阅读说明：本技术 雾涂敷成膜装置的涂敷头及其维护方法 (Coating head of mist coating film forming apparatus and maintenance method thereof ) 是由 李天明 于 2017-05-31 设计创作，主要内容包括：在实施方式中,提供一种使成品率及生产能力提高的雾涂敷成膜装置的涂敷头及其维护方法。涂敷头具备主体。上述主体包括：顶板,设有能够供给原料溶液的雾的供给口；底板,设在上述顶板的铅直方向的下方；以及侧壁,设在上述顶板与上述底板之间,与上述顶板及上述底板一起形成内部空间。上述侧壁包括：狭缝,从上述内部空间将上述雾向外部喷雾；以及回收口,能够将在上述内部空间中凝结的雾回收。上述底板具有从上述侧壁的内周朝向上述回收口而高度变低的倾斜。(In an embodiment, an application head of a mist coating film forming apparatus and a maintenance method thereof are provided, which improve yield and productivity. The coating head includes a main body. The above-mentioned main part includes: a top plate provided with a supply port through which mist of the raw material solution can be supplied; a bottom plate provided below the top plate in a vertical direction; and a side wall provided between the top plate and the bottom plate, and forming an internal space together with the top plate and the bottom plate. The above-mentioned lateral wall includes: a slit for spraying the mist from the internal space to the outside; and a recovery port capable of recovering the mist condensed in the internal space. The bottom plate has an inclination that decreases in height from the inner periphery of the side wall toward the recovery port.)

雾涂敷成膜装置的涂敷头及其维护方法

技术领域

本发明的实施方式涉及雾涂敷成膜装置的涂敷头及其维护方法。

背景技术

雾涂敷成膜装置包括涂敷液雾化机构、雾涂敷机构和烧制/干燥机构。涂敷液雾化机构利用超声波振子使雾化容器内的含有规定的原料的涂敷液雾化，得到液滴状的涂敷液雾。雾涂敷机构具有载置作为成膜对象的基板的载置部。雾涂敷机构向该基板供给由涂敷液雾化机构生成的涂敷液雾，将涂敷液雾涂敷到该基板的表面上。烧制/干燥机构将涂敷在基板的表面上的涂敷液雾烧制并干燥，在基板的表面上成膜含有规定的原料的薄膜。

这样的雾涂敷成膜装置能够均匀地成膜具有1μm以下的膜厚的薄膜。

作为进行将涂敷液液滴化的涂敷装置，有喷涂装置(例如参照专利文献1)及旋涂装置等。旋涂装置通过使被供给到基板的表面中央部的涂敷液的液滴高速旋转从而在基板表面形成薄膜。喷涂装置用高压的空气将涂敷液向基板喷雾而在基板表面形成薄膜。

雾涂敷成膜装置与喷涂装置等不同，其在涂敷头内将雾整流并涂敷到基板的表面上，形成薄而均匀的薄膜。

雾涂敷成膜装置将雾在涂敷头内整流，因此原料溶液滞留在涂敷头内。将原料溶液照原样丢弃，实质上成品率下降，带来成本增大。

此外，在改变原料溶液而成膜不同的薄膜的情况下，需要将滞留的原料溶液除去。为此，必须将涂敷头解体并清洗，作业工数增大，薄膜的制造的生产能力下降。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-98699号公报

发明内容

发明要解决的课题

本实施方式的目的是提供一种使成品率及生产能力提高的雾涂敷成膜装置的涂敷头及其维护方法。

用于解决课题的手段

根据本发明的实施方式，提供一种具备主体的雾涂敷成膜装置的涂敷头。上述主体包括：顶板，设有能够供给原料溶液的雾或清洗液的某个的供给口；底板，设在上述顶板的铅直方向的下方；以及侧壁，设在上述顶板与上述底板之间，在上端及下端与上述顶板及上述底板分别连接，与上述顶板及上述底板一起形成内部空间。上述侧壁包括：狭缝，从上述内部空间将上述雾向外部喷雾；以及回收口，能够将在上述内部空间中凝结的雾或上述被供给的清洗液回收。上述底板具有从上述侧壁的内周朝向上述回收口而高度变低的倾斜(斜坡、斜度)。

