阅读说明：本技术 介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器 (Capacitive coupling structure of dielectric filter, balance degree adjusting method and filter ) 是由 谢懿非 欧阳洲 丁海 林显添 邸英杰 于 2019-09-30 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器,介质滤波器的容性耦合结构包括介质块与金属层。所述介质块包括相对设置的第一表面与第二表面。所述第一表面上设有耦合通孔。一方面,通过调整封闭式环形缺口在锥形孔段的孔壁上的设置位置,即改变封闭式环形缺口与耦合通孔的孔径较大的一端端面之间的间距H0时,便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面,由于耦合通孔包括锥形孔段,相对于孔壁垂直于第一表面的直通孔而言,锥形孔段的孔壁倾斜设置,这样既便于将金属层形成于耦合通孔的孔壁上,又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段的金属层上开设出封闭式环形缺口,进而能提高生产效率。(The invention relates to a capacitive coupling structure of a dielectric filter, a balance degree adjusting method and the filter. The dielectric block comprises a first surface and a second surface which are oppositely arranged. The first surface is provided with a coupling through hole. On one hand, the balance degree of the symmetrical zero point can be correspondingly adjusted by adjusting the arrangement position of the closed annular notch on the hole wall of the conical hole section, namely changing the distance H0 between the closed annular notch and the end face of the coupling through hole with larger hole diameter at one end; on the other hand, the coupling through hole comprises the conical hole section, and compared with a straight-through hole with the hole wall perpendicular to the first surface, the hole wall of the conical hole section is obliquely arranged, so that the metal layer is conveniently formed on the hole wall of the coupling through hole, a closed annular notch is conveniently formed in the metal layer of the conical hole section by adopting a cutting tool (comprising a cutter, laser and the like), and further the production efficiency can be improved.)

介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器

技术领域

本发明涉及滤波器技术领域，特别是涉及一种介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器。

背景技术

介质滤波器是一种采用介质谐振腔经过多级耦合而取得选频作用的微波滤波器。介质滤波器的表面覆盖着金属层，电磁波被限制在介质体内，形成驻波振荡。传统地，一般采用改变介质滤波器的排腔设计的方式来调整对称零点平衡度。然而，重新进行设计排腔结构时，一方面增大排腔设计工作量，排腔设计难度较大，另一方面改变排腔结构后，将使得介质滤波器的性能指标受到严重影响。如此可见，介质滤波器的容性耦合结构的对称零点平衡度的调节相当困难，进而导致生产效率较低，最终大大限制了介质滤波器的应用。

发明内容

基于此，有必要克服现有技术的缺陷，提供一种介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器，它能够便于调节对称零点的平衡度，并能大大提高生产效率。

其技术方案如下：一种介质滤波器的容性耦合结构，包括：介质块，所述介质块包括相对设置的第一表面与第二表面，所述第一表面上设有耦合通孔，所述耦合通孔从所述第一表面延伸到所述第二表面，所述耦合通孔包括内径逐渐增大的锥形孔段；金属层，所述金属层铺设于所述介质块的外壁、以及所述耦合通孔的孔壁上，所述锥形孔段的孔壁的金属层上设有封闭式环形缺口。

上述的介质滤波器的容性耦合结构，一方面，通过调整封闭式环形缺口在锥形孔段的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口与耦合通孔的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔包括锥形孔段，相对于孔壁垂直于第一表面的直通孔而言，锥形孔段的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层形成于耦合通孔的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段的金属层上开设出封闭式环形缺口，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

在其中一个实施例中，所述耦合通孔的孔壁的金属层、所述第一表面的金属层与所述第二表面的金属层中的至少一处上设有绕所述耦合通孔设置的非封闭式环形缺口。

在其中一个实施例中，所述非封闭式环形缺口包括相对的第一端和第二端，所述第一端和所述第二端间隔设置，所述第一端至所述耦合通孔的轴线的连线为第一边界线，所述第二端至所述耦合通孔的轴线的连线为第二边界线，所述第一边界线与所述第二边界线之间的夹角为β，且0°<β<360°。

