具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，本发明一实施例提供了一种折光膜100。该折光膜100包括光学胶层101以及平坦层102，平坦层102具有多个通孔1021，光学胶层101附着于平坦层102的表面且填充通孔1021，光学胶层101的折射率大于平坦层102的折射率。

在本实施例的折光膜100中，光学胶层101与平坦层102之间存在一定的折射率差，且光学胶层101的折射率大于平坦层102的折射率，这样可以使光学胶层101在平坦层102的通孔1021处形成微透镜结构。当将该折光膜100应用到显示面板200上时，可以对像素坑内发出的光的折射方向进行调整，降低光线的全反射率，使更多的光线发射到空气中，提高显示面板200的出光率。另外，当将该折光膜100应用到显示面板200上时，可以通过通孔1021的位置设置，使平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口进行配合，使更多的光在预设的位置发射至空气中，进而对光线的出射方向进行控制，实现光线在预设位置的聚集或发散。

在一个优选的示例中，光学胶层101的一个表面和平坦层102的一个表面平齐，且光学胶层101的厚度大于平坦层102的厚度。此时，光学胶层101能够对平坦层102进行很好地包覆，使光线的传播方向得到进一步调整，进一步提高显示面板的出光率。

具体地，光学胶层101的厚度为10μm～100μm。光学胶层101在10μm～100μm厚度范围内，能够兼顾良好的折射效果以及合适的厚度。可以理解的是，光学胶层101的厚度可以是但不限定为10μm、12μm、15μm、18μm、20μm、22μm、25μm、28μm、30μm、32μm、35μm、38μm、40μm、42μm、45μm、48μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、80μm、85μm、90μm、95μm或100μm。

进一步地，平坦层102的厚度为0.5μm～10μm。可选地，平坦层102的厚度可以是但不限于0.5μm、0.8μm、1μm、1.2μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、5μm、5.5μm、6μm、6.5μm、7μm、7.5μm、8μm、8.5μm、9μm或10μm。优选地，平坦层102的厚度为1μm～5μm。可以理解的是，在显示面板的设计过程中，通过合适的厚度设置，使平坦层102和光学胶层101更好地适配，更有利于光线在预设位置的聚集或发散。

在一个具体的示例中，光学胶层101包括光学胶主体1011和填充介质1012，填充介质1012为氧化锆填充介质和氧化钛填充介质中的至少一种。通过氧化锆填充介质和氧化钛填充介质中的至少一种与光学胶主体1011配合形成光学胶层101，能够有效提高光学胶层101的折射率。当将该折光膜100应用到显示面板200上时，可以有效减少发光器件发出的光线的全反射效果，使更多的光线出射到空气中，提高显示面板的出光率。

具体地，氧化锆填充介质为具有Zr_xO_y分子式的化合物中的至少一种，其中x：y＝1：(1～2)。可选地，x：y可以是但不限定为1:1、1:1.2、1:1.5、1:1.8或1:2。可以理解的是，氧化锆填充介质可以是具有Zr_xO_y分子式的化合物中的任意一种或者多种组成的混合物。优选地，x＝1。进一步优选地，氧化锆填充介质为ZrO₂填充介质。

具体地，氧化钛填充介质为具有Ti_mO_n分子式的化合物中的至少一种，其中m：n＝1：(1～2)。可选地，m：n可以是但不限定1:1、1:1.2、1:1.5、1:1.8、1:2。可以理解的是，氧化钛填充介质可以是具有Ti_mO_n分子式的化合物中的任意一种或者多种组成的混合物。优选地，m＝1。进一步优选地，氧化钛为TiO₂填充介质。

作为填充介质1012的一个用量示例，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数为1％～80％。通过光学胶主体1011和填充介质1012的配合，控制填充介质1012的质量百分数为1％～80％，且填充介质1012选自氧化锆填充介质和氧化钛填充介质中的至少一种，在此选材和配比下，能够得到具有较高折射率的光学胶层101。将该学胶应用到显示面板中能够有效提高显示面板的出光率。优选地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数为1％～50％，进一步优选地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数为3％～50％，更进一步优选地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数为5％～40％。

可选地，作为一些填充介质1012的质量百分数，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数可以是但不限定为1％、2％、5％、8％、10％、12％、15％、18％、20％、23％、25％、28％、30％、32％、35％、38％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％或80％。

