具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。

＜层叠体＞

图1示出本发明的一个方式的层叠体(光学层叠体)的示意剖视图。层叠体100依次具备第1保护层10、第1粘合剂层11、夹设涂层12、第2粘合剂层13和第2保护层14。各层相互接触。以下，有时将第1粘合剂层11和第2粘合剂层13统称为粘合剂层。

层叠体100的厚度根据层叠体所要求的功能和层叠体的用途等而不同，因此没有特别限定，例如为30μm～1000μm，优选为40μm～500μm，更优选为50μm～300μm。

层叠体100的俯视形状例如可以为方形形状，优选为具有长边和短边的方形形状，更优选为长方形。层叠体100的面方向的形状为长方形时，长边的长度例如可以为10mm～1400mm，优选为50mm～600mm。短边的长度例如为5mm～800mm，优选为30mm～500mm，更优选为50mm～300mm。构成层叠体的各层中，可以对角部进行圆角加工，或者对端部进行切口加工，或者进行穿孔加工。

层叠体100例如能够用于显示装置等。显示装置没有特别限定，例如可举出有机电致发光(有机EL)显示装置、无机电致发光(无机EL)显示装置、液晶显示装置、场致发光显示装置等。显示装置可以具有触摸面板功能。

[粘合剂层的评价参数]

在层叠体100中，将第1粘合剂层11的温度25℃下的储能模量设为G’1〔kPa〕，将第2粘合剂层13的温度25℃下的储能模量设为G’2〔kPa〕，将第1粘合剂层11的厚度设为a1〔μm〕，将第2粘合剂层13的厚度设为a2〔μm〕时，下述式(1)和式(2)表示的评价参数A1和A2满足下述式(3)和式(4)。

A1＝G’1/a1 (1)

A2＝G’2/a2 (2)

A1+A2≤230 (3)

A2－A1≥0 (4)

粘合剂层的储能模量和层的厚度按照据后述的实施例一栏中记载的测定方法进行测定。

层叠体100优选满足下述式(3’)：

A1+A2≤130(3’)。

层叠体100优选满足下述式(4’)：

A2－A1≥100(4’)。

这样的层叠体100即使使第1保护层10为内侧进行弯曲，也不易在夹设涂层12产生裂纹，即弯曲性优异。如果包含涂层的层叠体进行反复弯曲，则有时在涂层中产生裂纹。在层叠体100中，第1粘合剂层11和第2粘合剂层13的评价参数A1和A2分别是储能模量越高而越大，层的厚度越薄而越大。即，A1和A2越大，粘合剂层越有变硬的趋势，A1和A2越小，粘合剂层越有变软的趋势。本发明人等发现，在使层叠体弯曲时，以弯曲轴为基准，如果涂层与相对硬的粘合剂层的外侧邻接，则涂层的拉伸应力增加，容易产生裂纹。发现相反地在使层叠体弯曲时，以弯曲轴为基准，如果涂层与相对硬的粘合剂层的内侧邻接，则涂层的拉伸应力降低，不易产生裂纹。因此，可知在第1粘合剂层11和第2粘合剂层13满足上述式(3)和式(4)的情况下，夹在它们之间的夹设涂层12的拉伸应力不易上升，即使使第1保护层为内侧进行反复弯曲，也可抑制裂纹的产生。

在本说明书中，弯曲包含在弯曲部分形成有曲面的折弯的形态。在折弯的形态下，折弯的内表面的弯曲半径没有特别限定。另外，弯曲包含内表面的弯折角大于0度且小于180度的弯折的形态以及内表面的弯曲半径近似为零或内表面的弯折角为0度的折叠的形态。

根据本发明的层叠体，能够将涂层的耐裂纹性提高到即使按照后述的实施例一栏中记载的试验方法以弯曲半径1mm反复弯曲20万次以上也不会产生裂纹的程度。在本发明中，在涂层产生的裂纹包含在涂层产生的龟裂和涂层与粘合剂层之间的剥离等。

第1粘合剂层11由第1粘合剂组合物形成，第2粘合剂层13由第2粘合剂组合物形成。作为以第1粘合剂层11和第2粘合剂层13的评价参数A1和A2满足式(3)和式(4)的方式制备第1粘合剂组合物和第2粘合剂组合物的方法，例如可举出由后述的粘合剂组合物构成粘合剂层，或者变更构成后述的(甲基)丙烯酸系聚合物的单体的种类，或者调节(甲基)丙烯酸系聚合物的分子量，或者调整粘合剂层的厚度的方法以及它们的组合的方法等。

[第1粘合剂层]

在层叠体具有粘合剂层、涂层、粘合剂层按照该顺序相互接触的结构时，将其中的一个粘合剂层作为第1粘合剂层11。第1粘合剂层11可以为下述的粘合剂层。

第1粘合剂层11的温度25℃下的储能模量G’1通常为10kPa以上，优选为30kPa以上。第1粘合剂层11的温度25℃下的储能模量G’1通常为10000kPa以下，更优选为5000kPa以下，进一步优选为1000kPa以下。粘合剂层的储能模量按照后述的实施例一栏中记载的方法进行测定。如果储能模量G’1过小，则存在层叠体的加工性降低的趋势，例如切削加工时粘合剂的端部从层叠体脱落(脱浆)，难以将剥离膜剥离，或者层叠体容易产生污垢。如果储能模量G’1过大，则存在层叠体的弯曲性降低的趋势。

第1粘合剂层11的厚度a1可以为1μm以上，优选为3μm以上。第1粘合剂层11的厚度a1可以为100μm以下，优选为50μm以下。

[第2粘合剂层]

层叠体具有粘合剂层、涂层、粘合剂层按照该顺序相互接触的结构时，将一个粘合剂层视为第1粘合剂层11时将与第1粘合剂层11不同的粘合剂层作为第2粘合剂层13。第2粘合剂层13可以为下述的粘合剂层。

第2粘合剂层13的温度25℃下的储能模量G’2通常为10kPa以上，优选为30kPa以上。第2粘合剂层13的温度25℃下的储能模量G’2通常为10000kPa以下，更优选为5000kPa以下，进一步优选为1000kPa以下。粘合剂层的储能模量按照后述的实施例一栏中记载的方法进行测定。如果储能模量G’2过小，则存在层叠体的加工性降低的趋势，例如切削加工时粘合剂的端部从层叠体脱落(脱浆)，难以将剥离膜剥离，或者层叠体容易产生污垢。如果储能模量G’2过大，则存在层叠体的弯曲性降低的趋势。

