一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法

文档序号:1815005 发布日期:2021-11-09 浏览:27次 >En<

阅读说明:本技术 一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法 (Vertical wafer soaking and photoresist removing conversion mechanism and method ) 是由 魏猛 张爽 李冬海 于 2021-09-09 设计创作,主要内容包括:本发明涉及一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法,属于晶片制造技术领域。该机构包括固定安装板;第一升降装置安装在固定安装板上,第一升降装置安装有升降台,升降台安装有第一竖杆,第一竖杆穿过固定安装板并伸出;第二升降装置安装在升降台上,第二升降装置安装有第二竖杆,第二竖杆穿过固定安装板并伸出;晶片盒,晶片盒的外侧壁上设有第一凸块和第二凸块,第一凸块位于晶片盒的中部,第二凸块位于晶片盒的盒底,第一凸块铰接于第一竖杆的底端,第二凸块上铰接有一连接杆,连接杆与第二竖杆的底端铰接;浸泡槽安装在晶片盒的下方。该方法使用上述机构来去除晶片表面的光刻胶。通过上述结构,该机构以及方法能够更好地将晶片表面的光刻胶去除。(The invention relates to a vertical wafer soaking and photoresist removing conversion mechanism and a method, and belongs to the technical field of wafer manufacturing. The mechanism comprises a fixed mounting plate; the first lifting device is installed on the fixed installation plate, the first lifting device is provided with a lifting platform, the lifting platform is provided with a first vertical rod, and the first vertical rod penetrates through the fixed installation plate and extends out; the second lifting device is arranged on the lifting platform and provided with a second vertical rod, and the second vertical rod penetrates through the fixed mounting plate and extends out; the outer side wall of the wafer box is provided with a first lug and a second lug, the first lug is positioned in the middle of the wafer box, the second lug is positioned at the bottom of the wafer box, the first lug is hinged to the bottom end of a first vertical rod, the second lug is hinged to a connecting rod, and the connecting rod is hinged to the bottom end of a second vertical rod; the immersion tank is arranged below the wafer box. The method uses the above mechanism to remove the photoresist from the wafer surface. Through the structure, the mechanism and the method can better remove the photoresist on the surface of the wafer.)

一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法

技术领域

本发明属于晶片制造技术领域,特别涉及一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法。

背景技术

半导体领域中,晶片制作过程需要多种工艺,包括晶片表面的光刻胶层的去除。公知的晶片表面光刻胶层的去除,一种方法是直接利用高压或者低压有机溶剂喷洒到晶片表面,这样可能会破坏晶片,另外一种方法是首先将晶片放置到有机溶剂槽中进行静置浸泡,再利用高压或者低压喷头进行去除,这样做的去胶效果会大大提升,但对于有些粘连性较强的光刻胶层来讲,上述两种去除方法,都达不到理想的去胶效果。

发明内容

本发明提供一种垂直晶片浸泡去胶转换机构及方法,用于解决现有技术对晶片表面的光刻胶去除效果不理想的技术问题。

本发明通过下述技术方案实现:一种垂直晶片浸泡去胶转换机构,包括:

固定安装板;

第一升降装置,安装在所述固定安装板上,所述第一升降装置的升降端安装有升降台,所述升降台上安装有第一竖杆,所述第一竖杆朝下穿过所述固定安装板并伸出;

第二升降装置,安装在所述升降台上,所述第二升降装置的升降端安装有第二竖杆,所述第二竖杆朝下穿过所述固定安装板并伸出;

由侧壁以及盒底围设而成的晶片盒,所述晶片盒的外侧壁上设有第一凸块和第二凸块,所述第一凸块和所述第二凸块的连线与所述晶片盒的深度方向平行,所述第一凸块位于靠近所述晶片盒的中部的位置,所述第二凸块位于靠近所述晶片盒的盒底的位置,所述第一凸块铰接于所述第一竖杆的底端,所述第二凸块上铰接有一连接杆,所述连接杆与所述第二竖杆的底端铰接;

装有有机溶剂的浸泡槽,所述浸泡槽安装在所述晶片盒的下方;

第一状态,所述晶片盒的盒口朝向水平方向;

第二状态,所述晶片盒的盒口朝向上方。

进一步地,为了更好的实现本发明,所述固定安装板上设置有与所述第一竖杆适配的第一导向轴套和与所述第二竖杆适配的第二导向轴套,所述第一竖杆滑动插装于所述第一导向轴套,所述第二竖杆滑动插装于所述第二导向轴套。

