一种无叶片静态混合器

文档序号:177873 发布日期:2021-11-02 浏览:13次 >En<

阅读说明:本技术 一种无叶片静态混合器 (Bladeless static mixer ) 是由 李健 熊新海 陈兵华 于军华 于 2021-08-30 设计创作,主要内容包括:本发明涉及一种无叶片静态混合器,包括圆形顶板、密封圈和底座,圆形顶板的底面开设有用于安装密封圈的密封槽,底座的顶部设有圆形的用于嵌入圆形顶板的圆槽,圆槽内底面的中间开设有S型弯曲流体通道,底座的两头分别开设有与S型弯曲流体通道相连通的进液口和出液口,环绕S型弯曲流体通道的边缘设置的密封槽内嵌设有密封圈;本发明提供的无叶片静态混合器通过无叶片结构设计,减少了因叶片导致流体流到结构内产生的低流速区域,避免了因冲刷流速不够,导致的清洁清洗不达标现象。(The invention relates to a bladeless static mixer which comprises a circular top plate, a sealing ring and a base, wherein the bottom surface of the circular top plate is provided with a sealing groove for mounting the sealing ring; the bladeless static mixer provided by the invention reduces a low flow velocity area generated when fluid flows into the structure due to the blades through the design of the bladeless structure, and avoids the phenomenon that cleaning does not reach the standard due to insufficient scouring flow velocity.)

一种无叶片静态混合器

技术领域

本发明涉及一种制药技术领域,特别是涉及一种无叶片静态混合器。

背景技术

现有传统的静态混合器,其原料基本上采用传统的普通不锈钢材料,一是不耐高盐和氯离子,二是易生锈,三是容易析出离子,四是有叶片结构不利于清洁清洗,无法满足当前生物医药所需的耐受高盐和高氯离子的流体物料及制药级清洁清洗的需求。

现在行业普遍采用的静态混合器已不能满足现有制药级卫生型清洁清洗要求。针对以上问题,本发明提出一种无叶片结构设计,减少了因叶片导致流体流到结构内产生的低流速区域,避免了因冲刷流速不够,导致的清洁清洗不达标现象,完美解决上述遇到的问题。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明的目的是提供一种无叶片静态混合器。

本发明的无叶片静态混合器,包括圆形顶板、密封圈和底座,所述圆形顶板的底面开设有用于安装密封圈的密封槽,所述底座的顶部设有圆形的用于嵌入所述圆形顶板的圆槽,所述圆槽内底面的中间开设有S型弯曲流体通道,所述底座的两头分别开设有与所述S型弯曲流体通道相连通的进液口和出液口,环绕所述S型弯曲流体通道的边缘设置的所述密封槽内嵌设有所述密封圈。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做进一步的改进,所述圆槽的内底面上开设有四个下定位孔,所述圆形顶板上开设有四个分别与所述下定位孔一一相对应设置的上定位孔。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,所述上定位孔和下定位孔均为螺纹孔。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,还包括穿过所述上定位孔和下定位孔后用于固定所述圆形底板和底座的固定螺钉。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,分别位于所述底座两头的所述进液口和出液口处均一体成型的设置有接口端。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,圆形顶板上开设有一个指示槽。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,所述圆槽内底面上设有两个相对称布置并凸出所述内底面设置的定位桩,所述圆形顶板的底面上开设有用于固定所述定位桩的定位槽。

传统的静态混合器其材质都为普通不锈钢材料,内部是有叶片结构,遇上高盐或高氯离子流体物料易产生腐蚀和生锈,有叶片的结构在物料流体经过时,容易形成低流速区域,严重的会附着于低流速叶片接触面上,甚至污染物料,不能满足制药级卫生型清洁清洗要求,本发明采用了高分子聚合物材料,避免了腐蚀、生锈、离子析出等不良现象;无叶片结构设计,减少了因叶片导致流体流到结构内产生的低流速区域,避免了因冲刷流速不够,导致的清洁清洗不达标现象,完美解决上述遇到的问题。

上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1是本发明的无叶片静态混合器的结构示意图;