发明的效果

根据实施方式的涂敷头，由于底板具有从侧壁的内周朝向回收口而高度变低的倾斜(斜坡、斜度)，所以能够容易地将滞留的原料溶液或清洗液回收。因而，实施方式的涂敷头，能够使成品率及生产能力提高。

附图说明

图1是例示有关实施方式的雾涂敷成膜装置的示意性的说明图。

图2是例示实施方式的涂敷头的立体图。

图3是图2的AA线的向视剖视图。

图4是例示实施方式的涂敷头的一部分的三视图。图4中(a)是俯视图，图4中(b)是正视图，图4中(c)是侧视图。

图5是例示实施方式的涂敷头的一部分的三视图。图5中(a)是俯视图，图5中(b)是正视图，图5中(c)是侧视图。

图6是例示实施方式的涂敷头的一部分的三视图。图6中(a)是俯视图，图6中(b)是正视图，图6中(c)是侧视图。

图7是例示实施方式的涂敷头的部分分解组装图。

图8是例示涂敷头的动作的次序的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的各实施方式进行说明。

另外，附图是示意性或概念性的，各部分的厚度与宽度的关系、部分间的大小的比率等并不一定与现实相同。此外，即使是表示相同部分的情况，也有根据附图而相互的尺寸或比率不同地表示的情况。

另外，在本申请的说明书和各图中，将与已出现的图中所述的要素同样的要素赋予相同的标号，详细的说明适当省略。

图1是例示有关本实施方式的雾涂敷成膜装置的示意性的说明图。如图1所示，本实施方式的雾涂敷成膜装置100具有原料溶液雾化机构50、雾涂敷机构70和烧制/干燥机构90作为主要构成要素。

原料溶液雾化机构50执行原料溶液雾产生处理。原料溶液雾化处理进行雾化(喷雾化)而产生原料溶液雾6。通过使用产生超声波的超声波振子1，能够使投入到雾化容器4中的原料溶液5雾化成中心粒径为约4μm、粒径分布(标准偏差σ为±20％以下的)较窄的液滴。原料溶液雾6被从载体气体供给部16供给的载体气体经由雾供给线路22向雾涂敷机构70输送。

在原料溶液雾化机构50中，超声波振子1以例如在1.5

2.5MHz范围内设定的频率进行振荡。在设置在超声波振子1上的水槽2中，被导入了水3作为超声波传播的介质。通过将超声波振子1以设定的振荡频率驱动，使投入到雾化容器4中的原料溶液5雾化(喷雾化)。

另外，作为原料溶液5而假设为低粘度的原料溶液。低粘度的原料溶液被用丙酮、甲基－乙基甲酮、二氯甲烷、甲醇、甲苯、水、己烷、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸乙烯或氯乙烷等的溶媒稀释。

可以考虑原料溶液5是纳米粒子分散溶液的情况。在此情况下，例如可以考虑银纳米粒子分散溶液、氧化锆分散溶液、氧化铈分散溶液、氧化铟分散溶液、氧化锡分散溶液、氧化锌分散溶液、氧化钛分散溶液、硅石分散溶液或氧化铝分散溶液，将这些溶液用上述溶媒稀释而得到原料溶液5。

另一方面，可以考虑原料溶液5是纳米纤维分散溶液的情况。在此情况下，例如可以考虑碳纳米管分散溶液、银纳米纤维分散溶液或纤维素纳米纤维分散溶液，将这些溶液用上述溶媒稀释而得到原料溶液5。

从载体气体供给部16供给的载体气体被从载体气体导入线路21向雾化容器4内供给。由此，在雾化容器4的内部空间中被雾化的液滴状的原料溶液雾6经由雾供给线路22被朝向雾涂敷机构70的涂敷头8运送。

在载体气体中，主要使用氮气或空气，将原料溶液雾6输送。载体气体流量被雾控制部35控制为2

10(L/min)。阀21b是用来调整载体气体流量的阀。阀21b设在载体气体导入线路21中。

雾控制部35对阀21b的开闭程度进行控制，控制从载体气体供给部16供给的载体气体流量。雾控制部35控制载体气体流量，并且对超声波振子1的超声波振荡电路的开闭及用于不同频率的超声波振子的超声波振荡电路的开闭等进行控制。

