阅读说明：本技术 制备用于放射性药物目的的高纯度68Ge材料的方法 (Preparation of high purity for radiopharmaceutical purposes68Method for Ge material ) 是由 尤西·耶恩斯特伦 康斯坦丁·哲尔诺谢科夫 马克·哈尔芬施特勒 内夫扎特·凯尔门迪 于 2018-03-20 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种制备用于放射性药物目的的高纯度~(68)Ge材料的方法。本发明特别涉及符合药品生产质量管理规范(GMP)的~(68)Ge-API(API＝活性药物成分)溶液的生产。用于本发明方法的起始材料可以是商业或其他来源的~(68)Ge储备溶液作为原材料。这种含~(68)Ge的原溶液是从源自生产过程的潜在金属和有机杂质中纯化出来的。所公开的放射化学方法是基于用两种不同的吸附材料从有机和金属杂质中对Ge的双重分离。在第一分离阶段期间,以四氯化锗形式通过吸附从有机和金属杂质中纯化~(68)Ge,之后通过阳离子交换从剩余的金属杂质中纯化水解的~(68)Ge。最终的~(68)Ge-API产品,例如符合~(68)Ge/~(68)Ga发生器的GMP生产规范的监管要求。(The invention relates to a method for producing high purity for radiopharmaceutical purposes 68 A method of Ge material. The invention relates in particular to compliance with Good Manufacturing Practice (GMP) 68 Production of Ge-API (API ═ active pharmaceutical ingredient) solutions. The starting materials for the process of the invention may be of commercial or other origin 68 Ge stock solution was used as raw material. Such as a container comprising 68 The Ge raw solution is produced fromPurified from the latent metal and organic impurities of the process. The disclosed radiochemical method is based on the dual separation of Ge from organic and metallic impurities with two different adsorption materials. Purification from organic and metallic impurities by adsorption in the form of germanium tetrachloride during the first separation stage 68 Ge, followed by purification of the hydrolyzed from remaining metal impurities by cation exchange 68 And Ge. Final product of 68 Ge-API products, e.g. in accordance with 68 Ge/ 68 GMP production specification regulatory requirements for Ga generators.)

制备用于放射性药物目的的高纯度68Ge材料的方法

技术领域

本发明涉及根据权利要求1的一种制造用于放射性药物目的的高纯度⁶⁸Ge材料[下文中也称为“⁶⁸Ge-API(活性药物成分)”]的方法。

背景技术

通常，通过用高能质子照射天然存在的⁶⁹Ga，在回旋加速器中通过p，2n反应产生⁶⁸Ge(半衰期：270.82d)。产生的⁶⁸Ge通过电子捕获衰变到具有67.63分钟半衰期的β⁺-发射体⁶⁸Ga。⁶⁸Ga主要通过正电子发射(90.5％)分解。

现有技术中⁶⁸Ge的一般制造(1.)

例如，Naidoo等人，2002公开了对具有Ga₂O标靶的⁶⁸Ge的回旋加速器产生的描述。根据该文件，标靶矩阵包括以下：Ga金属(天然或富集，熔点：29.76℃)，Ga₂O₃(熔点：1900℃)，Ga₄Ni(熔点：900℃)和RbBr(熔点：682℃)。避免了Ga₄Ni和RbBr标靶，因为，再次向系统中加入了额外的组分(分别为Ni和Rb)。未使用天然Ga金属(低熔点)和同位素富集的Ga金属(昂贵的材料)。Ga₂O₃禁止使用高粒子电流。在照射标靶之后，可以通过各种方法将⁶⁸Ge与标靶材料分离。Naidoo等人，2002报道了RbBr标靶在6M的HCl溶液中的溶解，然后从6M的HCl溶液中对⁶⁸Ge的定量蒸馏。进一步报道了使用CCl₄从⁶⁹Ga标靶中对⁶⁸Ge进行蒸馏。另一种方法包括在回流下将Ga₂O₃溶解在16M的HNO₃溶液中，然后在含水氧化锆介质上进行⁶⁸Ge的离子交换色谱。此外，报道了将Ga₄Ni溶解在冷HNO₃溶液中，随后在9M的HCl-CCl₄系统中通过液-液萃取回收⁶⁸Ge。