第2粘合剂层13的厚度a2可以为1μm以上，优选为3μm以上。第2粘合剂层13的厚度a2可以为100μm以下，优选为50μm以下。

[夹设涂层]

层叠体具有粘合剂层、涂层和粘合剂层按照该顺序相互接触的结构时，将夹设于第1粘合剂层11与第2粘合剂层13之间且与第1粘合剂层11和第2粘合剂层13接触的涂层作为夹设涂层12。涂层为包括涂布涂布液的工序而形成的除粘合剂层以外的层。夹设涂层12可以包含起偏器层、相位差层、触摸传感器面板、粘接剂层或着色层，优选包含下述的起偏器层、相位差层或触摸传感器面板。着色层可以为遮蔽配置于图像显示装置的非显示区域的布线等的层。通过在层叠体的周缘配置着色层，能够抑制漏光，另外，由于着色层被视认为边框，因此能够提高设计性。

涂布方法包含涂布法、打印法、蒸镀法等。作为涂布法，可举出棒涂法、刀涂法、刮板涂布法、模涂法、直接凹版涂布法、反向凹版涂布法、辊涂法，CAP涂布法、旋涂法、喷涂法、丝网涂布法、狭缝涂布法、浸涂法等。作为印刷法，可举出胶版印刷法、凹版印刷法、丝网印刷法、喷墨印刷法等。作为蒸镀法，可举出溅射法、物理蒸镀法(PVD)、化学蒸镀法(CVD)、等离子体CVD(PECVD)等。

夹设涂层12由1层以上构成。各层的厚度通常为5μm以下。各层的厚度通常为0.01μm以上。夹设涂层12的厚度优选为1μm～20μm，可以是10μm以下。夹设涂层12包含起偏器层时，夹设涂层12的厚度例如为1μm～15μm。夹设涂层12包含相位差层时，夹设涂层12的厚度例如为1μm～8μm。夹设涂层12包含触摸传感器面板时，夹设涂层12的厚度例如为15μm以下。

[第1保护层]

将层叠体的一部分、并且与第1粘合剂层11接触且存在于与夹设涂层12侧相反的一侧的结构部分整体作为第1保护层10。在夹着第1粘合剂层11而在与夹设涂层12侧相反的一侧存在多个层时，将其全部作为第1保护层10。第1保护层10可以包含下述的前面板、基材膜、粘合剂层、起偏器层、相位差层、触摸传感器面板、贴合层、背面板等中的1个以上。第1保护层10优选包含前面板。

[第2保护层]

将层叠体的一部分，并且与第2粘合剂层13接触且存在于与夹设涂层12侧相反的一侧的结构部分整体作为第2保护层14。在夹着第2粘合剂层13而在与夹设涂层12侧相反的一侧存在多个层时，将其全部作为第2保护层14。第2保护层14可以包含下述的基材膜、粘合剂层、起偏器层、相位差层、触摸传感器面板、贴合层、背面板等中的1个以上。第2保护层14优选包含背面板。

在层叠体中存在多个粘合剂层、涂层和粘合剂层按照该顺序相互接触的结构时，第1保护层10、第1粘合剂层11、夹设涂层12、第2粘合剂层13和第2保护层14可以通过多个模式来认定。例如层叠体100由前面板/粘合剂层I/涂层I/粘合剂层II/涂层II/粘合剂层III/背面板构成时(“/”是指相邻的层接触的意思。以下同样)，第1保护层10、第1粘合剂层11、夹设涂层12、第2粘合剂层13和第2保护层14可以通过两种模式来认定。即，可以认定为第1保护层10为前面板，第1粘合剂层11为粘合剂层I，夹设涂层12为涂层I，第2粘合剂层13为粘合剂层II，第2保护层14为涂层II/粘合剂层III/背面板。另一方面，也可以认定为第1保护层10为前面板/粘合剂层I/涂层I，第1粘合剂层11为粘合剂层II，夹设涂层12为涂层II，第2粘合剂层13为粘合剂层III，第2保护层14为背面板。在这样的情况下，在两个认定模式中，满足评价参数A1和A2所涉及的式(3)和式(4)的层叠体使第1保护层为内侧进行弯曲时，涂层中的裂纹的产生得到抑制。

以下，对可构成层叠体100的层进行说明。

(前面板)

前面板只要是能够透过光的板状体，材料和厚度就没有限定，另外，可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成。作为其例子，可举出树脂制的板状体(例如，树脂板、树脂片、树脂膜等)、玻璃制的板状体(例如，玻璃板、玻璃膜等)、后述的触摸传感器面板。前面板可以构成显示装置的最表面。

前面板的厚度例如可以是10μm～1000μm，优选为20μm～500μm，更优选为30μm～300μm。本发明中，各层的厚度可以按照后述的实施例中说明的厚度测定方法进行测定。

前面板为树脂制的板状体时，树脂制的板状体只要能够透过光就没有限定。作为构成树脂膜等树脂制的板状体的树脂，例如可举出三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、丙酰纤维素、丁酰纤维素、乙酰丙酰纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚(甲基)丙烯酸、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯缩醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的膜。这些高分子可以单独使用或者混合使用2种以上。从提高强度和透明性的观点出发，优选为由聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的树脂膜。

从提高硬度的观点出发，前面板优选在基材膜的至少一个面设置有硬涂层的膜。作为基材膜，可以使用由上述树脂形成的膜。硬涂层可以形成在基材膜的一个面，也可以形成在两个面。通过设置硬涂层，能够制成提高了硬度和耐刮擦性的树脂膜。硬涂层例如为紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂，例如可举出丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、聚酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、酰胺系树脂、环氧系树脂等。为了提高硬度，硬涂层也可以包含添加剂。添加剂没有限定，可举出无机系微粒、有机系微粒或者它们的混合物。

前面板为玻璃板时，玻璃板优选使用显示器用强化玻璃。玻璃板的厚度例如为10μm～1000μm，可以为50μm～500μm。通过使用玻璃板，能够构成具有优异的机械强度和表面硬度的前面板。

将层叠体100用于显示装置时，前面板不仅具有保护显示装置的前面(画面)的功能(作为窗膜的功能)，而且可以具有作为触摸传感器的功能、蓝光截止功能、视场角调整功能等。