雾涂敷机构70执行原料溶液雾涂敷处理(mist coating processing)。原料溶液雾涂敷处理将经由雾供给线路22被供给的原料溶液雾6涂敷(coat)到基板9(成膜对象的基板)的表面上，形成原料溶液液膜。在原料溶液雾涂敷处理中，从涂敷头8向载置在移动台10(载置部)上的基板9(成膜对象的基板)的表面上供给原料溶液雾6。

烧制/干燥机构90执行烧制/干燥处理。烧制/干燥处理是在基板9的表面上形成以原料溶液液膜中含有的原料为构成材料的薄膜的处理。在烧制/干燥处理中，在热板13上，将表面上形成有原料溶液液膜的基板9烧制/干燥，使原料溶液液膜的溶媒蒸发。

烧制/干燥机构90具有设置在烧制/干燥腔室14内的热板13作为主要结构。通过使用了雾涂敷机构70的原料溶液雾6的涂敷，将在表面上形成有原料溶液液膜的基板9在烧制/干燥腔室14内载置到热板13上。

使用热板13对在表面上形成了原料溶液液膜的基板9进行烧制/干燥处理。通过烧制/干燥处理，使通过涂敷的原料溶液雾6形成的原料溶液液膜的溶媒蒸发，能够在基板9的表面上形成以原料溶液5中含有的原料(规定的原料)本身为构成材料的薄膜。另外，通过烧制/干燥处理而生成的原料溶液5的溶媒蒸气从排气输出线路24在被未图示的排气处理装置处理后被向大气释放。排气输出线路24由阀24b进行开闭。

另外，在图1所示的例子中，使用热板13执行烧制/干燥处理，但也可以不使用热板13，而以向烧制/干燥腔室14内供给热风的形态构成烧制/干燥机构90。

对涂敷头8的结构进行详细说明。

图2是例示本实施方式的涂敷头的立体图。图3是例示图2的AA线的向视剖视图。图4中(a)

图6中(c)是例示本实施方式的涂敷头的一部分的三视图。图7是例示本实施方式的涂敷头的部分分解组装图。

如图2所示，涂敷头8具备主体80、狭缝块83和狭缝板84。狭缝块83连接在主体80的侧面下方。狭缝板84在一端的部分沿着狭缝块83的倾斜连接，其余的部分形成涂敷头8的底面8b。

在涂敷头8的底面8b设有狭缝状的雾喷出口18。从雾喷出口18喷出原料溶液的雾。另一方面，在主体80上设有主体狭缝85a。在狭缝块83的设有倾斜的面上设有槽，在槽的一端连接着主体狭缝85a。槽的另一端是雾喷出口18。槽的上部被狭缝板84的一部分覆盖。狭缝块83的槽和被狭缝板84覆盖的部分形成从主体狭缝85a供给的雾的引导路83a。

从主体狭缝85a供给的雾经由引导路83a被从雾喷出口18喷出。引导路83a具有适合于狭缝块83的倾斜的角度。因此，从引导路83a供给的雾被以距铅直方向为角度θ1被从雾喷出口18喷出。

基板9以其表面与涂敷头8的底面8b对置的方式被放置。即，基板9被放置在涂敷头8的底面8b之下。雾喷出口18设在头的底面8b。雾喷出口18设置为以基板9的短边的方向为较长方向的狭缝状。雾喷出口18的形成长度被设定为与基板9的短边宽度相同程度。