在其中一个实施例中，所述封闭式环形缺口为两个以上，两个以上所述封闭式环形缺口沿着所述耦合通孔的轴线方向间隔设置；所述非封闭式环形缺口为两个以上，两个以上所述非封闭式环形缺口沿着所述耦合通孔的轴线方向间隔设置。

在其中一个实施例中，所述耦合通孔还包括内径大小保持不变的直通孔段，所述直通孔段与所述锥形孔段相连通。

在其中一个实施例中，所述直通孔段为两个，其中一个所述直通孔段的端部与所述锥形孔段的其中一端对接连通，另一个所述直通孔段的端部与所述锥形孔段的另一端对接连通。

在其中一个实施例中，所述锥形孔段的孔壁与所述耦合通孔的轴线之间的夹角为a，且5°<a<85°。

在其中一个实施例中，所述第一表面上还设有间隔的两个谐振孔，所述耦合通孔位于两个所述谐振孔之间，所述金属层还铺设于所述谐振孔的孔壁上。

一种介质滤波器的平衡度调节方法，采用了所述的介质滤波器的容性耦合结构，包括如下步骤：通过改变封闭式环形缺口与耦合通孔的孔径较大的一端端面之间的间距H0，来相应调整对称零点的平衡度。

上述的介质滤波器的平衡度调节方法，一方面，通过调整封闭式环形缺口在锥形孔段的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口与耦合通孔的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔包括锥形孔段，相对于孔壁垂直于第一表面的直通孔而言，锥形孔段的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层形成于耦合通孔的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段的金属层上开设出封闭式环形缺口，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

一种滤波器，包括所述的介质滤波器的容性耦合结构。

上述的滤波器，一方面，通过调整封闭式环形缺口在锥形孔段的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口与耦合通孔的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔包括锥形孔段，相对于孔壁垂直于第一表面的直通孔而言，锥形孔段的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层形成于耦合通孔的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段的金属层上开设出封闭式环形缺口，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

附图说明

图1为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构的俯视图；

图2为图1在A-A处的剖视图；

图3为本发明另一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构的俯视图；

图4为图3在A-A处的剖视图；

图5为本发明又一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构的俯视图；

图6为图5在A-A处的一实施例的剖视图；

图7为本发明又一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构的仰视图；

图8为图5在A-A处的另一实施例的剖视图；

图9为图5在A-A处的又一实施例的剖视图；

图10为本发明一实施例所述的介质滤波器的结构示意图；

图11为传统的介质滤波器的容性耦合结构的S参数曲线图；

图12为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为2mm时的S参数曲线图；

图13为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.55mm时的S参数曲线图；

图14为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.5mm时的S参数曲线图；

图15为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.4mm时的S参数曲线图；

图16为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.35mm时的S参数曲线图；

图17为本发明一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.0mm时的S参数曲线图；

图18为本发明另一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为4.5mm时的S参数曲线图；

图19为本发明另一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为3mm时的S参数曲线图；

图20为本发明另一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构中H0为1.17mm时的S参数曲线图。

附图标记：

10、介质块；11、第一表面；12、第二表面；13、耦合通孔；131、锥形孔段；132、直通孔段；133、45度倾斜孔壁；14、封闭式环形缺口；15、非封闭式环形缺口；151、第一边界线；152、第二边界线；16、谐振孔；20、金属层。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明的描述中，需要理解的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在中间元件。相反，当元件为称作“直接”与另一元件连接时，不存在中间元件。

在一个实施例中，请参阅图1及图2，一种介质滤波器的容性耦合结构，包括介质块10与金属层20。所述介质块10包括相对设置的第一表面11与第二表面12。所述第一表面11上设有耦合通孔13。所述耦合通孔13从所述第一表面11延伸到所述第二表面12，所述耦合通孔13包括内径逐渐增大的锥形孔段131。所述金属层20铺设于所述介质块10的外壁、以及所述耦合通孔13的孔壁上，所述锥形孔段131的孔壁的金属层20上设有封闭式环形缺口14。