进一步地,为了更好的实现本发明,所述晶片盒的侧壁以及盒底均开设有若干供有机溶剂流通的细孔。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述升降台上连接有第三竖杆,所述第三竖杆朝下穿过所述固定安装板并伸出,所述第三竖杆的底端连接有一活塞;

所述浸泡槽的内部设置有一呈竖直状态的隔板,所述浸泡槽的内腔通过所述隔板分隔为第一腔和用于浸泡所述晶片盒的第二腔,所述活塞与所述第一腔上下正对且所述活塞可在所述第一腔中做活塞运动,所述晶片盒与所述第二腔上下正对,所述隔板的底端开设有通道,所述通道连通所述第一腔和所述第二腔;

在所述晶片盒浸入到所述浸泡槽中的有机溶剂内时,所述活塞插入于所述第一腔。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述固定安装板上还设置有与所述第三竖杆适配的第三导向轴套,所述第三竖杆滑动插装于所述第三导向轴套。

进一步地,为了更好地实现本发明,还包括用于盖住所述第二腔的腔口的盖板,所述盖板铰接于所述浸泡槽的侧壁上,并且所述盖板上开设有对所述第一竖杆以及所述第二竖杆形成让位的让位缺口。

进一步地,为了更好地实现本发明,在所述盖板盖住所述第二腔的腔口时,所述盖板靠近所述第二腔内部的一侧板面为第一板面,所述盖板上与所述第一板面正对的一侧板面为第二板面,所述第一板面上可拆卸安装有一能够吸收有机溶剂的吸液板。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述盖板的所述第二板面上设置有把手。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述盖板为钢化玻璃制成的结构件。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述固定安装板上设置有用于辅助所述浸泡槽安装定位的准直机构。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述准直结构包括发光部件,所述发光部件设置固定安装板的底面上且该发光部件位于所述隔板的正上方。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述固定安装板的底面上开设有直槽,所述发光部件安装在所述直槽的槽底中部,所述直槽的槽口处还安装有透明的防护板。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述发光部件为LED灯珠,所述固定安装板的顶面上安装有蓄电池,所述LED灯珠通过线路与所述蓄电池电连接,所述线路上设置有开关,所述开关安装在所述固定安装板的顶面上。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述LED灯珠的数量为若干个,若干个所述LED灯珠呈一条直线排布组成灯组,并且若干个所述LED灯珠串联。

进一步地,为了更好地实现本发明,所述隔板的顶面设置有直长槽,所述直长槽位于所述直槽的正下方,并且所述直长槽的长度和宽度分别与所述直槽的长度和宽度相同。

本发明还提供一种垂直晶片浸泡去胶方法,使用上述垂直晶片浸泡去胶转换机构,所述方法包括:

在所述浸泡槽中装入能够取出晶片表面多余光刻胶的有机溶剂;

将待去胶的晶片装入处于所述第一状态的所述晶片盒中;

利用所述第二升降装置驱动所述第二竖杆下降以朝下推动所述第二凸块,从而驱动所述晶片盒绕所述第一竖杆的下端转动,直至所述晶片盒转换至所述第二状态;

利用所述第一升降装置驱动所述第二升降装置以及所述第一竖杆下降,从而驱动处于所述第二状态的晶片盒下降以浸入所述浸泡槽中的有机溶剂内;

利用所述第一升降装置驱动所述晶片盒在所述有机溶剂中做上下往复运动;

利用所述第一升降装置驱动所述第二升降装置以及所述第一竖杆上升,以带动所述晶片盒从所述有机溶剂中出来;

利用所述第二升降装置驱动所述第二竖杆上升以拉动所述第二凸块,从而驱动所述晶片盒绕所述第一竖杆的下端转动,直至所述晶片盒转换至所述第一状态;

取出所述晶片盒中的所述晶片。

本发明相较于现有技术具有以下有益效果:

本发明提供的垂直晶片浸泡去胶转换机构包括固定安装板;第一升降装置,安装在固定安装板上,第一升降装置的升降端安装有升降台,升降台上安装有第一竖杆,第一竖杆朝下穿过固定安装板并伸出;第二升降装置,安装在升降台上,第二升降装置的升降端安装有第二竖杆,第二竖杆朝下穿过固定安装板并伸出;由侧壁以及盒底围设而成的晶片盒,晶片盒的外侧壁上设有第一凸块和第二凸块,第一凸块和第二凸块的连线与晶片盒的深度方向平行,第一凸块位于靠近晶片盒的中部的位置,第二凸块位于靠近晶片盒的盒底的位置,第一凸块铰接于第一竖杆的底端,第二凸块上铰接有一连接杆,连接杆与第二竖杆的底端铰接;装有有机溶剂的浸泡槽,浸泡槽安装在晶片盒的下方;第一状态,晶片盒的盒口朝向水平方向;第二状态,晶片盒的盒口朝向上方。

通过上述结构,初始状态为第一状态,将晶片从晶片盒的盒口放入晶片盒,随后利用第二升降装置驱动第二竖杆下降,此时,由于第一竖杆的位置不变,因此晶片盒中部的位置不变,而上述晶片盒上的第二凸块位置下降,因此晶片盒绕第一竖杆的下端转动,直至晶片盒的盒口转至朝向上方,此时晶片盒处于上述第二状态,然后利用第一升降装置驱动升降台下降,升降台便会带动第一竖杆和第二竖杆同步先将,从而驱动晶片盒下降,直至晶片盒进入位于其下方的浸泡槽中并浸泡在装在浸泡槽中的有机溶剂里面,再然后利用第一升降装置驱动升降台做上下往复运动,从而通过第一竖杆和第二竖杆驱动晶片盒在有机溶剂里面做上下往复运动,此时,便可以对晶片盒中的晶片进行涮洗,涮洗一段时间后,利用第一升降装置驱动晶片盒上升而从有机溶剂里面出来,再然后利用d第二升降装置驱动第二竖杆上升,从而使得晶片盒的盒口再次朝向水平方向,也即使得晶片盒回复到第一状态,最后将晶片盒中的晶片取出即可。

通过该机构,不仅能够将晶片置入有机溶剂中进行浸泡,而且可驱动晶片在有机溶剂里面上下移动,从而对晶片进行涮洗,这样则可以更好地将晶片表面的光刻胶去除掉,因此本发明提供的机构对晶片表面的多余光刻胶的去除效果更好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的垂直晶片浸泡去胶转换机构处于第一状态时的主视结构示意图;

图2是本发明实施例提供的垂直晶片浸泡去胶转换机构处于第一状态时的侧视结构示意图;

图3是本发明实施例提供的垂直晶片浸泡去胶转换机构处于第二状态时的侧视结构示意图;

图4是本发明实施例中的晶片盒伸入浸泡槽时的结构示意图;

图5是本发明实施例中的活塞的工作原理图;

图6是本发明实施例中的准直机构的安装结构示意图。

图中:

1-固定安装板;101-直槽;2-第一升降装置;3-升降台;4-第一竖杆;5-第二升降装置;6-第二竖杆;7-晶片盒;8-第一凸块;9-第二凸块;10-连接杆;11-浸泡槽;111-第一腔;112-第二腔;12-第一导向轴套;13-第二导向轴套;14-第三竖杆;15-活塞;16-隔板;161-直长槽;17-第三导向轴套;18-盖板;19-吸液板;20-把手;21-防护板;22-LED灯珠;23-蓄电池;24-开关。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本发明的技术方案进行详细的描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式,都属于本发明所保护的范围。

实施例1:

本实施例提供一种垂直晶片浸泡去胶转换机构,用于解决现有技术对晶片表面多余光刻胶的去除效果不好的技术问题。该垂直晶片浸泡去胶转换机构包括固定安装板1、第一升降装置2、第二升降装置5、晶片盒7以及浸泡槽11,其中:

固定安装板1为一块平板,其用于固定连接在外物上,在固定安装板1上开设有第一通孔、第二通孔以及第三通孔。

第一升降装置2安装在固定安装板1上并位于固定安装板1的上方,可选地,本实施例中的第二升降装置5为线性模组或者气缸或者液压缸。在该第一升降装置2的升降端安装有一升降台3,升降台3便可以随第一升降装置2升降。在升降台3上焊接或者通过螺栓连接有一根第一竖杆4,该第一竖杆4为直杆,并且第一竖杆4的上端与升降台3的底面连接,而该第一竖杆4滑动穿接于上述第一通孔中,这样便使得上述第一竖杆4的下端朝下穿过固定安装板1并伸出,也即第一竖杆4的下端位于固定安装板1的下方。