图2是图1的爆炸图。

1 圆形顶板 2 密封圈

3 底座 4 圆槽

5 S型弯曲流体通道 6 进液口

7 出液口 8 下定位孔

9 上定位孔 10 固定螺钉

11 接口端 12 指示槽

13 定位桩

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

图1和图2所示的一种无叶片静态混合器,包括圆形顶板1、密封圈2和底座3,所述底座3的顶部设有圆形的用于嵌入所述圆形顶板的圆槽4,所述圆槽4内底面的中间开设有S型弯曲流体通道5,所述底座3的两头分别开设有与所述S型弯曲流体通道5相连通的进液口6和出液口7,所述圆形顶板1底面上开设有用于环绕所述S型弯曲流体通道5边缘设置的密封槽,所述密封槽内嵌设有所述密封圈2,当给无叶片静态混合器内部流通物料之后,圆形底板1内部的S型弯曲流体通道5迫使物料在内部翻转,达到混合目的,同时,由于圆形顶板1上设有密封圈槽以及相适配的密封圈2,圆形顶板1和密封圈2均安装在圆槽4中,经安装固定后,防止物料外泄。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做进一步的改进,为了将圆形顶板1和密封圈3安装在圆槽4内,所述圆槽4的内底面上开设有四个下定位孔8,所述圆形顶板1上开设有四个分别与所述下定位孔8一一相对应设置的上定位孔9。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做更进一步的改进,为了更好的密封固定圆形顶板1和密封圈3,所述上定位孔9和下定位孔8均为螺纹孔。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做更进一步的改进,为了更好的密封固定圆形顶板1和密封圈3,,还包括穿过所述上定位孔9和下定位孔8后用于固定所述圆形底板1和底座3的固定螺钉10。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做进一步的改进,为了给无叶片静态混合器内部流通物料,分别位于所述底座3两头的所述进液口6和出液口7处均一体成型的设置有接口端11。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,为了从外部得知给无叶片静态混合器内部经由S型弯曲流体通道5流通物料的流通方向,圆形顶板1上开设有指示槽12。

对本发明提供的一种无叶片静态混合器做出更进一步的改进,所述圆槽4内底面上设有两个相对称布置并凸出所述内底面设置的定位桩13,所述圆形顶板1的底面上开设有用于固定所述定位桩13的定位槽。

实施例1

在具体实施过程中,通过无叶片静态混合器两端的进液口6和出液口7向内部的S型弯曲流体通道5内通入浓度分别为0.8mol/L(NH4)2SO4-0.01mol/LTris-HCl-0.001mol/LEDTA的混合用的稀释液,测得的pH值是7.14±0.1,电导值是120.2±5mS/cm,这样,在S型弯曲流体通道5内的物料流体经过时,不容易形成低流速区域,不容易析出离子,无叶片的静态混合机构,因此也不会附着于低流速叶片接触面上,能够满足制药级清洁清洗要求。

实施例2

在具体实施过程中,通过无叶片静态混合器两端的进液口6和出液口7向内部的S型弯曲流体通道5内通入浓度分别为0.35mol/L(NH4)2SO4-0.01mol/LTris-HCl-0.001mol/LEDTA的混合用的稀释液,测得的pH值是7.30±0.1,电导值是60±5mS/cm,这样,在S型弯曲流体通道5内的物料流体经过时,不容易形成低流速区域,不容易析出离子,无叶片的静态混合机构,因此也不会附着于低流速叶片接触面上,能够满足制药级清洁清洗要求。

实施例3

在具体实施过程中,通过无叶片静态混合器两端的进液口6和出液口7向内部的S型弯曲流体通道5内通入浓度分别为0.05mol/L NaCl-0.005mol/LNaHPO4-NaH2PO4的混合用的稀释液,测得的pH值是7.0±0.1,电导值是6.1±5mS/cm,这样,在S型弯曲流体通道5内的物料流体经过时,不容易形成低流速区域,不容易析出离子,无叶片的静态混合机构,因此也不会附着于低流速叶片接触面上,能够满足制药级清洁清洗要求。

实施例4

在具体实施过程中,通过无叶片静态混合器两端的进液口6和出液口7向内部的S型弯曲流体通道5内通入浓度分别为0.05mol/L NaCl-0.01mol/LTris-HCl-20μmol/L Cu2+的混合用的稀释液,测得的pH值是7.48±0.1,电导值是6.0±5mS/cm,这样,在S型弯曲流体通道5内的物料流体经过时,不容易形成低流速区域,不容易析出离子,无叶片的静态混合机构,因此也不会附着于低流速叶片接触面上,能够满足制药级清洁清洗要求。

本发明提供的一种无叶片静态混合器的优势在于:

传统的静态混合器其材质都为普通不锈钢材料,内部是有叶片结构,遇上高盐或高氯离子流体物料易产生腐蚀和生锈,有叶片的结构在物料流体经过时,容易形成低流速区域,严重的会附着于低流速叶片接触面上,甚至污染物料,不能满足制药级卫生型清洁清洗要求,本发明采用了高分子聚合物材料,避免了腐蚀、生锈、离子析出等不良现象;无叶片结构设计,减少了因叶片导致流体流到结构内产生的低流速区域,避免了因冲刷流速不够,导致的清洁清洗不达标现象,完美解决上述遇到的问题。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上仅是本发明的优选实施方式,并不用于限制本发明,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,此类改进和变型也应视为本发明的保护范围。

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