从容易构成具有优异的弯曲性的层叠体100的观点出发，前面板的温度23℃的拉伸弹性模量优选为4.0GPa以上，进一步优选为5.0GPa以上。从容易构成具有优异的弯曲性的层叠体100的观点出发，前面板的温度23℃的拉伸弹性模量优选为20GPa以下，进一步优选为15GPa以下。拉伸弹性模量可通过下述的实施例一栏中记载的试验方法进行测定。

(基材膜)

基材膜例如可以由树脂膜构成，优选可以由透明树脂膜构成。树脂膜可以为长条的卷状树脂膜，可以为单片状树脂膜。从能够连续制造的方面考虑，优选长条的卷状树脂膜。

作为构成树脂膜的树脂，例如可举出聚乙烯，聚丙烯，降冰片烯系聚合物，环状烯烃系树脂等聚烯烃；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二醇酯；聚甲基丙烯酸酯；三乙酰纤维素，二乙酰纤维素和纤维素乙酸酯丙酸酯等纤维素酯；聚萘二甲酸乙二醇酯；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚；聚苯醚；聚酰胺；聚酰亚胺；聚酰胺酰亚胺等塑料。其中，优选环状烯烃系树脂、纤维素酯以及聚酰亚胺。

从层叠体100的薄膜化的观点出发，树脂膜的厚度越薄越优选，但如果太薄，则存在难以确保耐冲击性的趋势。树脂膜的厚度例如可以为10μm～200μm，优选为15μm～150μm，更优选为20μm～100μm。

在基材膜上可形成涂层。基材膜可以在至少一个表面具有硬涂层、防反射层或抗静电层。基材膜可以仅在未形成涂层的一侧的表面形成硬涂层、防反射层、抗静电层等。基材膜也可以仅在形成有涂层的一侧的表面形成硬涂层、防反射层、抗静电层等。

(粘合剂层)

粘合剂层是夹设于2个层之间并将它们贴合的层，例如可以是由粘合剂、粘接剂构成的层或者对该层实施某种处理而成的层。粘合剂也被称为压敏式粘接剂。本说明书中“粘接剂”是指除粘合剂(压敏式粘接剂)以外的粘接剂，可以与粘合剂明确区分。粘合剂层可以是1层，也可以由2层以上形成，但优选为1层。粘合剂层可以由粘合剂组合物形成。

粘合剂层可以由以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、有机硅系、聚乙烯醚系这样的树脂为主成分的粘合剂组合物构成。其中，优选以透明性、耐候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以是活性能量射线固化型、热固化型。

作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，例如优选使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯这样的(甲基)丙烯酸酯中的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。基础聚合物优选使极性单体共聚。作为极性单体，例如可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯这样的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。

粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物，但通常进一步含有交联剂。作为交联剂，可例示2价以上的金属离子且在羧基之间形成羧酸金属盐；多胺化合物且在与羧基之间形成酰胺键；聚环氧化合物、多元醇且在与羧基之间形成酯键；聚异氰酸酯化合物且在与羧基之间形成酰胺键。其中，优选聚异氰酸酯化合物。

活性能量射线固化型粘合剂组合物是指具有受到紫外线、电子束这样的活性能量射线的照射而固化的性质，并具有在活性能量射线照射前也具有粘合性而能够与膜等被粘物密合，通过活性能量射线的照射而固化，从而能够调整密合力的性质的粘合剂组合物。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物除基础聚合物、交联剂之外，还进一步含有活性能量射线聚合性化合物。可以进一步根据需要而含有光聚合引发剂、光敏剂等。

粘合剂组合物可以包含用于赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、除基础聚合物以外的树脂、粘合性赋予剂、填充剂(金属粉、其它无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。

粘合剂层可以通过将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布在基材上并使其干燥而形成。在使用活性能量射线固化型粘合剂组合物的情况下，通过对所形成的粘合剂层照射活性能量射线，能够制成具有期望的固化度的固化物。

粘合剂层的厚度例如优选为1μm～100μm，更优选为3μm～50μm，也可以为20μm以上。

(起偏器层)

作为起偏器层，可举出吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层、涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的层等。作为二色性色素，具体而言，可以使用碘、二色性的有机染料。二色性有机染料中包含由C.I.直接红39等双偶氮化合物构成的二色性直接染料，由三偶氮、四偶氮等化合物构成的二色性直接染料。

作为涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层，可举出涂布包含具有液晶性的二色性色素的组合物或包含二色性色素和聚合性液晶的组合物并使其固化而得到的层等包含聚合性液晶化合物的固化物的起偏器层。

涂布包含二色性色素和聚合性液晶的组合物并使其固化而成的起偏器层与吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层相比，在弯曲方向上没有限制，因此优选。

((作为拉伸膜或者拉伸层的起偏器层))

作为吸附有二色性色素的拉伸膜的起偏器层通常可以经由如下工序而制造：对聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸的工序；用二色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色，由此使该二色性色素吸附的工序；用硼酸水溶液对吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜进行处理的工序；以及在利用硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。

起偏器层的厚度例如为2μm～40μm。起偏器层的厚度可以是5μm以上，可以是20μm以下、进一步是15μm以下、再进一步是10μm以下。

聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，还可以使用乙酸乙烯酯与能够与其共聚的其它单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其它单体，例如可举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺类等。

聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，例如，也可以使用被醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1000～10000，优选为1500～5000。

作为吸附有二色性色素的拉伸层的起偏器层通常可以经由如下工序而制造：将包含上述聚乙烯醇系树脂的涂布液涂布在基材膜上的工序；对得到的层叠膜进行单轴拉伸的工序；用二色性色素对经单轴拉伸的层叠膜的聚乙烯醇系树脂层染色，由此使该二色性色素吸附而制成起偏器层的工序；用硼酸水溶液对吸附有二色性色素的膜进行处理的工序；以及在利用硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。

根据需要，可以从起偏器层剥离除去基材膜。基材膜的材料和厚度可以与后述的热塑性树脂膜的材料和厚度同样。

作为拉伸膜或拉伸层的起偏器层可以以在其单面或两面贴合有热塑性树脂膜的形态组装于层叠体。该热塑性树脂膜可以作为起偏器层用的保护膜、或者相位差膜发挥作用。热塑性树脂膜例如可以是由链状聚烯烃系树脂(聚丙烯系树脂等)、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂等)等聚烯烃系树脂；三乙酰纤维素等纤维素系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系树脂；聚碳酸酯系树脂；(甲基)丙烯酸系树脂；或它们的混合物等构成的膜。