第二升降装置5安装在升降台3上,可选地,本实施例中的第二升降装置5为气缸或者液压缸。在第二升降装置5的升降端安装有一根第二竖杆6,该第二竖杆6为直杆,并且第二竖杆6的上端与上述第二升降装置5的升降端连接在一起,并且该第二竖杆6滑动穿接在上述第二通孔中,这样便使得第二竖杆6的下端朝下穿过上述固定安装板1并伸出,也即第二竖杆6的下端位于固定安装板1的下方。

晶片盒7为一盒体结构,该晶片盒7由侧壁以及盒底围设而成,其具有盒口。在晶片盒7的外侧壁上焊接或者一体成型设有第一凸块8和第二凸块9,第一凸块8和第二凸块9的连线与上述晶片盒7的深度方向平行。上述第一凸块8位于靠近晶片盒7的中部的位置,上述第二凸块9位于靠近晶片盒7的盒底的位置。并且第一凸块8与上述第一竖杆4的底端铰接,第二凸块9上铰接有一根连接杆10,该连接杆10与上述第二竖杆6的底端铰接。这样,第一竖杆4、晶片盒7、连接杆10以及第二竖杆6则组成一曲柄连杆机构。通过上述结构,使得晶片盒7至少具有第一状态和第二状态。其中,第一状态下,晶片盒7的盒口朝向水平方向,以便于将晶片装入晶片盒7或者从晶片从晶片盒7中取出;第二状态下,晶片盒7的盒口朝向上方。

浸泡槽11为一槽体结构,其槽口位于顶端,在浸泡槽11的槽壁上设置有进液口和出液口,进液口和出液口均设置有节流阀。用于去除晶片表面多余光刻胶的有机溶剂从上述进液口进入浸泡槽11中,当需要排出浸泡槽11中的有机溶剂时,则将出液口的节流阀打开即可。该浸泡槽11安装在上述晶片盒7的下方。

借助上述结构,初始状态为第一状态,将晶片从晶片盒7的盒口放入晶片盒7,随后利用第二升降装置5驱动第二竖杆6下降,此时,由于第一竖杆4的位置不变,因此晶片盒7中部的位置不变,而上述晶片盒7上的第二凸块9位置下降,因此晶片盒7绕第一竖杆4的下端转动,直至晶片盒7的盒口转至朝向上方,此时晶片盒7处于上述第二状态,然后利用第一升降装置2驱动升降台3下降,升降台3便会带动第一竖杆4和第二竖杆6同步先将,从而驱动晶片盒7下降,直至晶片盒7进入位于其下方的浸泡槽11中并浸泡在装在浸泡槽11中的有机溶剂里面,再然后利用第一升降装置2驱动升降台3做上下往复运动,从而通过第一竖杆4和第二竖杆6驱动晶片盒7在有机溶剂里面做上下往复运动,此时,便可以对晶片盒7中的晶片进行涮洗,涮洗一段时间后,利用第一升降装置2驱动晶片盒7上升而从有机溶剂里面出来,再然后利用d第二升降装置5驱动第二竖杆6上升,从而使得晶片盒7的盒口再次朝向水平方向,也即使得晶片盒7回复到第一状态,最后将晶片盒7中的晶片取出即可。

通过该机构,不仅能够将晶片置入有机溶剂中进行浸泡,而且可驱动晶片在有机溶剂里面上下移动,从而对晶片进行涮洗,这样则可以更好地将晶片表面的光刻胶去除掉,因此本发明提供的机构对晶片表面的多余光刻胶的去除效果更好。

本实施例的一种可选实施方式如下:在上述固定安装板1上焊接或者一体成型设置有第一导向轴套12和第二导向轴套13,第一导向轴套12与第一竖杆4适配,第二导向轴套13与第二竖杆6适配,第一竖杆4滑动插装于第一导向轴套12,第二竖杆6滑动插装于第二导向轴套13。这样,则可以对第一竖杆4以及第二竖杆6的升降进行定位导向,避免第一竖杆4和第二竖杆6在升降时残生侧向偏移,从而增强运行稳定性。

本实施例的一种可选实施方式如下:上述晶片盒7的侧壁以及盒底均开设有若干细孔,以便有机溶剂流通。细孔的设置,使得有机溶剂不仅能够从晶片盒7的盒口进出晶片盒7,还可以从晶片盒7的侧壁以及盒底进出晶片盒7,在涮洗时,能够加大有机溶剂的流通量,从而起到更好的涮洗效果。