此外，Naidoo等人，2002提到了将Ga₂O₃溶解在浓H₂SO₄溶液中，然后在H₂SO₄-HCl和H₂SO₄-KI系统中液-液萃取⁶⁸Ge。还报道了使用α粒子照射的Zn标靶从浓HCl溶液中将⁶⁸Ge萃取到CCl₄中。在国家加速器中心(NAC)，放射性同位素的常规生产是通过高能质子(66MeV)光束进行的，该光束具有高射束电流(>65μAh)。对于大规模生产，通常使用大标靶(3-10g)。在NAC，已经开发了内部的Ga₂O标靶。

现有技术中⁶⁸Ge的放射化学分离(1.1)

从Naidoo等人，2002可以看出，可以应用不同的方法用于⁶⁸Ge的放射化学分离。这些方法应用于从标靶材料分离⁶⁸Ge的⁶⁸Ge制造方法，也用于其中分离⁶⁸Ge是局部的其他应用，例如⁶⁸Ge/⁶⁸Ga发生器的生产[和Mudrová，1974；Schuhmacher和Maier-Borst，1981]或研究[Chirkst et al.，2008]。各种方法包括化学提取[Menendez等，1989；Philips，2002年；Meinken等，2005；Aardaneh和van der Walt，2006]，蒸馏[Gleason，1960；van der Meulen等，2011]，有机物的使用[Klement和Sandmann，1955；Naidoo等，2002；Zhernosekov和Nikula，2010]和无机材料[Bao和Song，1996；Cheng等，2000]，或者不同方法的组合[Rouillard épouseBauer等，1983；Fitzsimmons和Mausner，2015]。

化学萃取(1.1.1)

在美国纽约布鲁克海文国家实验室(BNL)的生产线中，通过使用化学萃取进行⁶⁸Ge的纯化。在该过程中，以GeCl₄的形式，通过多次重复萃取从源自溶解的标靶的镓中萃取⁶⁸Ge。在该方法中，⁶⁵Zn与一定量的Ga共同被萃取。通过在有机溶剂相中以四氯化物形式萃取⁶⁸Ge而从⁶⁵Zn和剩余的Ga中纯化⁶⁸Ge，同时在水相中洗去杂质。在该方法的最后，在稀盐酸中从有机溶剂相中反萃取⁶⁸Ge[Meinken等，2005]。

与BNL一样，美国新墨西哥州洛斯阿拉莫斯国家实验室也使用化学萃取从标靶材料中纯化⁶⁸Ge。在他们的方法中，将标靶溶解在氢氟酸(HF)，硝酸(HNO₃)和硫酸(H₂SO₄)中，之后在四氯化碳(CCl₄)中萃取⁶⁸Ge并在水中反萃取[Phillips，2002]。

蒸馏(1.1.2)

在van der Meulen等人的论文(2011年)中描述了在南非iThemba Labs中纯化⁶⁸Ge的过程。在该方法中，⁶⁸Ge被挥发并进入由氢氧化钠和亚硫酸钠(Na₂SO₃)组成的挥发性活性物阱中。在将所得溶液加载到含有阴离子交换吸附剂的柱上之前，用HF酸化挥发性活性物阱中的溶液。用稀释的HF冲洗阴离子交换柱以除去任何残留的杂质，从而获得放射化学纯的产物。

柱分离(1.1.3)

布鲁克海文国家实验室(BNL)的现代化分离方法在生产过程中利用两个柱纯化⁶⁸Ge。在该过程开始时，将⁶⁸Ge在酸性条件下通过阴离子交换柱洗脱，然后用碱性溶液中的柠檬酸盐缓冲液将其保留在Sephadex G-25柱中。用稀释的HCl从Sephadex G-25柱洗脱最终产物⁶⁸Ge，并用阴离子交换柱进行纯化(Fitzsimmons和Mausner，2015)。

检测器的制造(1.2)

已经使用不同的方法来纯化锗以用作检测器材料。这些方法包括通过溶剂萃取纯化四氯化锗[Morrison等，1954]和通过区域精制技术纯化锗[Wang等人，2014]。

矿石加工(1.3)

一种方法包括从含锗金属锌中回收作为氧化锗的锗的方法，该方法涉及在非氧化条件下蒸馏含锗金属锌，回收含有锗的蒸馏残余物，用氯水沥滤所回收的蒸馏残余物以将锗转化为四氯化锗，将四氯化锗水解成氧化锗，并回收氧化锗[Lebleu等，1978]。

其他使用目的(1.4)

Jenkner和Hans的专利(1961)[US 2 988 427 A]中提出了纯化锗的一般方法。他们的发明涉及从其氢化物制备周期表第四族的纯元素的改进。

⁶⁸Ge的用途(2.)