从薄型化的观点出发，热塑性树脂膜的厚度通常为300μm以下，优选为200μm以下，更优选为100μm以下，进一步优选为80μm以下，更进一步优选为60μm以下，另外，通常为5μm以上，优选为20μm以上。

热塑性树脂膜可以具有相位差，也可以不具有相位差。

热塑性树脂膜例如可以使用粘接剂层而贴合于起偏器层。

((涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层))

作为涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层，可举出将包含具有液晶性的聚合性的二色性色素的组合物或包含二色性色素和聚合性液晶的组合物涂布在基材上并使其固化而得到的层等包含聚合性液晶化合物的固化物的起偏器层。

根据需要，可以从起偏器层剥离除去基材膜。基材膜的材料和厚度可以与上述的热塑性树脂膜的材料和厚度同样。

涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层可以以在其单面或两面贴合有热塑性树脂膜的形态组装于光学层叠体。作为热塑性树脂膜，可以使用与作为拉伸膜或拉伸层的起偏器层中可使用的热塑性树脂膜同样的热塑性树脂膜。热塑性树脂膜例如可以使用粘接剂层贴合于起偏器层。

涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层的厚度通常为10μm以下，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～5μm。

夹设涂层12可以包含例如涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物使其固化而成的起偏器层。夹设涂层12包含涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层时，基材膜被除去。夹设涂层12包含涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层时，热塑性树脂膜不贴合于起偏器层。夹设涂层12包含涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层时，夹设涂层12可以进一步包含作为涂层的一种的取向膜、保护层(具体可举出硬涂(OC)层、外涂(HC)层。)等。

(相位差层)

层叠体100可以包含1层或2层以上的相位差层。相位差层通常配置在起偏器层与背面板之间。相位差层可以介由第1粘合剂层11、第2粘合剂层13或这些层以外的由粘合剂或粘接剂构成的层(以下也称为贴合层)层叠在其它层(包含其它相位差层)上。

相位差层可以为λ/4板，λ/2板等正A板和正C板。相位差层可以是作为上述的保护膜的材料进行了例示的树脂膜，也可以是使聚合性液晶化合物固化而成的层。相位差层可以进一步包含取向膜、基材膜。相位差层的厚度例如为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～6μm。

将聚合性液晶化合物固化而成的相位差层可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布在基材膜上并使其固化而形成。可以在基材膜与涂层之间形成取向层。基材膜的材料和厚度可以与上述的热塑性树脂膜的材料和厚度同样。

将聚合性液晶化合物固化而成的相位差层可以以具有取向层和/或基材膜的形态组装于层叠体100。

夹设涂层12例如可以包含使聚合性液晶化合物固化而成的相位差层。夹设涂层12包含使聚合性液晶化合物固化而成的相位差层时，基材膜被除去。夹设涂层12包含使聚合性液晶化合物固化而成的相位差层时，夹设涂层12可以进一步包含作为涂层的一种的取向膜、保护层(具体可举出硬涂层、外涂层)等。

(触摸传感器面板)

触摸传感器面板只要是能够检测出被触摸的位置的传感器，检测方式就没有限定，可例示电阻膜方式、静电容量方式、光传感器方式、超声波方式、电磁感应耦合方式、表面声波方式等的触摸传感器面板。其中，从低成本、快速反应速度、薄膜化的方面出发，优选使用静电电容方式的触摸传感器面板。触摸传感器面板可以在透明导电层与支承该透明导电层的基材膜之间具备粘接层、分离层、保护层等。作为粘接层，可举出粘接剂层、粘合剂层。

作为支承透明导电层的基材膜，可举出在一个表面蒸镀形成有透明导电层的基材膜、介由粘接层转印有透明导电层的基材膜等。

静电容量方式的触摸传感器面板的一个例子由基材膜、设置于基材膜的表面的位置检测用的透明导电层以及触摸位置检知电路构成。在设置有具有静电容量方式的触摸传感器面板的光学层叠体的显示装置中，如果前面板的表面被触摸，则透明导电层在被触摸的点介由人体的静电容量而接地。触摸位置检知电路检知透明导电层的接地，检测出被触摸的位置。通过具有相互分离的多个透明导电层，能够进行更详细的位置检测。

透明导电层可以是由ITO等金属氧化物构成的透明导电层，也可以是铝、铜、银、金、或它们的合金等金属构成的金属层。透明电极层通过溅射法、印刷法、蒸镀法等涂布法形成。在透明电极层上形成光敏性抗蚀剂，其后通过光刻技术形成电极图案层。光敏性抗蚀剂使用负型光敏性抗蚀剂或正型光敏性抗蚀剂，图案化后光敏性抗蚀剂可残留，也可除去。在通过溅射法进行制膜的情况下，也可以配置具有电极图案形状的掩模进行溅射，形成电极图案层。

分离层是形成在玻璃等基板上、用于将形成在分离层上的透明导电层与分离层一起从基板分离的层。分离层优选为无机物层或有机物层。作为形成无机物层的材料，例如可举出硅氧化物。作为形成有机物层的材料，例如可举出(甲基)丙烯酸系树脂组合物、环氧系树脂组合物、聚酰亚胺系树脂组合物等。分离层可通过公知的涂布法涂布，通过热固化或UV固化或它们的组合的方法进行固化而形成。

保护层可设置成与透明导电层接触而保护导电层。保护层包含有机绝缘膜和无机绝缘膜中的至少一种，这些膜可通过旋涂法、溅射法、蒸镀法等涂布法形成。

绝缘层例如可由硅氧化物等无机绝缘物质、丙烯酸系树脂等透明有机物质形成。绝缘层可通过公知的涂布法涂布后，通过热固化、UV固化、热干燥、真空干燥等而形成。

作为触摸传感器面板的基材膜，可举出三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合物、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚烯烃、聚环烯烃、聚碳酸酯、聚醚砜、聚芳酯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚苯乙烯、聚降冰片烯等树脂膜。从容易构成具有期望的韧性的基材膜的观点出发，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯。

