防辐射性能。

在一实施例中，为提高屏蔽装置的屏蔽效果，至少两个开口111分布在壳体10的不同表面，当然也并不限于此。示例性的，可以在壳体10的上表面和下表面分别设置有至少一个开口。或者，在壳体10的上表面和侧面分别设置有至少一个开口。又或者，在壳体10的下表面和侧面分别设置有至少一个开口，但并不限于此。

在本实施例中，壳体10的外表面和/或壳体10的内表面可以向容纳腔110内部凹陷，当然也并不限于此，这些可以根据屏蔽装置的应用场景、需求等自行设置。

在本实施例中，壳体10上有至少一个开口111如圆开口等，屏蔽装置还可以包括挡块(图未示)，挡块从开口111伸入壳体10的容纳腔110，但并不限于此。

在本实施例中，示例性的，壳体10可以由铸铁制成，屏蔽材料20可以采用铅。采用铸铁外壳，内部灌铅的设计屏蔽效果会更好。

在本实施例中，壳体10可以由多个壳体组件连接形成，当然也并不限于此。对壳体的形状不做限定，其可以是圆柱，也可以是其他不规则形状，根据屏蔽装置的具体需求而定，例如屏蔽装置为屏蔽盖或导源屏蔽体或铅塞子或取源屏蔽体或运源罐等。

下面以屏蔽装置为取铅塞组件或称取铅塞工装为例说明。参考图2中所示，该取铅塞组件包括具有容纳腔的壳体101以及填充在所述容纳腔内的屏蔽材料铅。壳体101上表面设有多个贯穿自身的屏蔽孔102，所述屏蔽孔102具有预设深度，所述容纳腔内以及各屏蔽孔102内填充屏蔽材料铅。可选的，为提高取铅塞组件的屏蔽效果，屏蔽材料填充在屏蔽孔102的深度不小于开口预设深度的二分之一，但并不限于此。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由所附的权利要求指出。