上述的介质滤波器的容性耦合结构，一方面，通过调整封闭式环形缺口14在锥形孔段131的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口14与耦合通孔13的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔13包括锥形孔段131，相对于孔壁垂直于第一表面11的直通孔而言，锥形孔段131的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层20形成于耦合通孔13的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段131的金属层20上开设出封闭式环形缺口14，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

需要解释的是，封闭式环形缺口14的两端相互连通，形成例如封闭形式的圆环状、封闭形式的方形环状或封闭形式的椭圆形环状。而非封闭式环形缺口1514设有相对的两端，非封闭式环形缺口1514的相对两端之间有间隔，并没有相互连通，也就是，非封闭式环形缺口1514例如为非封闭形式的圆环状、非封闭形式的方形环状或非封闭形式的椭圆形环状。此外，封闭式环形缺口14、非封闭式环形缺口1514处没有铺设金属层20并露出介质块10的壁面。具体而言，封闭式环形缺口14、非封闭式环形缺口1514处的金属层20通过移除或蚀刻的方式露出介质块10的壁面，当然，介质块10对应于封闭式环形缺口14、非封闭式环形缺口1514的壁面也可以不进行电镀或喷涂金属层20，从而露出介质块10的壁面。

需要说明的是，介质块10具体例如是陶瓷材质的介质块，金属层20具体例如为银层或铜层等等，在此不进行限定。

在一个实施例中，请再参阅图2，所述耦合通孔13的孔壁的金属层20上设有非封闭式环形缺口1514。如此，一方面，在保证介质滤波器的容性耦合带宽达到预设值的条件下，由于在耦合通孔13的孔壁的金属层20上设有非封闭式环形缺口1514后，可以一定程度地增大封闭式环形缺口14的宽度，例如将封闭式环形缺口14的宽度从0.1mm增加到1mm或2mm，由于宽度为1mm以上的封闭式环形缺口14能便于采用刀具加工，即便于在锥形孔段131的孔壁上形成封闭式环形缺口14；另一方面，在耦合通孔13的孔壁的金属层20上设有非封闭式环形缺口1514，非封闭式环形缺口1514能用于调整介质滤波器的容性耦合带宽。需要说明的是，非封闭式环形缺口1514在耦合通孔13的孔壁上的开设位置不进行限制。

在另一个实施例中，请参阅图5至图7，所述第一表面11与所述第二表面12的其中一表面上设有绕所述耦合通孔13设置的非封闭式环形缺口1514。如此，也可以将非封闭式环形缺口1514形成于第一表面11或第二表面12上，并绕所述耦合通孔13设置即可，这样相对于在耦合通孔13的孔壁上形成非封闭式环形缺口1514，更方便生产制造。

进一步地，请参阅图5至图7，所述非封闭式环形缺口1514包括相对的第一端和第二端。所述第一端和所述第二端间隔设置，所述第一端至所述耦合通孔13的轴线的连线为第一边界线151，所述第二端至所述耦合通孔13的轴线的连线为第二边界线152，所述第一边界线151与所述第二边界线152之间的夹角为β，且0°<β<360°。如此，沿非封闭式环形缺口1514的长度方向，非封闭式环形缺口1514由第一端延伸至第二端，第一端与第二端的间隔设置，从而实现非封闭式环形缺口1514绕耦合通孔13的部分周向设置而不是完整地绕耦合通孔13的周向设置。同时，可以通过调节第一边界线151与第二边界线152之间的夹角β，从而对容性耦合带宽进行调节，β角度发生变化时，容性耦合带宽的宽与窄相应发生变化。β可以为45°、90°、135°、180°、225°、250°、300°或其他使得非封闭式环形缺口1514能够与封闭式环形缺口14相互配合而对容性耦合带宽进行调节的角度。