从容易构成具有优异的耐弯曲性的光学层叠体的观点出发，触摸传感器面板的基材膜的厚度优选为50μm以下，进一步优选为30μm以下。触摸传感器面板的基材膜的厚度例如为5μm以上。

触摸传感器面板例如可如下制造。在第1方法中，首先将基材膜介由粘接层层叠在基板上。在基材膜上形成通过光刻技术进行了图案化的透明导电层。通过加热将基板与基材膜分离，得到由透明导电层和基材膜构成的触摸传感器面板。基板只要是维持平坦性、具有耐热性的基板就没有特别限定，优选为玻璃基板。

在第2方法中，首先在基板上涂布形成分离层的材料，形成分离层。根据需要，在分离层上通过涂布来形成保护层。保护层可以以在形成有焊盘图案层的部分不形成保护层的方式形成。在分离层(或保护层)上形成通过光刻技术进行了图案化的透明导电层。在透明导电层上，以填埋电极图案层的方式形成绝缘层。在绝缘层上利用可剥离的粘合剂层叠保护膜，从绝缘层转印至分离层，分离基板。通过剥离可剥离的保护膜，得到依次具有绝缘层/透明导电层/(保护层)/分离层的触摸传感器面板。

包含基材膜时，触摸传感器面板的厚度例如可以为5μm～2000μm，也可以为5μm～100μm。

不包含基材膜时，触摸传感器面板的厚度例如为0.5μm～10μm，优选为5μm以下。

夹设涂层12例如可以包含通过第2方法制作的触摸传感器面板。

(贴合层)

贴合层是由粘合剂或粘接剂构成的层。贴合层例如可以是贴合前面板与触摸传感器面板的层、贴合前面板与偏振片的层、贴合偏振片与触摸传感器面板的层。构成贴合层的粘合剂可以是与对于构成粘合剂层的粘合剂组合物而例示的粘合剂相同的粘合剂，也可以是其它粘合剂，例如(甲基)丙烯酸系粘合剂、苯乙烯系粘合剂、有机硅系粘合剂、橡胶系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、聚酯系粘合剂、环氧系共聚物粘合剂等。

层叠体100可以具备1个贴合层，也可以具备2个以上。在层叠体100具备多个贴合层的情况下，多个贴合层相互可以相同，也可以不同。

作为构成贴合层的粘接剂，例如，可以将水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂、粘合剂等中的1种或2种以上组合而形成。作为水系粘接剂，例如可举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。作为活性能量射线固化型粘接剂，是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可举出包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、来自这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可举出包含通过照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的光聚合引发剂。

贴合层的厚度例如可以为1μm以上，优选为1μm～25μm，更优选为2μm～15μm，进一步优选为2.5μm～5μm。

(背面板)

作为背面板，可以使用能够透过光的板状体、通常的显示装置中使用的构成要素等。

背面板的厚度例如可以为5μm～2000μm，优选为10μm～1000μm，更优选为15μm～500μm。

作为背面板中使用的板状体，可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成，可以使用对上述的前面板中描述的板状体例示的板状体。

作为背面板中使用的通常的显示装置所使用的构成要素，例如可举出触摸传感器面板、有机EL显示元件等。作为显示装置中的构成要素的层叠顺序，例如可举出窗膜/圆偏振片/触摸传感器面板/有机EL显示元件、窗膜/触摸传感器面板/圆偏振片/有机EL显示元件等。

从容易构成具有优异的弯曲性的层叠体100的观点出发，背面板的温度23℃的拉伸弹性模量优选为4.0GPa以上，进一步优选为4.5GPa以上。从容易构成具有优异的弯曲性的层叠体100的观点出发，背面板的温度23℃的拉伸弹性模量优选为20GPa以下，更优选为15GPa以下。拉伸弹性模量可通过下述的实施例一栏中记载的试验方法进行测定。

[层叠体的制造方法]

层叠体100可以通过包括如下工序的方法而制造：介由粘合剂层、或者进一步介由粘接剂层将构成层叠体100的层彼此贴合。在介由粘合剂层、粘接剂层将层彼此贴合的情况下，为了提高密合性，优选对贴合面的一方或两方实施例如电晕处理等表面活化处理。

＜显示装置＞

本发明的显示装置包含上述本发明的层叠体100。显示装置没有特别限定，例如可举出有机EL显示装置、无机EL显示装置、液晶显示装置、场致发光显示装置等图像显示装置。显示装置可以具有触摸面板功能。光学层叠体适于能够弯曲或折弯等的具有挠性的显示装置。

显示装置中，光学层叠体使前面板朝向外侧(与显示元件侧相反的一侧，即视认侧)配置于显示装置所具有的显示元件的视认侧。

本发明的显示装置可用作智能手机、平板电脑等移动设备、电视、数码相框、电子标牌、测量仪器、仪表类、办公设备、医疗设备、电脑设备等。

实施例

以下，举出实施例进一步对本发明进行详细说明，本发明不限于这些。

＜由“基材膜/起偏器层”构成的层叠体＞

(基材膜)

作为基材膜，准备环烯烃聚合物(COP)膜(ZF-14，日本瑞翁株式会社制，厚度23μm)。

(起偏器层)

一边从辊卷卷出厚度30μm的长条的聚乙烯醇(PVA)原卷膜〔Kuraray株式会社制的商品名“Kuraray poval film VF-PE#3000”，平均聚合度2400，皂化度99.9摩尔％以上〕一边连续输送，以滞留时间31秒在由20℃的纯水构成的溶胀浴中浸渍(溶胀工序)。然后，将从溶胀浴拉出的膜以滞留时间122秒在碘化钾/水为2/100(重量比)的包含碘的30℃的染色浴中浸渍(染色工序)。接着，将从染色浴拉出的膜以滞留时间70秒在碘化钾/硼酸/水为12/4.1/100(重量比)的56℃的交联浴中浸渍，接下来，以滞留时间13秒在碘化钾/硼酸/水为9/2.9/100(重量比)的40℃的交联浴中浸渍(交联工序)。在染色工序和交联工序中，通过浴中的辊间拉伸进行纵向单轴拉伸。以原卷膜为基准的总拉伸倍率为5.4倍。接着，将从交联浴拉出的膜以滞留时间3秒在由5℃的纯水构成的清洗浴中浸渍(清洗工序)，接下来，导入可调节湿度的第1加热炉，由此以滞留时间190秒进行高温高湿处理(高温高湿处理工序)，得到厚度12.1μm的起偏器层(PVA)。