在以下的说明中，有使用三维坐标的情况。即，三维坐标包括与雾喷出口18的狭缝延伸的方向平行的X轴、与移动台10移动的方向平行的Y轴、以及作为铅直方向的Z轴。

例如，一边由移动台10使基板9沿着Y轴方向(与雾喷出口18的延伸方向及铅直方向都正交的方向)移动，一边将在涂敷头8内整流后的原料溶液雾6从雾喷出口18供给。由此，能够在基板9的表面上的大致整面涂敷原料溶液雾6，在基板9的表面上形成原料溶液的液膜。雾喷出口18被形成为狭缝状。因此，通过调整涂敷头8的较长方向(X轴方向、第1方向)的形成长度，不受作为薄膜形成用基板的基板9的短边宽度限制，而对于短边宽度较宽的基板9也能够适应。具体而言，通过使涂敷头8拥有与设想的基板9的最大短边宽度匹配的较长方向的幅度(长度)，能够使雾喷出口18的形成长度大致匹配于基板9的最大短边宽度。

移动台10在其上部载置着基板9。移动台10在从涂敷头8的底面8b离开了2

5mm左右的状态下，在移动控制部37的控制下进行移动。例如，移动台10朝向Y轴的正方向的反方向(负方向)移动。由此，能够在基板9的表面的大致整面上涂敷原料溶液雾6，能够在基板9的表面上形成原料溶液液膜。

此时，通过用移动控制部(图1)37变更移动台10的移动速度，能够调整原料溶液液膜的厚度。

即，移动控制部37使移动台10沿着与涂敷头8的雾喷出口18的较短方向匹配的移动方向(图2的Y轴的负方向)移动，对沿着移动方向的移动台10的移动速度进行可变控制。

此外，如在图1中已经表示的那样，涂敷头8及移动台10设在雾涂敷腔室11内。在雾涂敷腔室11内挥发的原料溶液雾6的溶媒蒸气与载体气体的混合气体经由排气输出线路23在被未图示的排气处理装置处理后被向大气释放。另外，阀23b是设在排气输出线路23中的阀。

主体80例如如该例中那样为大致长方体形状。如图3所示，主体80包括顶板87、底板82和侧壁88。顶板87设在主体80的上部。顶板87是方形的板。底板82设在主体80的底部。底板82是在XY平面视中与顶板87大致同形状的方形的部件。侧壁88是XY剖视与顶板87及底板82大致相同的方形的框状体。侧壁88设在顶板87与底板82之间。侧壁88在上端与顶板87连接，在下端与底板82连接。

主体80具有被顶板87、侧壁88及底板82包围的空洞。该主体80的内部的空洞是整流室80a。

在顶板87设有开口。在该开口流体地连接着用于雾供给线路22及清洗液/置换气体供给线路25的配管。经由该开口供给雾、清洗液及置换气体。该开口是供给口87a。

侧壁88包括前板86和背板85。前板86及背板85平行于XZ平面，相互对置而配置。前板86及背板85是构成侧壁88的板状体。

在前板86的下方设有开口。在该开口流体地连接着用于原料溶液回收线路26的配管。该开口是回收口86a。回收口86a处于底板82的上表面的位置或处于比上表面高的位置。

在背板85设有主体狭缝85a。主体狭缝85a具有与X轴大致平行的较长方向。主体狭缝85a设在比底板82的上表面高的位置。

底板82如后述那样，具有从主体狭缝85a朝向狭缝回收口而高度下降的倾斜部，所以涂敷头8能够与原料溶液滞留于底板82大致无关地喷出雾。因而，不需要频繁地从涂敷头8将原料溶液回收或清洗，所以能够使薄膜的制造生产能力提高。此外，滞留的原料溶液由于能够再利用，所以能够将充分的量的原料溶液回收到底板82，能够贡献于成品率的提高。

作为主体80的内部空间的整流室80a被1个以上的整流板(引流板)分隔。在该例中，整流板(引流板)81-181-4设有4个。整流板81-1

81-4从下方朝向上方依次设置。各整流板81-1

81-4是方形的板，三边与主体80的内壁连接。其余的边作为端部81-1a

81-4a分别被敞开。即，整流室80a被整流板81-181-4部分地分隔，整流室80a内的空间在流体上连续。

各整流板81-1

81-4以各端部81-1a

81-4a比其他部分靠铅直方向下方的方式设置。最下方的整流板81-1被设置为，其端部81-1a朝向设有主体狭缝85a的方向的相反方向。优选的是，端部81-1a延伸的方向是与主体狭缝85a平行的方向。