本实施例的一种可选实施方式如下:在上述升降台3上焊接或者通过螺栓连接有一根第三竖杆14,该第三竖杆14为一根直杆,第三竖杆14的上端与升降台3的底面连接在一起,并且该第三竖杆14穿接在上述第三通孔中,这样便是的第三竖杆14的下端朝下穿过上述固定安装板1并伸出,也即第三竖杆14的下端位于固定安装板1的下方。在第三竖杆14的下端连接有一活塞15,该活塞15粘接在第三竖杆14的下端,并且该活塞15是不会与有机溶剂产生化学反应的材料,具体地,活塞15的制造材料与上述浸泡槽11的制造材料相同。

在上述浸泡槽11的内部卡接或者焊接有一块呈竖直状态的隔板16,该隔板16将浸泡槽11的内腔分隔为第一腔111和用于浸泡晶片盒7的第二腔112。上述活塞15与上述第一腔111适配,并且活塞15与第一腔111上下正对,而且活塞15可在上述第一腔111中做活塞15运动。上述晶片盒7与上述第二腔112上下正对,浸泡时,上述晶片盒7伸入第二腔112中。

在上述隔板16的底端设置有通道,该通道连通第一腔111和第二腔112。并且,在晶片盒7浸入上述浸泡槽11中的有机溶剂时,上述活塞15插入上述第一腔111中。也即在晶片盒7没有浸入浸泡槽11中的有机溶剂时,上述活塞15悬吊于第一腔111的正上方。

通过上述结构,当晶片盒7侵入第二腔112中的有机溶剂时,上述活塞15插入第一腔111中,当升降台3驱动晶片盒7完全浸入第二腔112中时,活塞15在升降台3的作用下也将继续于第一腔111中下压,从而使得第一腔111中的压力上升,进而驱使第一腔111中的有机溶剂浸入第二腔112中。这样节省晶片盒7从浸入有机溶剂到被有机溶剂完全浸泡所需时间。需要说明的是,在初始状态时,第一腔111中的有机溶剂液面与第二腔112中的有机溶剂液面齐平。并且,在第一升降装置2驱动升降台3带动晶片盒7在有机溶剂中做上下往复运动时,升降也将带动活塞15在第一腔111中做上下往复运动,活塞15在第一腔111中做上下往复运动时,则会驱使第一腔111中的有机溶剂进出第二腔112,也即驱动第二腔112中的有机溶剂的量发生变化,在此过程中,第二腔112中的有机溶剂液面时而上升时而下降,以此方式来扰动第二腔112中的有机溶剂,从而进一步加快第二腔112中的有机溶剂的流动速率,进而加快上述细孔中的有机溶剂流通速率,这样,在单位时间内,将会有更多的有机溶剂进出上述晶片盒7,从而更好地对晶片盒7中的晶片进行涮洗。

本实施例的一种可选实施方式如下:在上述固定安装板1上还设置有第三导向轴套17,第三竖杆14滑动插装于第三导向轴套17。这样,则可以对第三竖杆14的升降进行定位导向,避免第三竖杆14在升降时残生侧向偏移,从而增强运行稳定性。

本实施例的一种可选实施方式如下:在上述浸泡槽11的侧壁上铰接有一块能够盖住上述第二腔112的腔口的盖板18。需要说明的是,该第二腔112的腔口实际上属于上述浸泡槽11的槽口的一部分。在该盖板18上还开设有让位缺口,以对上述第一竖杆4和第二竖杆6形成让位。

初始状态下,上述盖板18并未盖住上述第二腔112的腔口。当晶片盒7进入了上述浸泡槽11后,将盖板18转至盖在上述第二腔112的腔口,并使得第一竖杆4和第二竖杆6位于卡入上述让位缺口。

借助该盖板18,在对晶片盒7中的晶片进行涮洗时,盖板18能够挡住从第二腔112的腔口中溅出的有机溶剂,减小有机溶剂的浪费,并且可避免有机溶剂落在其余地方而污染环境。

定义在盖板18盖住上述第二腔112的腔口时,盖板18上靠近第二腔112内部的一侧板面为第一板面,盖板18上与第一板面正对的一侧板面为第二板面。在上述第一板面上粘接或者通过螺丝安装有一块能够吸收有机溶剂的吸液板19,譬如海绵板或者活性炭板。在对晶片进行涮洗时,溅起的有机溶剂将不会直接附着在第一板面上,而是被上述吸液板19吸附住,这样,则可以避免在盖板18开启时,盖板18上的有机溶剂外流。