(粘接剂组合物)

将水：100重量份、聚乙烯醇树脂粉末(Kuraray株式会社制，平均聚合度18000，商品名：KL-318)：3重量份、聚酰胺环氧树脂(交联剂，住化Chemtex株式会社制，商品名：SR650(30))：1.5重量份进行混合，得到粘接剂组合物。

(由“基材膜/起偏器层”构成的层叠体的制作)

对起偏器层和基材膜实施电晕处理。电晕处理的条件为输出0.3kW、处理速度3m/分钟。其后，介由粘接剂组合物将它们贴合，在60℃干燥2分钟，由此得到由“基材膜/起偏器层”构成的层叠体。

＜由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体＞

(基材膜)

作为基材膜，准备三乙酰纤维素(TAC)膜(Konica Minolta株式会社制，厚度25μm)。

(取向膜形成用组合物)

聚合物1是具有由以下的结构单元构成的光反应性基团的聚合物。

根据GPC测定，得到的聚合物1的分子量显示数均分子量28200、Mw/Mn1.82，单体含量为0.5％。

使用将聚合物1以浓度5质量％溶解于环戊酮的溶液作为取向膜形成用组合物。

(聚合性液晶化合物)

聚合性液晶化合物使用式(1－6)表示的聚合性液晶化合物[以下，也称为化合物(1－6)]和式(1－7)表示的聚合性液晶化合物[以下，也称为化合物(1－7)]。

化合物(1－6)和化合物(1－7)利用Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays－Bas，115，321－328(1996)中记载的方法进行合成。

(二色性色素)

二色性色素使用下述式(2－1a)、(2－1b)、(2－3a)表示的日本2013－101328号公报的实施例中记载的偶氮色素。

(起偏器层形成用组合物)

起偏器层形成用组合物通过将化合物(1－6)75质量份，化合物(1－7)25质量份、作为二色性染料的上述式(2－1a)、(2－1b)、(2－3a)表示的偶氮色素各2.5质量份、作为聚合引发剂的2－二甲基氨基－2－苄基－1－(4－吗啉代苯基)丁烷－1－酮(Irgacure369，BASF Japan公司制)6质量份以及作为流平剂的聚丙烯酸酯化合物(BYK－361N，BYK－Chemie公司制)1.2质量份混合在溶剂的甲苯400质量份中，将得到的混合物在80℃搅拌1小时而制备。

(保护层(OC层)用组合物)

保护层用组合物是相对于水100质量份混合聚乙烯醇树脂粉末(Kuraray株式会社制，平均聚合度18000，商品名：KL－318)3质量份和聚酰胺环氧树脂(交联剂，住化Chemtex株式会社制，商品名：SR650(30))1.5质量份而制备的。

(由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体的制作)

对基材膜实施电晕处理。电晕处理的条件为输出0.3kW、处理速度3m/分钟。其后，利用棒涂法在基材膜上涂布取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜实施偏振光UV照射处理，形成第1取向膜。偏振光UV处理在使由UV照射装置(SPOT CURE SP－7；Ushio电机株式会社制)照射的光透过线栅(UIS－27132##，Ushio电机株式会社制)，在波长365nm测定的累积光量为100mJ/cm²的条件下进行。第1取向膜的厚度为100nm。

在形成的第1取向膜上利用棒涂法涂布起偏器层形成用组合物，在120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟后，冷却到室温。使用上述UV照射装置，以累积光量1200mJ/cm²(365nm基准)对干燥被膜照射紫外线，由此形成起偏器层。利用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定所得到的起偏器层的厚度，结果为1.8μm。以这样的方式得到由“基材膜/第1取向膜/起偏器层”构成的层叠体。

在形成的起偏器层上利用棒涂法涂布保护层(OC层)用组合物，以干燥后的厚度成为1.0μm的方式进行涂覆，在温度80℃干燥3分钟。以这样的方式得到由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体。

＜由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体＞

(基材膜)

作为基材膜，准备聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度100μm)。

(保护层(HC层)用组合物)

将18官能的具有丙烯酸基的树枝状丙烯酸酯(Miramer SP1106，Miwon)2.8质量份、6官能的具有丙烯酸基的氨基甲酸酯丙烯酸酯(Miramer PU－620D，Miwon)6.6质量份、光聚合引发剂(Irgacure－184，BASF)0.5质量份、流平剂(BYK－3530，BYK)0.1质量份以及甲乙酮(MEK)90质量份混合，制备保护层(HC层)用组合物。

取向膜形成用组合物、起偏器层形成用组合物以及保护层(OC层)用组合物分别使用上述＜由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体＞一项中记载的组合物。

(由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体的制作)

在基材膜上利用棒涂法涂布保护层(HC层)用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥3分钟。使用UV照射装置(SPOT CURE SP－7，Ushio电机株式会社制)对得到的干燥被膜照射曝光量500mJ/cm²(365nm基准)的UV光而形成保护层(HC层)。利用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定保护层(HC层)层的厚度，结果为2.0μm。以这样的方式得到由“基材膜/保护层(HC层)”构成的层叠体。

对由“基材膜/保护层(HC层)”构成的层叠体的保护层(HC层)侧实施1次电晕处理。电晕处理的条件为输出0.3kW、处理速度3m/分钟。其后，在保护层(HC层)上利用棒涂法涂布取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜实施偏振光UV照射处理，形成第1取向膜。偏振光UV处理是在使从UV照射装置(SPOT CURE SP－7；Ushio电机株式会社制)照射的光透过线栅(UIS－27132##，Ushio电机株式会社制)，在波长365nm测定的累积光量为100mJ/cm²的条件下进行。第1取向膜的厚度为100nm。

在形成的第1取向膜上利用棒涂法涂布起偏器层形成用组合物，在120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟后，冷却到室温。使用上述UV照射装置以累积光量1200mJ/cm ²(365nm基准)对干燥被膜照射紫外线，由此形成起偏器层。利用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定所得到的起偏器层的厚度，结果为1.8μm。以这样的方式得到由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层”构成的层叠体。

在形成的偏振层层上利用棒涂法涂布保护层(OC层)用组合物，以干燥后的厚度成为1.0μm的方式进行涂覆，在温度80℃干燥3分钟。以这样的方式得到由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体。