同时，⁶⁸Ge本身有许多用途，例如，作为正电子源⁶⁸Ge已在核物理中被用于正电子湮没研究并且在工业中被用于金属造影。然而，⁶⁸Ge主要用于核医学领域用以产生⁶⁸Ga，主要是在所谓的⁶⁸Ge/⁶⁸Ga发生器中，在该发生器中⁶⁸Ge通过特定配体选择性地吸附到固体支持基质上，并且由于母核素⁶⁸Ge的放射性衰变，其子体核素⁶⁸Ga连续被产生，然后可以通过合适的溶剂将子体核素⁶⁸Ga方便地从固体支持基质中洗脱出来。

例如EP 2216789 A1和本申请人的EP2439747 B1公开了这种⁶⁸Ge/⁶⁸Ga发生器。

在核医学中，正电子发射体类型的放射性核素用于所谓的正电子发射断层扫描(PET)。PET作为发射计算机断层扫描的变体，是核医学的成像方法，其通过可视化生物体中弱放射性标记物质(放射性药物)的分布来产生活生物体的截面图像，从而将生物化学和生理功能进行成像，因此归属于所谓的功能成像的诊断部门。在对患者进行这种PET检查的框架内，一般规则是，借助于几个检测器，通过正电子发射体的放射性衰变将生物体内弱放射性正电子发射体标记的物质的分布进行可视化。

特别地，基于闪烁扫描原理，在PET检查开始时对患者静脉内施用放射性药物。PET使用发射正电子(β⁺辐射)的放射性核素。一旦正电子与患者体内的电子相互作用时，两个高能光子以精确的相反方向发射，即以180度的相对角度发射。就核物理而言，这就是所谓的湮灭辐射。PET装置通常包括多个检测器，用于检测环形设置在患者周围的光子。PET检查的原理在于记录两个相应的相对检测器之间的同时性。这些记录的衰变事件的时间和空间分布允许推断放射性药物在体内尤其是器官内的空间分布，所述器官是对相应的检查和/或诸如占据空间过程的病理变化重要的器官。

最后，如计算机断层扫描中常见的，根据所获得的数据，计算一系列截面图像。PET经常用于肿瘤学、神经学以及心脏病学中的代谢相关研究，然而近来出现越来越多其他领域的应用。

此外，⁶⁸Ga经常与例如DOTA或DOTATOC(生长抑素类似物)的复合分子螯合。例如，通过这种⁶⁸Ga-DOTATOC，借助于诸如PET的成像方法，有可能检测和定位神经内分泌肿瘤及其转移。

⁶⁸Ge的纯度要求(3.)

鉴于上述情况，显然只有高纯度的材料，即起始材料，中间材料以及最终产物才能被批准用于人类。特别是，如果涉及放射性药物，必须满足极高的纯化标准。

尤其地，所产生的放射性核素必须具有高纯度并且必须基本上不含有机和金属杂质，因为这些可能由于竞争反应对放射性药物的标记产生不利影响，并且可能降低技术上可实现的产率。此外，金属和有机杂质可能会干扰敏感的生物医学测量系统。

如上所述，⁶⁸Ge是通过在回旋加速器中用高能质子照射镓(Ga，天然)金属或其镍合金标靶而产生的。镓标靶材料密封在铌胶囊中或镀在铜上。

照射之后，通过有机萃取程序从大量标靶材料中分离⁶⁸Ge。照射和萃取过程都可能导致⁶⁸Ge溶液被下面的示例性可能杂质信息中列出的金属杂质和有机残留物污染。

可能的杂质信息(2.1.1)

源自上述生产过程的潜在杂质是：

-有机溶剂

ο正庚烷或

ο四氯化碳(CCl₄)

ο苏丹III

-来自标靶和标靶材料的金属杂质

ο镍(来自用作标靶的镓镍合金)，铜(用作标靶背衬)或

ο铌(标靶封装)

-监测铁(Fe)，锌(Zn)和铅(Pb)作为潜在无机杂质的一般指标。

除了化学杂质之外，还存在微生物杂质，因为通常不采取诸如高压灭菌或无菌制造的措施来减少总体微生物负载。

发明内容

考虑到⁶⁸Ge的上述杂质信息，本发明的目的是提供一种放射化学纯化方法和技术，用于从作为原材料的商业或其他源的⁶⁸Ge储备溶液安全和经济地生产出作为活性药物成分的⁶⁸Ge(⁶⁸Ge-API)。

