阅读说明：本技术 用于在处理具有50nm或更小的线距尺寸的图案化材料时避免图案塌陷的包含硼型添加剂的组合物 (Compositions comprising boron-based additives for avoiding pattern collapse when processing patterned materials having line-space dimensions of 50nm or less ) 是由 S·奇霍尼 D·勒夫勒 M·布里尔 F·皮龙 L·恩格布莱希特 M·伯格勒 P·维尔克 于 2020-04-03 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种非水性组合物,其包含：(a)有机溶剂,(b)至少一种式I的添加剂：其中R～(1)、R～(2)、R～(3)和R～(4)独立选自C-(1)-C-(10)烷基、C-(1)-C-(11)烷基羰基、C-(6)-C-(12)芳基、C-(7)-C-(14)烷芳基和C-(7)-C-(14)芳烷基；n为0或1。(The present invention relates to a non-aqueous composition comprising: (a) an organic solvent, (b) at least one additive of formula I: wherein R is 1 、R 2 、R 3 And R 4 Is independently selected from C 1 ‑C 10 Alkyl radical, C 1 ‑C 11 Alkylcarbonyl group, C 6 ‑C 12 Aryl radical, C 7 ‑C 14 Alkylaryl and C 7 ‑C 14 Aralkyl group; n is 0 or 1.)