整流板81-2在整流板81-1的上方相邻而设置。在其端部81-2a的铅直下方配置整流板81-1的板面。整流板81-2被设置为，其端部81-2a朝向设置主体狭缝85a的方向。

整流板81-3在整流板81-2的上方相邻而设置。在其端部81-3a的铅直下方配置整流板81-2的板面。整流板81-3被设置为，其端部81-3a朝向设置主体狭缝85a的方向的相反方向。

整流板81-4在整流板81-3的上方相邻而设置。在其端部81-4a的铅直下方配置整流板81-3的板面。整流板81-4被设置为，其端部81-4a朝向设置主体狭缝85a的方向。

整流板的端部与相邻于该整流板而配置在下方的整流板的铅直方向的距离被设定为1mm左右至几mm左右。例如，该距离根据雾化的原料溶液适当地设定。

这样，各整流板81-1

81-4以从铅直方向倾斜角度θ2的方式倾斜地设置。角度θ2以在导入了清洗液或置换气体的情况下、使得与清洗液等一起向底板82流落的方式来适当地设定。角度θ2例如被设定为60°左右。

从供给口87a供给的雾被整流板81-4的板面拦住去路而向整流板81-4展开的二维方向分散，一边被向端部81-4a延伸的方向分散，一边被向下个整流板81-3供给。分散的雾被整流板81-3的板面拦住去路而进一步分散。雾同样被下方的整流板81-2、81-1分散，在整流室80a的最下方广泛地分散到空间中。

供给口87a的Y轴方向的位置既可以例如如该例那样设置为整流板的端部附近，也可以根据雾的分散的程度而配置得比相比于端部更向前板86或背板85偏置。

分散的雾被从主体狭缝85a经由引导路83a从雾喷出口18喷出。

在涂敷头8的清洗时，从供给口87a供给清洗液或置换气体。各整流板81-1

81-4的端部81-1a

81-4a由于被设置得比各整流板81-1

81-4的其他部分靠下方，所以能够使从供给口87a供给的清洗液或置换气体不滞留在整流板上而通过重力向下方流动。

在上述中，对设有4个整流板的情况进行了说明，但整流板并不限于4个，也可以是1个

3个的某个，也可以设置5个以上。在任一情况下，为了充分地提高雾的整流效果、使喷出的雾充分地分散，将距主体狭缝85a最近(位于最下方的)的整流板设置为，使其端部朝向设置主体狭缝85a的方向的相反方向。

如图4所示，底板82包括连接部82a和倾斜部82b、82c。连接部82a以将方形的底板82的三边包围的方式形成。连接部82a在倾斜部82b、82c的端部将方形的板包围。连接部82a通过上部(Z轴的正方向)的平坦面而与侧壁88的下端连接。在没有将方形的板包围的一边，连接着将原料溶液回收线路26连接的回收口86a。

倾斜部82b具有从与回收口86a对置的位置朝向回收口86a而高度变低的倾斜。倾斜部82c具有从与设有回收口86a的面邻接的边的位置朝向回收口86a而高度变低的倾斜。

在整流室80a的最下部被分散的雾中的凝结物作为原料溶液积存在底板82。积存的原料溶液通过倾斜部82b、82c朝向回收口86a流落，所以经由回收口86a被回收。

此外，在清洗涂敷头8时，清洗了各整流板81-1

81-4后的清洗液落到底板82，通过倾斜部82b、82c向回收口86a的方向流动。积存的清洗液经由回收口86a被回收。

如图5所示，狭缝块83是沿X轴方向延伸的三角柱的部件。该三角柱的部件具有与XY平面平行的面83b、和平行于与其正交的XZ平面的面83c。狭缝块83具有与这2个面交叉的斜面83d。

狭缝块83的与XY平面平行的面83b与狭缝板84一起形成涂敷头8的底面8b的一部分。狭缝块83的与XZ平面平行的面83c被连接到背板85。

狭缝块83包括与斜面83d平行的槽部83e。槽部83e通过沿着X轴方向将狭缝块83的两端留下而形成。

如图6所示，狭缝板84包括底面部84a和斜面部84b。在底面部84a的一端设有斜面部84b。斜面部84b从底面部84a具有角度θ1而设置。角度θ1与狭缝块83的面83c与斜面83d的角度等同。斜面部84b的长度大致等于狭缝块83的斜面的长度。

