一种溢胶脱除剂及其制备方法和应用

文档序号:1766820 发布日期:2019-12-03 浏览:23次 >En<

阅读说明:本技术 一种溢胶脱除剂及其制备方法和应用 (Overflow glue remover and preparation method and application thereof ) 是由 谢武 杨改霞 何佳正 苏冬 于 2019-08-28 设计创作,主要内容包括:本发明涉及一种溢胶脱除剂的制备方法和应用。所述溢胶脱除剂由如下质量分数的组分组成:有机强碱10~35%;有机弱碱10~35%;主溶剂25~60%;助溶剂10~40%;表面活性剂0.5~10%;所述主溶剂为N-甲基吡咯烷酮或四氢呋喃中的一种或两种;所述助溶剂为乙二醇单甲醚或丙二醇甲醚中的一种或两种。本发明提供的溢胶脱除剂对环境污染小,使用寿命长,除胶快速、高效,不会损伤光学玻璃的表面精度,适用于电子产品(特别是手机)的摄像头的玻璃溢胶脱除,具有良好的应用前景。(The invention relates to a preparation method and application of an overflow glue remover. The overflow glue remover comprises the following components in percentage by mass: 10-35% of organic strong base; 10-35% of organic weak base; 25-60% of a main solvent; 10-40% of cosolvent; 0.5-10% of a surfactant; the main solvent is one or two of N-methyl pyrrolidone or tetrahydrofuran; the cosolvent is one or two of ethylene glycol monomethyl ether or propylene glycol methyl ether. The overflow glue remover provided by the invention has the advantages of small environmental pollution, long service life, quick and efficient glue removal, no damage to the surface precision of optical glass, suitability for removing glass overflow glue of a camera of an electronic product (particularly a mobile phone), and good application prospect.)

一种溢胶脱除剂及其制备方法和应用

技术领域

本发明属于化学涂料脱除剂技术领域,具体涉及一种溢胶脱除剂的制备方法和应用。

背景技术

光学设计中,常使用胶合镜片以减少镜片组数,降低装配难度。镜片在胶合过程中,胶合剂必须稍过量以确保镜片之间不出现气泡。多余的胶合剂粘合后会溢出到镜片侧面甚至镜片表面,影响镜片的装配,必须设法脱除。传统溢胶脱除剂通常采用挥发性的有机溶剂和助溶剂以及表面活性剂组成,虽然效果较好,但是因为其中包含挥发性有机溶剂等成分,存在污染环境;同时其挥发性溶剂的逃逸也会使得传统溢胶脱除剂会存在使用寿命短的问题。因此,开发一种脱除效果好,环境友好且使用寿命长的新型除胶剂具有重要的科学意义和应用价值。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中溢胶脱除剂污染环境、使用寿命短的缺陷和不足,提供一种溢胶脱除剂。本发明提供的溢胶脱除剂环境污染小,使用寿命长,除胶快速、高效,对光学玻璃表面精度没有损伤,特别适用于手机摄像头玻璃溢胶的脱除,具有良好的应用前景。

本发明的另一目的在于提供上述溢胶脱除剂的制备方法。

本发明的另一目的在于提供上述溢胶脱除剂在脱除剂在脱除冕类、火石类光学玻璃、蓝宝石玻璃等材质玻璃的溢胶中的应用。

为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:

一种溢胶脱除剂,由如下质量分数的组分组成:

所述主溶剂为N-甲基吡咯烷酮或四氢呋喃中的一种或两种;

所述助溶剂为乙二醇单甲醚或丙二醇甲醚中的一种或两种。

本发明选用碱剂和溶剂等组分的配合来实现溢胶的脱除。研究发现,利用碱剂和溶剂的配合可实现胶的溶胀:溶剂溶解溢胶,然后碱剂和溢胶相互作用使得溶剂渗透入溢胶的内部,进而使得溢胶溶胀,实现溢胶的脱除。但是碱剂的种类、碱剂和溶剂之间的配合作用将对除胶的效果、效率及基材的损伤等产生很大的影响。如果选用的溶剂溶解作用太强,碱剂碱性过强,碱剂与溢胶迅速反应,有利于溶剂渗透进入溢胶的内部,进而促使溢胶溶胀,实现溢胶的快速脱除,但其存在反应速度过快、过于激烈,导致无需脱除的胶也被溶胀,甚至损害基材的风险;如溶剂的溶解作用太弱,碱剂的碱性太弱,则不利于溶剂渗透进入溢胶的内部,不能实现溢胶的较好溶胀及脱除。