在一个具体的示例中，光学胶层101由光学胶主体1011和填充介质1012组成，以占光学胶的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数为1％～80％，填充介质1012为氧化锆填充介质和氧化钛填充介质中的至少一种。在本示例中，仅通过光学胶主体1011和填充介质1012即可得到光学胶层101，同样能够得到具有较高折射率的光学胶，将该光学胶进一步应用到显示面板中能够有效提高显示面板的出光率。可选地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量分数为1％～50％。进一步地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量分数为3％～50％。进一步地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量分数为5％～40％。更进一步地，以占光学胶层101的质量百分数计，填充介质1012的质量百分数可以是但不限定为1％、2％、5％、8％、10％、12％、15％、18％、20％、23％、25％、28％、30％、32％、35％、38％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％或80％。

在一个具体的示例中，填充介质1012为纳米颗粒的填充介质。具体地，填充介质1012的粒径为5nm～5000nm。优选地，填充介质1012的粒径为5nm～3000nm。进一步优选地，填充介质1012的粒径为5nm～1000nm。进一步优选地，填充介质1012的粒径为5nm～100nm。可以理解的是，填充介质1012的粒径可以是但不限定为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm、500nm、550nm、600nm、650nm、700nm、750nm、800nm、850nm、900nm、950nm、1000nm、1500nm、2500nm、3000nm、3500nm、4000nm、4500nm或5000nm。

在一个具体的示例中，作为以上光学胶层101的一种制备方法，其包括如下步骤：将填充介质1012与光学胶主体1011混合均匀，然后固化。将填充介质1012与光学胶主体1011混合均匀，得到预成品，然后将预成品固化，得到光学胶层101。制备方法简单易行，适用于工业化推广。可以理解的是，填充介质1012的粒径表示与光学胶主体1011混合之前填充介质1012的粒径。

在另一个具体的示例中，作为以上折光膜100的一种制备方法，其包括如下步骤：在平坦层102的表面及通孔1021转移上述预成品以形成光学胶层101，或者在平坦层102的表面及通孔1021附着上述预成品固化形成的光学胶层101。可以理解的是，可以先将预成品转移到平坦层102的表面，进而形成光学胶层101。也可以先将预成品形成光学胶层101之后再将形成的光学胶层101附着在平坦层102的表面且填充通孔1021。

作为光学胶层101折射率的优选示例，光学胶层101的折射率为1.5～2.5。通过填充介质1012与光学胶主体1011的配合可以使光学胶层101具有较高的折射率，优选地，光学胶层101的折射率为1.5～2.3。可选地，光学胶层101的折射率可以是但不限定为1.5、1.55、1.6、1.65、1.7、1.75、1.8、1.85、1.9、1.95、2、2.05、2.1、2.15、2.2、2.25、2.3、2.35、2.4、2.45或2.5。

作为平坦层102折射率的优选示例，平坦层102的折射率为1.0～1.6。可选地，平坦层102的折射率可以是但不限定为1.1、1.15、1.2、1.25、1.3、1.35、1.4、1.45、1.5、1.55或1.6。优选地，光学胶层101的折射率大于平坦层102的折射率，这样使平坦层102和光学胶层101更好地适配，使光线能够在预设位置更好地聚集或发散。

请参阅图2，在一个优选的示例中，折光膜100还包括滤光层103和黑矩阵层104(BM层)，滤光层103和黑矩阵层104均位于光学胶层101的远离平坦层102的表面；滤光层103设于黑矩阵层104的内部；滤光层103与平坦层102的通孔1021一一对应或错位设置。通过滤光层103和黑矩阵层104的设置，尤其是可以有效提高显示面板在外界环境为强光时的出光率。有利于使显示面板在强光条件下保持良好的显示性能，拓宽显示面板的使用场景。

可以理解的是，滤光层103分为红色子滤光层1031、蓝色子滤光层1032、绿色子滤光层1033。通过红色子滤光层1031、蓝色子滤光层1032、绿色子滤光层1033的设置分别对红色像素坑2011、蓝色像素坑2012和绿色像素坑2013发出的光进行滤光。

还可以理解的是，滤光层103的宽度可以与平坦层102的通孔1021的宽度相等，或者滤光层103的宽度小于平坦层102的通孔1021的宽度，或者滤光层103的宽度大于平坦层102的通孔1021的宽度。

还可以理解的是，在实际设计中，可以根据设计要求设计合适的滤光层103宽度、合适的黑矩阵层104宽度以及合适的平坦层102的开口的宽度，满足显示要求。比如满足相邻的像素坑不漏光等显示要求。