该目的通过根据权利要求1的用于放射性药物目的的高纯度⁶⁸Ge材料的制造方法来实现。

特别地，本发明涉及一种用于制造用于放射性药物目的的高纯度⁶⁸Ge材料的方法，该方法包括：

(a)将含有有机和金属杂质的含⁶⁸Ge的溶液调节至6.5M至12M的HCl浓度，以便将溶液中所含的⁶⁸Ge转化为含⁶⁸GeCl₄的材料；

(b)将步骤(a)中获得的包括含⁶⁸GeCl₄的材料的溶液加载到树脂基质中，其中所述树脂基质是亲水性大孔丙烯酸酯聚合物树脂；

(c)用水洗脱所述树脂基质以水解所述含⁶⁸GeCl₄的材料，并从在步骤(b)中被吸附到所述树脂基质的含⁶⁸GeCl₄的材料中释放基本上是锗酸形式[⁶⁸Ge(OH)₄]的⁶⁸Ge；

(d)将步骤(c)中获得的含有⁶⁸Ge的洗脱液调节至<1M的HCl浓度；和

(e)将步骤(d)的含有基本上呈[⁶⁸Ge(OH)₄]形式的⁶⁸Ge的所述经调节的洗脱液加载到阳离子交换树脂，其中金属离子杂质基本上被定量地保留，而基本上不含有机和金属杂质的最终的含⁶⁸Ge产物洗脱通过。

本发明的纯化系统是为了生产⁶⁸Ge溶液而发明，开发和构造的，该溶液是从源自生产过程的潜在杂质中纯化出来的，因此满足⁶⁸Ge/⁶⁸Ga发生器生产规格的法规要求，并显示符合放射性药物的药品生产质量管理规范(GMP)。

通过本发明的方法获得的纯化的⁶⁸Ge-API溶液满足这些规格，并且有资格作为GMP放射性药物。

根据本发明的放射化学方法是基于用两种不同的吸附材料从有机和金属杂质中对Ge的双重分离。在第一分离阶段期间，以四氯化锗(GeCl₄)形式通过吸附从有机和金属杂质中纯化⁶⁸Ge，之后通过阳离子交换从剩余的金属杂质中纯化水解的⁶⁸Ge。最终产品⁶⁸Ge-API的有机和金属杂质显著减少，并且可在完善的化学条件下获得。换句话说，最终产物⁶⁸Ge-API基本上不含有机和金属杂质。

根据本发明，例如由本申请人的子公司德国ITG Isotope Tech-nologiesGarching GmbH,Garching(ITG)获得的⁶⁸Ge溶液经历完全再加工和深度纯化。为了获得具有高质量的⁶⁸Ge溶液，本申请人开发了用于⁶⁸Ge溶液的纯化和重新配制的两步放射化学方法。根据本发明的方法满足以下⁶⁸Ge的GMP生产的必要标准：

1)除去原溶液，完成⁶⁸Ge制剂的重新配制；

2)从可在生产过程中引入制剂的可能的金属杂质中纯化⁶⁸Ge；

3)从可在生产过程中引入制剂中的有机杂质中纯化⁶⁸Ge。

本发明的一个优选实施例是所述有机杂质选自有机溶剂、直链和支链C₆-C₁₂烷烃，特别是正庚烷；卤代C₁-C₃烷烃，特别是CCl₄，和有机染料，特别是苏丹染料。

这些有机化学材料在⁶⁸Ge的放射化学分离中发生，因此可以通过本发明的方法完全除去。

在本发明的另一个优选实施例中，所述金属杂质选自Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Nb和Pb。这些金属或它们的离子分别出现在用于导致⁶⁸Ge的照射过程的标靶制剂中，因此可以通过本发明的方法完全除去。

通常，将步骤(a)中含⁶⁸Ge的溶液调节至HCl的浓度为7.5M。这种高HCl浓度确保⁶⁸Ge至⁶⁸GeCl₄的或多或少的定量转化。

为了将含⁶⁸GeCl₄的材料完全吸附到树脂基质上，优选的是用与步骤(a)中含⁶⁸Ge的溶液所调节至的HCl浓度相同的HCl浓度来平衡步骤(b)的树脂基质。

对本发明方法特别有用的是步骤(b)的树脂基质具有约25nm的孔径和/或约500m²/g的表面积。

为了本发明的目的，有利的是为了实现高分离强度，步骤(e)中的阳离子交换树脂属于强阳离子交换树脂。

利用根据本发明的方法，可以获得⁶⁸Ge-API，在该⁶⁸Ge-API中，步骤(e)的最终⁶⁸Ge产物至少表现出如下表所示的纯化因子(用电感耦合等离子体质谱法ICP-MS测定的金属)：