作为与上述实施例相变形的方案，所述封闭式环形缺口14为两个以上，两个以上所述封闭式环形缺口14沿着所述耦合通孔13的轴线方向间隔设置。

作为与上述实施例相变形的方案，所述非封闭式环形缺口1514为两个以上，两个以上所述非封闭式环形缺口1514沿着所述耦合通孔13的轴线方向间隔设置。

可选地，封闭式环形缺口14与非封闭式环形缺口1514也可均为一个。

在一个实施例中，请参阅图5、图8及图9，所述耦合通孔13还包括内径大小保持不变的直通孔段132，所述直通孔段132与所述锥形孔段131相连通。

在一个实施例中，所述直通孔段132为两个，其中一个所述直通孔段132的端部与所述锥形孔段131的其中一端对接连通，另一个所述直通孔段132的端部与所述锥形孔段131的另一端对接连通。

作为一个可选的方案，锥形孔段131可以是一个锥形孔段131，也可以是孔壁倾斜度不同的两个以上锥形孔段131依次连通形成，还可以是两个以上锥形孔段131与一个以上直通孔段组合形成，只要锥形孔段131的孔径满足于从一端至另一端逐渐增大或整体上呈逐渐增大的趋势即可。

作为一个可选的方案，直通孔段132为一个，直通孔段132与锥形孔段131相互连通组合形成耦合通孔13。

作为一个可选的方案，耦合通孔13不包括直通孔段132，耦合通孔13为锥形孔段131，如此，无需将耦合通孔13设置有直通孔段132，直接在介质块10上开设形成锥形孔即可，制作加工较为方便。

在一个实施例中，所述锥形孔段131的孔壁与所述耦合通孔13的轴线之间的夹角为a，且5°<a<85°。进一步地，15°<a<75°。

具体而言，所述锥形孔段131的孔壁与所述耦合通孔13的轴线之间的夹角为45度。如此，一方面，能便于将金属层20铺设形成于耦合通孔13的孔壁上，另一方面，也便于在耦合通孔13的孔壁上的金属层20采用切割工具(包括刀具与激光等等)开设出封闭式环形缺口14与非封闭式环形缺口1514，进而能提高生产效率。

作为一个可选的方案，所述锥形孔段131的孔壁与所述耦合通孔13的轴线之间的夹角a不限于是5°～85°，a在大于0°且小于90°的范围内也可以。

在一个实施例中，所述耦合通孔13的口部的孔壁倒斜角设置或倒圆角设置。具体可参阅图6、图8及图9，耦合通孔13的口部的孔壁例如为45度斜孔壁133。

进一步地，为了增大锥形孔段131的孔壁与所述耦合通孔13的轴线之间的夹角，同时为了尽可能地不改变耦合通孔13的口部的直径大小，可以相应增加与锥形孔段131的内径较小口部相邻的直通孔段132的长度H2，从而可以相应增大锥形孔段131的孔壁与所述耦合通孔13的轴线之间的夹角。

在一个实施例中，请再参阅图1及图2，所述第一表面11上还设有间隔的两个谐振孔16，所述耦合通孔13位于两个所述谐振孔16之间，所述金属层20还铺设于所述谐振孔16的孔壁上。

进一步地，请参阅图6、图8及图9，类似于耦合通孔13的口部的孔壁设计方式，谐振孔16的口部的孔壁也可以设置倒斜角或倒圆角。

在一个实施例中，耦合通孔13的内径较小的口部设置于第二表面12，耦合通孔13的内径较大的口部设置于第一表面11上。

在另一个实施例中，参阅图3及图4，反过来设置也可，即耦合通孔13的内径较小的口部设置于第一表面11，耦合通孔13的内径较大的口部设置于第二表面12上。

在一个实施例中，一种介质滤波器的平衡度调节方法，采用了上述任一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构，包括如下步骤：

请参阅图2、图10至图20，通过改变封闭式环形缺口14与耦合通孔13的孔径较大的一端端面之间的间距H0，来相应调整对称零点的平衡度。

上述的介质滤波器的平衡度调节方法，一方面，通过调整封闭式环形缺口14在锥形孔段131的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口14与耦合通孔13的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔13包括锥形孔段131，相对于孔壁垂直于第一表面11的直通孔而言，锥形孔段131的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层20形成于耦合通孔13的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段131的金属层20上开设出封闭式环形缺口14，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