如图7所示，狭缝块83被连接到主体80的背板85的下部。狭缝块83的底面与主体80的底板82的底面以成为同一平面内的方式连接。

狭缝板84相对于狭缝块83的斜面以用狭缝板84的斜面部84b覆盖的方式连接。狭缝板84的底面部84a与狭缝块83的底面及主体80的底板82的底面以成为同一平面内的方式连接。

由此，狭缝板84的底面部84a、狭缝块83的与XY平面平行的面83b及主体80的底板82的底面形成涂敷头8的底面8b。

槽部83e以与主体狭缝85a的位置一致的方式设置。因而，槽部83e通过被狭缝板84的斜面部84b覆盖而形成雾的引导路83a。这样，雾的引导路83a距主体80的背板85的面有角度θ1。在背板85的面与铅直方向平行的情况下，从主体狭缝85a喷出的雾以距铅直方向有角度θ1的方式被引导到雾喷出口18。因而，从雾喷出口18喷出的雾以距铅直方向有角度θ1的方式被向基板9的表面喷出。角度θ1例如被设定为45°左右。角度θ1并不限于此，根据成膜的薄膜的原料及膜厚等而被设定为适当的值。

这样，向基板9的表面喷出的雾具有角度，从而与被沿铅直方向喷出的情况相比，表面附近的紊流被抑制，能够更均匀地成膜。

涂敷头8的各构成要素由相对于使用的原料溶液及清洗液、置换气体不腐蚀等的材料来形成。例如，主体80、狭缝块83及狭缝板84由金属材料形成。这些部件能够通过钣金加工或铸造物加工等形成。并不限于金属材料，也可以使用合成树脂等，按照零件采用注射成型技术等。

对本实施方式的涂敷头8的动作及维护的方法进行说明。

图8是例示涂敷头的动作的次序的流程图。

(雾涂敷工序)

如图8所示，在涂敷雾的情况下，在步骤S1中，清洗液/置换气体供给线路25中所设置的阀25b及原料溶液回收线路26中所设置的阀26b的双方都被关闭。由清洗液/置换气体供给线路25中所设置的阀25b将清洗液及置换气体的导入切断。此外，由原料溶液回收线路26中所设置的阀26b切断滞留于底板82的原料溶液向主体80外的流出。

在步骤S2中，雾供给线路22中所设置的阀22b被开放。通过阀22b将由原料溶液雾化机构50生成的原料溶液的雾从供给口87a向涂敷头8内导入。

被导入到整流室80a内的雾被设置为1段或多段的整流板81-1

81-4整流、分散，到达整流室80a的下方。

雾从主体狭缝85a经由引导路83a从雾喷出口18喷出。

雾在整流室80a内被分散，但一部分的雾相互接近而凝结。此外，没有从主体狭缝85a喷出的雾也凝结。凝结的雾通过底板82的倾斜部82b、82c而作为原料溶液滞留在回收口86a附近。

在步骤S3中，继续上述的动作直到薄膜的成膜结束。成膜工序的结束根据膜厚或成膜对象基板是否达到规定长度等来判定。在结束了成膜的情况下，使处理向原料溶液回收工序转移。

(原料溶液回收工序)

滞留在底板82上的原料溶液通过原料溶液回收工序，经由回收口86a被回收。首先，在步骤S4中，雾供给线路22的阀22b被关闭。清洗液/置换气体供给线路25中所设置的阀25b是关闭的状态。通过阀22b而停止原料溶液的供给。

在步骤S5中，原料溶液回收线路26的阀26b被开放。通过阀26b，滞留于涂敷头8内的原料溶液经由原料溶液回收线路26被回收。回收后的原料溶液例如被投入到雾化容器4中而再利用。也可以将原料溶液回收线路26与雾化容器4之间流体地连接，使用泵等将原料溶液回收。