还可以理解的是，像素坑开口的宽度指的是像素坑开口靠近出光面的一端的宽度。通孔1021的宽度指的是通孔1021在平坦层102的靠近发光器件的表面的宽度。滤光层103的宽度指的是滤光层103靠近发光器件的表面的宽度。优选地，通孔1021的宽度大于或等于像素坑开口的宽度。在实际加工过程中，控制通孔1021的宽度大于或等于像素坑开口的宽度，使像素坑在与其对应的通孔1021处完全露出。优选地，滤光层103的宽度大于或等于像素坑开口的宽度。在实际加工过程中，控制滤光层103的宽度大于或等于像素坑开口的宽度，使像素坑在与其对应的滤光层103处完全露出。进一步地，滤光层103与像素坑的开口一一对应。

在一个具体的示例中，滤光层103的厚度和黑矩阵层104的厚度相等。具体地，滤光层103的厚度为1μm～10μm。比如，滤光层103的厚度可以是但不限定为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm。

通过滤光层103和黑矩阵层104的设置，能够使显示面板200在强光条件下具有良好的显示效果的基础上，大幅降低显示面板200的厚度，同时，还能有效提高显示面板200的折叠性能，避免折叠时折痕的产生，能够很好地应用于柔性显示中。

请参阅图3和图4，本发明还有一实施例提供了一种显示面板200。该显示面板200包括发光器件以及上述任一实施例或示例中的折光膜100，折光膜100覆盖于发光器件的出光面，平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口一一对应或者错位设置。请参阅图3，图3展示了平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口一一对应时的显示面板200的结构。请参阅图4，图4展示了平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口错位设置时的显示面板200的结构。在发光器件的出光面覆盖折光膜100，且平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口一一对应或者错位设置。这样可以更加方便地对光线进行控制，实现光线在预设位置的聚集或发散。

可以理解的是，发光器件包括像素界定层201以及由像素界定层201界定出的像素坑。像素坑分为红色像素坑2011、蓝色像素坑2012以及绿色像素坑2013。像素坑内设有发光层。对应地，红色像素坑2011内设有红色发光层，蓝色像素坑2012内设有蓝色发光层，绿色像素坑2013内设有绿色发光层。像素坑的开口朝向发光器件的出光面。在本实施例的显示面板200中，通过在发光器件的出光面设置折光膜100，且使折光膜100覆盖于发光器件的出光面，这样可以有效改善发光器件发出的光的折射角，降低发生全反射的光线的占比，使更多的光线能够出射到空气中，进而提高显示面板200的出光率。进一步地，通过平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口一一对应或者错位设置，可以方便地对光线进行控制，实现光线在预设位置的聚集或发散。

还可以理解的是，预设位置可以指光线需要聚集的位置，或者可以指光线需要发散的位置。在显示面板200的设计过程中，通过通孔1021和像素坑开口的配合，可以形成光线聚集和/或光线发散的预设位置。

比如，通孔1021与像素坑开口相互对应。此时，通孔1021和像素坑开口的位置关系可以表示为图3所示。在此条件下，像素坑内发出的光线在通孔1021处逸出到空气中时，可以使光线在通孔1021的位置聚集，使光线在通孔1021的位置具有更高的出光率，进而改善通孔1021处的显示效果，提高显示面板200上与像素坑对应位置的出光率。此时，显示面板200的出光示意图可以如图5所示。具体地，由红色像素坑2011发出的光经过通孔1021和光学胶层101之后，在通孔1021的位置进行一定程度的聚集，可以改善红色像素坑2011发光的显示效果。由蓝色像素坑2012发出的光经过通孔1021和光学胶层101之后，在通孔1021的位置进行一定程度的聚集，可以改善蓝色像素坑2012发光的显示效果。由绿色像素坑2013发出的光经过通孔1021和光学胶层101之后，在通孔1021的位置进行一定程度的聚集，可以改善绿色像素坑2013发光的显示效果。

再比如，通孔1021与像素坑开口相互错开。此时，通孔1021和像素坑开口的位置关系可以表示为图4所示。在此条件下，像素坑发出的光在经过通孔1021和光学胶层101之后进一步折射，表现显示面板200表面与像素坑对应的位置的光线具有一定的发散趋势，这样也可以调节像素坑发光的显示效果。