在根据本发明的优选方法中，最终含⁶⁸Ge产物的HCl摩尔浓度为0.1-0.3M，特别是0.2M。

使用本方法，⁶⁸Ge的收率至少约为97％。因此，⁶⁸Ge的损失极低，并且实际上对所获得的产物的最终成本没有显著贡献。

附图说明

通过对本发明的说明性示例的描述和附图的描述，本发明的其他特征和优点将变得清楚。

图1是示意性表示本发明⁶⁸Ge纯化过程的流程图；

图2是显示在纯化程序的不同步骤中的洗脱部分中⁶⁸Ge活性的图。

图3显示了柱的示例性安排，所述柱作为第一柱填充有树脂基质。

具体实施方式

实施例I

⁶⁸Ge溶液的纯化

为了在不含有金属和有机杂质的受控化学环境中获得用作⁶⁸Ge-API的⁶⁸Ge，已经开发了两步纯化程序。这个概念基于使用具有不同功能的两个柱以便

1)在第一柱材料(柱I)上吸附和分离⁶⁸Ge，以除去原溶液，金属杂质和有机杂质，

2)通过第二柱材料(柱II)洗脱⁶⁸Ge，以通过阳离子交换方法深度纯化剩余的金属杂质。

在本实施例中，作为亲水性大孔丙烯酸酯聚合物树脂(预过滤树脂，EICHROM，USA，孔径约25nm，表面积约500m²/g，对各种有机化合物具有高容量)的树脂基质用作第一柱材料，并且具有强阳离子交换能力的树脂[即强阳离子交换树脂](MP50树脂，Biorad，USA)作为第二柱材料。

在该程序的第一部分中，将原始⁶⁸Ge溶液的酸摩尔浓度调节至浓盐酸(7.5M HCl)。在这种条件下，四价锗选择性地吸附在柱I上。另外，高浓度HCl溶液的应用是对于除去细菌内毒素和/或消除任何细菌或微生物活性而言的重要因素。在纯化程序之后，将⁶⁸Ge与原始溶液定量地分离，并在化学控制的纯溶液中获得⁶⁸Ge。

用于制造用于放射性药物目的的高纯度⁶⁸Ge材料的方法的一般方案如图1所示。如上所述，第一柱(柱I)包含来自美国EICHROM的预过滤树脂，其由如上所述的未涂覆的惰性聚合丙烯酸酯材料组成。第二柱(柱II)含有强阳离子交换树脂-MP-50(Biorad，USA)。已经证明纯化系统具有用于⁶⁸Ge的性能，并且已经确定了对于选定金属Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Nb和Pb的净化因子。

在根据本发明的方法中柱I的作用是从调节至7.5M HCl的原始溶液中，将四价⁶⁸Ge选择性地吸附到柱树脂材料上。不受下述机制的限制，似乎在高HCl浓度下，GeCl₄作为四氯化锗(GeCl₄)与有机和金属杂质一起通过非极性结合被所用的预过滤树脂吸附。随后，可以用纯水或低浓度的酸洗脱四价锗，同时有机和金属杂质保留在柱I上。

大多数金属阳离子在稀HCl浓度([HCl]<1M)下对强阳离子交换树脂具有强吸附作用，而在这些条件下呈锗酸(Ge(OH₄)化学形式的锗的吸附可以忽略不计。在该方法中使用第二柱是基于这种化学性质的差异。从预过滤树脂-柱I洗脱的⁶⁸Ge进一步用水重新配制成HCl浓度为0.3M。在这些条件下，当⁶⁸Ge洗脱通过时，通过阳离子交换柱(柱II)选择性地除去金属杂质。用少量水进一步冲洗阳离子交换柱II，以定量洗脱⁶⁸Ge。