请参阅图11，图11为传统的8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构的S参数曲线图，传统的8腔双零点对称结构下的介质滤波器的耦合通孔13的整个孔壁垂直于介质块10的表面，从图11可以看出，左右两个对称零点高低不平，如果需要进行对称零点平衡度调整时，则需要通过调整排腔结构设计来实现。

请参阅图12，图12为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为2mm时的S参数曲线图，从图12可以看出，左右两个零点的差值由传统的7.6dB改变为19.6dB。

请参阅图13，图13为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为1.55mm时的S参数曲线图，从图13可以看出，左右两个零点的差值小于H0为2mm时的左右两个零点的差值，即左右两个零点的差值进一步减小。

请参阅图14，图14为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为1.5mm时的S参数曲线图，从图14可以看出，左右两个零点的差值小于H0为1.55mm时的左右两个零点的差值，即左右两个零点的差值进一步减小。

请参阅图15，图15为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为1.4mm时的S参数曲线图，从图15可以看出，左右两个零点的差值小于H0为1.5mm时的左右两个零点的差值，即左右两个零点的差值进一步减小。

请参阅图16，图16为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为1.35mm时的S参数曲线图，从图16可以看出，左右两个零点的差值小于H0为1.4mm时的左右两个零点的差值为零，即左右两个零点的差值进一步减小达到平衡状态。

请参阅图17，图17为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图2、图6、图8至图10，H0为1.0mm时的S参数曲线图，从图17可以看出，左右两个零点高低不平，呈现出左低右高的效果，与图11至图16中呈现出的左高右低的效果相反。

也就是说，当H0从一个较高的数值，逐渐降低到左右零点相互平衡时对应的例如1.35mm的过程中，左右两个零点的差值逐渐减小，且呈现出左高右低的效果；当H0从左右零点相互平衡时对应的例如1.35mm进一步减小时，左右两个零点的差值逐渐增大，且呈现出左低右高的效果。

请参阅图18，图18为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图3，H0为4.5mm时的S参数曲线图，图3中的介质滤波器的容性耦合结构相对于图2、图6、图8及图9中的而言，耦合通孔13的锥形孔段131的朝向相反，从图18可以看出，左右两个零点的差值由传统的7.6dB(请参阅图10)变为10.2dB。也就是说，在耦合通孔13的锥形孔段131的朝向相反时，在不改变排腔的前提下，也可以将产品的左右零点的平衡度改变。类似地，改变H0的大小时，亦有以上平衡调节的效果，进一步可参阅图19与图20。

请参阅图19，图19为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图3，H0为4mm时的S参数曲线图，从图19可以看出，左右两个零点的差值小于H0为4.5mm时的左右两个零点的差值，且两个零点呈现出左高右低的效果。

请参阅图20，图20为一实施例8腔双零点对称结构下的介质滤波器的容性耦合结构，该介质滤波器的容性耦合结构可参阅图3，H0为1.17mm时的S参数曲线图，从图20可以看出，左右两个零点呈现出左低又高的效果。

在一个实施例中，请再参阅图10，一种滤波器，包括以上任意一实施例所述的介质滤波器的容性耦合结构。需要说明的是，该滤波器为4腔以上双零点对称结构的介质滤波器，例如可以是4腔双零点对称结构的介质滤波器，5腔双零点对称结构的介质滤波器，6腔双零点对称结构的介质滤波器，7腔双零点对称结构的介质滤波器，或者8腔双零点对称结构的介质滤波器。

上述的滤波器，一方面，通过调整封闭式环形缺口14在锥形孔段131的孔壁上的设置位置，即改变封闭式环形缺口14与耦合通孔13的孔径较大的一端端面之间的间距H0时，便能相应调整对称零点的平衡度；另一方面，由于耦合通孔13包括锥形孔段131，相对于孔壁垂直于第一表面11的直通孔而言，锥形孔段131的孔壁倾斜设置，这样既便于将金属层20形成于耦合通孔13的孔壁上，又方便采用切割工具(包括刀具与激光等等)在锥形孔段131的金属层20上开设出封闭式环形缺口14，进而能提高生产效率。同时，在不改变排腔的前提下，可以将产品的左右零点的平衡度改变。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。