＜由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体＞

(基材膜)

作为基材膜，准备聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度100μm)。

作为取向膜形成用组合物，使用上述＜由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体＞一项中记载的取向膜形成用组合物。

(相位差层形成用组合物)

将下述所示的各成分混合，将得到的混合物在80℃搅拌1小时，由此得到相位差层形成用组合物。

下述式表示的化合物b－1：80质量份

下述式表示的化合物b－2：20质量份

聚合引发剂(Irgacure369，2－二甲基氨基－2－苄基－1－(4－吗啉代苯基)丁烷－1－酮，BASF Japan公司制)：6质量份

流平剂(BYK－361N，聚丙烯酸酯化合物，BYK－Chemie公司制)：0.1质量份

溶剂(环戊酮)：400质量份

(由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体的制作)

在基材膜上利用棒涂法涂布取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜实施偏振光UV照射处理而形成第2取向膜。偏振光UV处理使用上述UV照射装置，在以波长365nm测定的累积光量为100mJ/cm²的条件下进行。另外，以偏振光UV的偏振光方向相对于偏振层的吸收轴为45°的方式进行。以这样的方式得到由“基材膜/第2取向膜”构成的层叠体。第2取向膜的厚度为100nm。

在由“基材膜/第2取向膜”构成的层叠体的第2取向膜上利用棒涂法涂布相位差层形成用组合物，在120℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟后，冷却到室温。使用上述UV照射装置对得到的干燥被膜照射累积光量为1000mJ/cm²(365nm基准)的紫外线，由此形成相位差层。利用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定所得到的相位差层的厚度，结果为2.0μm。相位差层是在面内侧向显示λ/4的相位差值的λ/4板。以这样的方式得到由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体。

＜触摸传感器面板＞

在基板上涂布有机高分子膜，形成分离层。在分离层上涂布有机绝缘膜，形成保护层。在保护层上形成ITO透明电极层作为透明电极层，在其上形成感光性抗蚀剂。在其上通过光刻选择性地进行图案化，形成电极图案层。从电极图案层除去感光性抗蚀剂。在其上通过涂布形成绝缘层，得到触摸传感器面板。触摸传感器面板的绝缘层的上部暂时粘接保护膜，将分离层从基板剥离，得到由“触摸传感器面板/保护膜”构成的层叠体。触摸传感器面板的厚度为4.6μm。

＜粘合片＞

(粘合剂组合物A)

在具备冷却管、氮气导入管、温度计以及搅拌机的反应器中装入丙酮81.8质量份，丙烯酸丁酯98.6质量份，丙烯酸0.4质量份和丙烯酸2－羟基乙酯1.0质量份的混合溶液，用氮气置换装置内的空气而使其不含氧，同时将内温升到55℃。其后，全量添加将偶氮双异丁腈(聚合引发剂)0.14质量份溶于丙酮10质量份的溶液。添加聚合引发剂1小时后，以不包括单体的丙烯酸树脂的浓度成为35％的方式以添加速度17.3质量份/hr向反应器连续添加丙酮，同时在内温54～56℃保温12小时，最后添加乙酸乙酯，以丙烯酸树脂的浓度成为20％的方式调节丙烯酸树脂溶液A。

将丙烯酸树脂溶液A的不挥发成分量丙烯酸树脂：100质量份

异氰酸酯系化合物：0.4质量份

硅烷系化合物：0.5质量份

混合。以整体固体成分浓度成为10％的方式添加乙酸乙酯，得到粘合剂组合物A。

上述异氰酸酯系化合物使用甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物的乙酸乙酯溶液(固体成分浓度75％)(东曹株式会社制，“Coronate L”)。硅烷系化合物使用3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制，“KBM403”)。

(粘合片“A40”、“A25”、“A15”)

利用涂敷器以干燥后的厚度成为40μm的方式将得到的粘合剂组合物A涂布在经脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(轻剥离膜B，厚度38μm)的脱模处理面，在100℃干燥1分钟，得到具备粘合剂层的膜。其后，在粘合剂层上贴合经脱模处理的另一聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(重剥离膜A，厚度38μm)。其后，在温度23℃、相对湿度50％RH的条件下熟化7天，制作粘合片“A40”。

以干燥后的厚度成为25μm的方式进行涂布，除此以外，与“A40”同样地制作粘合片“A25”。

以干燥后的厚度成为15μm的方式进行涂布，除此以外，与“A40”同样地制作粘合片“A15”。

(粘合剂组合物B)

将单体组成变更为丙烯酸丁酯78.6份、甲基丙烯酸甲酯20份、丙烯酸0.4份以及丙烯酸2－羟基乙酯1.0份，除此以外，与丙烯酸树脂溶液A同样地得到丙烯酸树脂溶液B。

将丙烯酸树脂溶液B的不挥发成分量丙烯酸树脂：100质量份

异氰酸酯系化合物：0.5质量份

硅烷系化合物：0.5质量份

混合。以整体固体成分浓度成为10％的方式添加乙酸乙酯，得到粘合剂组合物B。异氰酸酯系化合物以及硅烷系化合物使用与粘合剂组合物A中使用的物质相同的物质。

(粘合片“B40”，“B25”，“B15”)

使用粘合剂组合物B，除此以外，与上述粘合片“A40”同样地制作干燥后的粘合剂层的厚度为40μm、25μm、15μm的粘合片“B40”、“B25”、“B15”。

(粘合剂组合物C)

将单体组成变更为丙烯酸丁酯61.0份、甲基丙烯酸甲酯37份、丙烯酸1.0份以及丙烯酸2－羟基乙酯1.0份，除此以外，与丙烯酸树脂溶液A同样地得到丙烯酸树脂溶液C。

将丙烯酸树脂溶液C的不挥发成分量丙烯酸树脂：100质量份

异氰酸酯系化合物：3.0质量份

硅烷系化合物：0.5质量份

混合。以整体固体成分浓度成为10％的方式添加乙酸乙酯，得到粘合剂组合物C。异氰酸酯系化合物和硅烷系化合物使用与粘合剂组合物A中使用的物质相同的物质。

(粘合片“C25”、“C15”、“C05”)