在第一柱中，⁶⁸Ge在柱I中作为⁶⁸GeCl₄保留。此外，有机和金属杂质保留在第I柱中。

吸附到柱I表面的⁶⁸GeCl₄被水解并作为⁶⁸Ge用1.5mL H₂O洗脱。然后将洗出液用8.5mL H₂O稀释。

将柱II用1+1mL H₂O冲洗。

在稀HCl中杂质金属在柱II中定量保留，但是，所需的⁶⁸Ge不能保留并作为GMP等级⁶⁸Ge-API洗脱通过。

实施例II

从选定的金属离子中纯化⁶⁸Ge

为了测试根据本发明的方法除去甚至微量金属的能力，在该程序中，将选定的金属Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Nb和Pb各100μg加入到⁶⁸Ge溶液中(ITG)，将其与浓HCl(30％，超级纯)溶液混合，使得最终HCl浓度为7.5M。将溶液平衡最少20分钟。将柱I用5+5mL的7.5M HCl预冲洗以进行平衡。通过柱I洗脱⁶⁸Ge溶液，随后用5+5mL的7.5M HCl冲洗柱I，以进一步除去杂质。在该步骤期间，微生物杂质也被灭活并从柱中洗脱出去。为了水解和除去⁶⁸Ge，首先用0.5mL H₂O洗脱柱I以降低柱中的HCl含量，之后用3×0.5mLH₂O洗脱含⁶⁸Ge的部分。然后再用H₂O额外洗脱5mL。将含有⁶⁸Ge的洗出液部分用H₂O稀释至10mL，以将HCl的摩尔浓度降至0.25M。将稀释的洗出液通过柱II进行洗脱，柱II已经用5+5mL的0.25M HCl预冲洗。在洗脱样品后，用2×1mL H₂O冲洗柱，用于从柱II中定量冲洗⁶⁸Ge。用HPGeγ光谱仪测量所有洗出液。活性和结果如下表1和图2所示。

在定量分析中，在纯化系统中应用已知量(100μg)的每种金属，并通过ICP-MS测量洗出液中选定金属的浓度，并计算金属的纯化因子。结果收集在下表2中。

实施例III

系统中的选定有机化合物

在定量分析中，将已知量(833ppm)的有机化合物CCl₄和正庚烷应用于纯化系统中，并将最终产物溶液送至经认证的分析实验室以测定CCl₄和正庚烷的浓度。通过气相色谱(GC)测定浓度。结果收集在下表3中。在其检测限内未发现CCl₄和正庚烷。

此外，在定量分析中，将已知量(0.8ppm)的有机化合物苏丹III加入到⁶⁸Ge储备溶液(ITG)中，将其应用于纯化系统中。通过HPLC分析纯化的最终产物溶液以测定苏丹III的浓度。结果收集在下表3中。

定性分析

在定性分析中，将已知量(0.8ppm)的有机化合物苏丹III应用于纯化系统中。在纯化过程之后，收集最终产物并目测分析。由于苏丹III是红色染料，因此可以看到染色的起始溶液的纯化。为了证明视觉观察，从不同分析步骤摄取照片(未显示)：起始溶液(明显可见红色)，用于除去有机化合物的柱I(图3)和最终产物(用裸眼再也看不到起始溶液的红色)。

结果

柱系统中的⁶⁸Ge

从用HPGeγ光谱仪系统测定并总结在表1中的结果可以看出，⁶⁸Ge从预过滤树脂柱(柱I)以1.5mL的体积进行洗脱，并进一步以稀释形式洗脱并通过阳离子交换柱(柱II)进行冲洗得到最终产物。在1.5+2mL体积中，分离过程的收率为97.3％，并且⁶⁸Ge-API的纯化最终产物的HCl的摩尔浓度为0.2M。

表1：在⁶⁸Ge纯化程序的不同步骤中，测定的洗出液级份和树脂中的⁶⁸Ge活性。在纯化之前将金属Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Nb和Pb加入到溶液中；每种金属100μg。

选定金属的纯化

从下表2中总结的结果可以看出，所有选定的金属的纯化因子都很高。具有+5氧化态的Nb具有与其他选定金属相比不同的化学性质，其具有较低的纯化因子。纯化的洗出液中Cu的含量低于ICP-MS仪器的定量限。

表2.在⁶⁸Ge纯化程序后，为最终产物中选定金属确定的测定的量和纯化因子。用ICP-MS测定金属。

选定有机化合物的纯化

定量分析

基于下表3中总结的结果，可以看出⁶⁸Ge纯化方法对于所有选定三种有机化合物都是有效的。纯化程序后最终产物中的所有测定量均在所应用分析方法的检测限以下。

表3.⁶⁸Ge纯化程序后为最终产物中选定有机化合物确定的量。

定性分析

从以下图3-5可以看出，选定的有机化合物苏丹III通过柱I被定性除去，并且在最终产物中没有观察到苏丹III的残留物。

根据实验结果可以推断，所开发的新型放射化学方法完全能够以非常高的纯化因子，即实际上定量地从金属和有机杂质中纯化出⁶⁸Ge-溶液，然后其有资格作为GMP规范中的药学上可接受的⁶⁸Ge-API。

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