可以理解的是，在通孔1021和像素坑开口的位置关系中，通孔1021和像素坑开口可以部分对应，也可以一一对应，以对光线的聚集和发散位置进行灵活调节。即在通孔1021和像素坑开口位置进行设置时，可以使通孔1021和像素坑开口一一对应，也可以是通孔1021和像素坑开口部分对应而部分错开。优选地，通孔1021和像素坑开口相互一一对应，或者通孔1021和像素坑开口错位设置，进一步地，通孔1021和像素坑开口一一错位设置。即通孔1021与发光器件的像素坑的开口相互一一对应；或者通孔1021与发光器件的像素坑的开口错位设置。

还可以理解的是，在显示面板200的结构中，滤光层103与像素坑的开口一一对应。具体地，红色子滤光层1031与红色像素坑2011的开口对应，蓝色子滤光层1032与蓝色像素坑2012的开口对应，绿色子滤光层1033与绿色像素坑2013的开口对应。进一步地，滤光层103的宽度大于像素坑开口的宽度。

在一个优选的示例中，光学胶层101的一个表面和平坦层102的一个表面平齐，且光学胶层101的厚度大于平坦层102的厚度，光学胶层101较平坦层102更加远离发光器件。此时，光学胶层101和平坦层102平齐的表面附着于发光器件的出光面。

进一步地，请再次参阅图3或图4，显示面板200还包括封装层202，封装层202位于发光器件的出光面，封装层202较发光器件更加靠近折光膜100。

更进一步地，显示面板200还包括触控层203，触控层203位于发光器件和折光膜100之间。优选地，触控层203位于折光膜100和封装层202之间。

更进一步地，显示面板200还包括TFT层204，发光器件设于TFT层204的表面。

本发明还有一实施例提供了一种显示面板200的制备方法。该显示面板200的制备方法包括如下步骤：在发光器件的出光面附着上述折光膜100，其中，平坦层102的通孔1021与发光器件的像素坑的开口一一对应或者错位设置。

可以理解的是，平坦层102的通孔1021可以通过包括曝光、蚀刻等步骤的图形制作方法在平坦层102上形成通孔1021。

以下为具体实施例。

实施例1～实施例5、对比例1～对比例2

实施例1～实施例5、对比例1～对比例2的光学胶层中，填充介质及其质量百分数如表1所示，其中质量百分数为以占光学胶层的质量百分数计。光学胶层的折射率如表1所示。填充介质的粒径为10nm～50nm。

表1

由表1可知，与对比例1～2相比，实施例1～5的光学胶具有更高的折射率。TiO₂填充比ZrO₂填充对于折射率的提升效果更佳，受限于填充介质的性能，TiO₂填充的光学胶比ZrO₂填充的光学胶的透过率稍低。

实施例6

本实施例中显示面板的结构如图3所示，其出光示意图如图5所示。显示面板包括依次层叠设置的折光膜、触控层、封装层、具有像素坑的发光器件以及TFT层。像素坑分为红色像素坑、蓝色像素坑以及绿色像素坑。滤光层、平坦层的通孔以及像素坑开口一一对应。

其中，光学胶层为实施例3中的光学胶层。滤光层的厚度为5μm，光学胶层的厚度为20-30μm，平坦层的厚度为5μm，平坦层的折射率为1.1。通孔的宽度和像素坑开口的宽度相等，通孔的宽度为40μm。滤光层的宽度为45μm。

由图5可以看出，光线400在通孔处出现明显的折射，使光线在通孔处聚集，表现为光线在显示面板表面与像素坑对应的区域进行聚集。

对比例3

与实施例6相比，对比例3的不同之处在于，光学胶层为对比例1中的光学胶层。

对比例4

与实施例6相比，对比例4的不同之处在于，光学胶层中不添加填充介质。

对比例5

本对比例中显示面板300的结构及其出光示意图如图6所示。显示面板300包括依次层叠设置的平坦层305、触控层303、封装层302、具有像素坑的发光器件以及TFT层304。发光器件包括像素界定层301，像素界定层301界定出像素坑。像素坑分为红色像素坑3011、蓝色像素坑3012以及绿色像素坑3013。平坦层302上没有通孔。

其中，平坦层302的厚度为5μm，平坦层302的折射率为1.1。像素坑开口的宽度为40μm。

由图6可以看出，光线400在显示面板300表面与像素坑对应的区域并未聚集，且存在较多的光线发生全反射而无法出射到空气中。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。