可选地,在上述第一板面上螺接或者粘接有把手20,以便于使用者操控盖板18转动。并且,该盖板18为钢化玻璃制成的结构件,当盖板18盖住上述第二腔112的腔口时,使用者可以透过透明的盖板18看到浸泡槽11内的情况。

实施例2:

本实施例提供一种垂直晶片浸泡去胶转换机构,该实施例提供的垂直晶片浸泡去胶转换机构在实施例1的基础上作进一步改进优化。

具体地,在上述固定安装板1上设置有准直机构,用于辅助浸泡槽11安装定位。由于整个装置运行的过程中,活塞15需进出第二腔112,并且活塞15在第二腔112中需做活塞运动,因此需对浸泡槽11进行精准定位安装,以便活塞15在升降的过程中能够准确进入第二腔112。基于此,在上述固定安装板1上设置准直机构,用于浸泡槽11的安装定位,以使得浸泡槽11安装好之后,其内的第二腔112的腔口正好位于活塞15的正下方。

可选地,本实施例中的准直结构为发光部件,该发光部件设置在固定安装板1的底面上且该发光部件位于隔板16的正上方。发光部件发出光线,借助光线的直线传播原理,发光部件发出的光线将会在隔板16的顶面上照射出光斑,以光斑作为参考物,从而对浸泡槽11进行定位。具体地,在固定安装板1的底面上开设有直槽101,发光部件安装在直槽101的槽底中部,直槽101的槽口处还安装有透明的防护板21,借助防护板21,可以对发光部件进行防护,从而保护发光部件,延长发光部件的使用寿命。

可选地,本实施例中的发光部件为LED灯珠22,在固定安装板1的顶面上安装有蓄电池23,LED灯珠22通过线路与蓄电池23电连接,线路上设置有开关24,开关24安装在所述固定安装板1的顶面上。安装时,通过开关24导通线路,LED灯珠22与蓄电池23电连接而发光。安装完成后,通过开关24断开线路。这样可以节省能源。LED灯珠22的数量为若干个,若干个LED灯珠22呈一条直线排布组成灯组,并且若干个LED灯珠22并联。这样可增强发光强度,并且若干个LED灯珠22并联设置,在某一个LED灯珠22坏掉之后,其余的LED灯珠22还能正常使用。

可选地,在隔板16的顶面设置有直长槽161,直长槽161位于直槽101的正下方,并且直长槽161的长度和宽度分别与直槽101的长度和宽度相同。这样,从上直槽161中射出的光线在隔板16上照射出来的光斑将会落在上述直长槽161内,这样可进一步方便使用者判断浸泡槽11是否安装到位。

实施例3:

本实施例提供一种垂直晶片浸泡去胶方法,其使用实施例1提供的直晶片浸泡去胶转换机构来取出晶片表面多余的光刻胶。该方法包括:

步骤1:在浸泡槽11中装入能够取出晶片表面多余光刻胶的有机溶剂;

步骤2:将待去胶的晶片装入处于上述第一状态的晶片盒7中;

步骤3:利用第二升降装置5驱动第二竖杆6下降以朝下推动第二凸块9,从而驱动晶片盒7绕第一竖杆4的下端转动,直至晶片盒7转换至上述第二状态;

步骤4:利用第一升降装置2驱动第二升降装置5以及第一竖杆4下降,从而驱动处于上述第二状态的晶片盒7下降以浸入浸泡槽11中的有机溶剂内;

步骤5:利用第一升降装置2驱动晶片盒7在有机溶剂中做上下往复运动,从而对晶片盒7中的晶片进行涮洗;

步骤6:利用第一升降装置2驱动第二升降装置5以及第一竖杆4上升,以带动晶片盒7从有机溶剂中出来;

步骤7:利用第二升降装置5驱动第二竖杆6上升以拉动第二凸块9,从而驱动晶片盒7绕第一竖杆4的下端转动,直至晶片盒7转换至上述第一状态;

步骤8:取出晶片盒7中的晶片。

通过上述方法,不仅能够将晶片置入有机溶剂中进行浸泡,而且可驱动晶片在有机溶剂里面上下移动,从而对晶片进行涮洗,这样则可以更好地将晶片表面的光刻胶去除掉。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明记载的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

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