在步骤S6中，继续上述的动作直到原料溶液回收结束。在原料溶液的回收结束的情况下，将处理转移到涂敷头内的清洗工序。另外，关于原料溶液的回收是否结束，例如可以通过在回收口86a附近检测原料溶液的液面的液位计等来判定。或者，也可以通过在原料溶液回收线路26的配管中使用透明树脂制的管，以目视判定原料溶液的水平(高度、水平面)。

(涂敷头内的清洗工序)

在原料溶液的回收后有进行基于使用了其他原料溶液的雾的成膜的情况。在此情况下，需要通过清洗工序将先行使用的原料溶液清洗。

在步骤S7中，雾供给线路22的阀22b及原料溶液回收线路26的阀26b被关闭。通过阀22b切断原料溶液的供给。通过阀26b切断滞留于内部的物质的流出。然后，在步骤S8中，清洗液/置换气体供给线路25的阀25b被开放。通过阀25b，经由清洗液/置换气体供给线路25将清洗液导入。清洗液被从供给口87a导入。

被导入到整流室80a内的清洗液将包括整流板81-1

81-4的面在内整流室80a的内壁清洗。整流板81-1

81-4设在比端部81-1a81-4a的连接部分分别靠下方。因此，被导入的清洗液将整流板81-1

81-4的表面清洗而从各自的端部81-1a

81-4a向下方落下。落到下方的清洗液滞留在底板82上。

在步骤S9中，滞留的清洗液通过将原料溶液回收线路26的阀26b开放而进行回收。回收的清洗液被回收到与被回收的原料溶液不同的地方。

然后，在步骤S10中，经由清洗液/置换气体供给线路25将置换气体向整流室80a内导入。由置换气体将清洗液干燥，并能够将其他的原料溶液导入。

在步骤S11中，继续上述的动作直到清洗工序结束。通过清洗工序的结束，一系列的动作结束。清洗工序的结束例如根据是否达到了预先设定的时间等来判定。

关于上述的各步骤，各阀22b、25b、26b的开闭、清洗液及置换气体的选择性导入可以通过使用可编程逻辑控制器(PLC)等来进行顺序控制(程序控制)。

通过使用PLC，还能够在雾涂敷工序中、滞留于底板82的原料溶液达到了规定的水平的情况下，转移到原料溶液回收工序，或在原料溶液的回收后自动地转移到清洗工序。

对本实施方式的涂敷头的效果进行说明。

本实施方式的涂敷头8，其主体80的底板82包括倾斜部82b、82c。由于该倾斜部82b、82c以朝向回收口86a而高度变低的方式设置，所以凝结的雾在底板82上滞留在回收口86a的附近。因此，能够从回收口86a经由原料溶液回收线路26将滞留的原料用溶液回收。由于能够将回收的原料溶液再利用，所以能够提高雾涂敷成膜装置100的成品率。

设在整流室80a内的整流板81-1

81-4以端部比其他部分的高度低的方式设置。因此，从上部的供给口87a供给的清洗液在将各整流板81-1

81-4清洗后，容易地落到下方的底板82上。由于底板82的内面被设定为，朝向回收口86a而高度变低，所以清洗结束后的清洗液能够从回收口86a容易地回收。

这样，本实施方式的涂敷头8，能够不将涂敷头8从雾涂敷机构70拆下分解，既可以容易地将原料溶液回收并将内部清洗。因而，能够使制造的薄膜制品的成品率提高并使制造的生产能力提高。

进而，本实施方式的涂敷头8具备形成有距铅直方向具有角度θ1的引导路83a的狭缝块83及狭缝板84。因此，被整流室80a整流并分散后的雾能够以距铅直方向具有角度θ1而向基板9喷出雾。通过以角度θ1喷出，在基板9的表面附近不易发生紊流，能够更稳定地以均匀的膜厚成膜。

虽然说明了本发明的几个实施方式，但这些实施方式是作为例子提示的，并不是要限定发明的范围。这些新的实施方式能够以其他各种的形态实施，在不脱离发明的主旨的范围内能够进行各种省略、替换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围或主旨中，并且包含在权利要求书所记载的发明和其等同的范围中。