本发明通过对碱剂和溶剂的筛选,并通过各组分的协同配合,得到了使用寿命长,除胶速度快,对基材尤其是光学玻璃表面精度没有损伤的配方,其原理如下:本发明选用特定的主溶剂和助溶剂配合,对溢胶的溶解作用较为合适,然后利用有机强碱和有机弱碱配合,并通过控制两者的用量使得其与溢胶具有较为适宜的反应速度,然后在表面活性剂的配合下,主溶剂渗入溢胶的内部,使得溢胶溶胀,进而脱除;经试验,本发明提供的溢胶脱除剂可重复利用,使用寿命长,除胶快速高效,一般5min左右即可除去多余的溢胶;另外,该特定的主溶剂和助溶剂均不易挥发,环境污染小。

作为优选,所述溢胶脱除剂,由如下质量分数的组分组成:

更为优选地,所述溢胶脱除剂由如下质量分数的组分组成:

优选地,所述有机强碱为甲醇钠、甲醇钾、乙醇钠或乙醇钾中的一种或几种。

更为优选地,所述有机强碱为甲醇钠。

优选地,所述有机弱碱为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、三乙胺或羟乙基乙二胺的一种或几种。

更为优选地,所述有机弱碱为一乙醇胺。

优选地,所述表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚或脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸盐的一种或几种。

优选地,所述主溶剂为N-甲基吡咯烷酮。

优选地,所述助溶剂为乙二醇单甲醚。

上述溢胶脱除剂的制备方法,包括如下步骤:将有机强碱加入助溶剂中溶解,再依次加入主溶剂、有机弱碱和表面活性剂,搅拌即得所述溢胶脱除剂。

上述溢胶脱除剂在脱除冕类光学玻璃、火石类光学玻璃或蓝宝石玻璃的溢胶中的应用也在本发明的保护范围内。

本发明提供的溢胶脱除剂的使用方法如下:在常温下使用。将待除胶的基材(如光学镜头)浸泡在溢胶除胶剂中,待溢胶被清除后,将基材转移到去离子水中,清洗粘附在光学镜头表面的除胶剂,然后烘干,干燥,备用。溢胶除胶剂仍可继续用于处理下一批基材。

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:

本发明提供的溢胶脱除剂不含易挥发有机溶剂,环境污染小,使用寿命长,除胶速度快速高效,对光学玻璃表面精度没有损伤,特别适用于手机摄像头玻璃溢胶的脱除,具有良好的应用前景。

具体实施方式

下面结合实施例进一步阐述本发明。这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。下例实施例中未注明具体条件的实验方法,通常按照本领域常规条件或按照制造厂商建议的条件;所使用的原料、试剂等,如无特殊说明,均为可从常规市场等商业途径得到的原料和试剂。本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。

实施例1~12

实施例提供一种溢胶脱除剂,其配方如表1所示,通过如下制备方法得到:称量额定份数(每份为10g)的有机强碱,加入盛有特定份数的助溶剂的容器中搅拌,缓慢滴加特定份数的主溶剂,再依次加入有机弱碱和表面活性剂,制备成溶液,继续搅拌一段时间,待溶液形成均一、稳定相,包装备用。

表1实施例1~12提供的溢胶脱除剂的配方(份)

对比例1

本对比例提供一种溢胶脱除剂,除不选用有机强碱,选用的有机弱碱为24.5份以外,其余均与实施例1一致。

对比例2

本对比例提供一种溢胶脱除剂,除不选用有机弱碱,选用的有机强碱为24.5份以外,其余均与实施例2一致。

对比例3

本对比例提供一种溢胶脱除剂,除不选用表面活性剂外,其余均与实施例3一致。

对实施例1~12及对比例1~3提供的溢胶脱除剂的性能进行测试,具体过程如下:

在常温下,将待除胶的光学镜头浸泡在溢胶除胶剂(100mL)中,待溢胶被清除后,将蓝宝石玻璃光学镜头转移到去离子水中,清洗粘附在光学镜头表面的除胶剂,然后烘干,干燥,备用。

如表2为实施例1~12及对比例1~3提供的溢胶脱除剂的除胶效果。

表2实施例1~12及对比例1~3提供的溢胶脱除剂的效果对比

各实施例提供的的溢胶脱除剂可实现光学镜头上溢胶的较好脱除,且光学镜头无损伤;对比例1和3的脱除效果不佳;对比例2虽然可实现光学镜头上溢胶的较好脱除,但因碱性太强,会部分损伤光学镜头。

取实施例1的溢胶除胶剂进行重复利用。重复第15次时,80%的光学镜头上的溢胶被完全脱除;重复第30次时,70%的光学镜头上的溢胶被完全脱除。

综上,本发明提供的溢胶脱除剂不含易挥发有机溶剂,环境污染小,使用寿命长,可重复利用,除胶的速度快速高效,对光学玻璃表面精度没有损伤,特别适用于手机摄像头玻璃溢胶的脱除,具有良好的应用前景。

以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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