使用粘合剂组合物C，除此以外，与上述粘合片“A40”同样地制作干燥后的粘合剂层的厚度为25μm、15μm、5μm的粘合片“C25”、“C15”、“C05”。

根据下述对制作的粘合剂层测定储能模量以及层的厚度，求出评价参数A(储能模量/层的厚度)。评价参数A是A1和A2的总称。将结果示于表1。

[表1]

[层的厚度]

粘合剂层的厚度使用接触式膜厚测定装置(Nikon株式会社制“MS－5C”)进行测定。其中，起偏器层和取向膜使用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制“OLS3000”)进行测定。

[储能模量测定方法]

粘合剂层的温度25℃下的储能模量使用粘弹性测定装置(MCR－301，Anton Paar公司)进行测定。将厚度25μm的各粘合片裁切成宽度30mm×长度30mm。将剥离膜剥离，以厚度成为150μm的方式层叠多张并接合于玻璃板，然后，在与测定芯片粘接的状态下在－20℃～100℃的温度区域在频率1.0Hz、变形量1％、升温速度5℃/分钟的条件下进行测定，确认温度25℃下的储能模量。

＜前面板＞

作为前面板的窗膜，准备在单面具有硬涂层的聚酰亚胺膜(HC－PI膜，整体厚度：70μm，拉伸弹性模量5.6GPa)。

＜背面板＞

作为背面板，准备聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基板(厚度38μm，拉伸弹性模量4.5GPa)。

[拉伸弹性模量测定方法]

前面板和背面板的拉伸弹性模量如下测定。使用超级切割刀从前面板或背面板切出长边110mm×短边10mm的长方形的小片。接着，用拉伸试验机(岛津制作所株式会社制，Autograph AG-Xplus试验机)的上下夹具以夹具的间隔成为5cm的方式夹住上述测定用样品的长边方向两端，在23℃、相对湿度55％的环境下，以拉伸速度4mm/分钟沿测定用样品的长度方向拉伸测定用样品，根据得到的应力-应变曲线中的20MPa～40MPa之间的直线的斜率，算出23℃、相对湿度55％下的拉伸弹性模量。此时，用于算出应力的厚度通过上述记载的方法测定。

＜实施例1－1的层叠体的制造＞

从粘合片“A15”剥离轻剥离膜B，贴合于由“基材膜/起偏器层”构成的层叠体的起偏器层侧，得到层叠体A1。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体A1剥离重剥离膜A，贴合于由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体的相位差层侧，得到层叠体A2。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“B15”剥离轻剥离膜B，贴合于从层叠体A2剥离了相位差层的形成中使用的基材膜和第2取向膜的面，得到层叠体A3。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“A25”剥离轻剥离膜B，贴合于前面板的不具有硬涂层的一侧，得到层叠体A4。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体A4剥离重剥离膜A，贴合于层叠体A3中的起偏器层的形成中使用的基材膜侧，得到层叠体A5。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟。

从层叠体A5剥离重剥离膜A，贴合于背面板，得到如图2所示的实施例1－1的层叠体。图2中，从前面板到起偏器层为第1保护层10，起偏器层下的粘合剂层为第1粘合剂层11，相位差层为夹设涂层12，相位差层下的粘合剂层为第2粘合剂层13，背面板为第2保护层14。

＜实施例1－2的层叠体的制造＞

使用“B25”代替粘合片“A15”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例1－1同样地得到实施例1－2的层叠体。

＜比较例1－1的层叠体的制造＞

使用“C05”代替粘合片“A15”，使用“B25”代替“B15”，除此以外，与实施例1－1同样地得到比较例1－1的层叠体。

＜比较例1－2的层叠体的制造＞

使用“C15”代替粘合片“A15”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例1－1同样地得到比较例1－2的层叠体。

将实施例1－1、1－2、比较例1－1、1－2的层叠体中使用的粘合剂层汇总于表2。“A1+A2”、“A2－A1”的值如表2中记载所示。将对层叠体进行弯曲性试验而得的结果示于表2。

[弯曲性试验]

使用弯曲评价设备(Science Town公司制，STS-VRT-500)对层叠体进行确认弯曲性的评价试验。图6为示意性地表示本评价试验的方法的图。如图6所示，将能够分别移动的两个载置台501、502以间隙C成为2mm(弯曲半径1mm)的方式进行配置，使宽度方向的中心位于间隙C的中心，使第1保护层位于上侧而固定配置层叠体(图6(a))。然后，将位置P1和位置P2作为旋转轴的中心，使两个载置台501、502向上方旋转90度，在对应于载置台的间隙C的层叠体的区域附加弯曲力((图6(b))。其后，将两个载置台501，502返回到原来的位置(图6(a))。完成以上的一系列操作，将弯曲力的附加次数计为1次。在温度25℃下反复进行该操作，其后，确认在层叠体的对应于载置台501、502的间隙C的区域中的涂层中有无产生裂纹。

载置台501、502的移动速度、弯曲的力的施加步幅在对任一层叠体的评价试验中均为相同的条件。

A：弯曲力的附加次数即使达到30万，也未产生裂纹。

B：弯曲力的附加次数为20万以上且小于30万时产生了裂纹。

C：弯曲力的附加次数为10万以上且小于20万时产生了裂纹。

D：弯曲力的附加次数小于10万时产生了裂纹。

[表2]

表中，由粗框线围住的区城中上段为第1粘合剂层的评价参数A1，下段为第2粘合剂层的评价参数A2。

表2中，对于“A1+A2”，将“A1+A2≤130”设为“A”，将“130＜A1+A2≤230”设为“B”，将“230＜A1+A2≤260”设为“C”，将“260＜A1+A2”设为“D”。对于“A2－A1”，将“100≤A2－A1”设为“A”，将“0≤A2－A1＜100”设为“B”，将“－100≤A2－A1＜0”设为“C”，将“A2－A1＜－100”设为“D”。对以下的表也同样。

实施例1－1和1－2的层叠体的“A1+A2”为230以下，“A2－A1”为0以上。在这些层叠体中，抑制了涂层的裂纹的产生。另外，在“A1+A2”为130以下的实施例1－1的层叠体中，进一步抑制了裂纹的产生。另一方面，尽管使用了相同的涂层，但在“A2－A1”小于0的比较例1－1的层叠体、“A1+A2”大于230的比较例1－2的层叠体中，裂纹的产生没有得到抑制。

＜实施例2－1的层叠体的制造＞

从粘合片“C25”剥离轻剥离膜B，贴合于由“基材膜/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体的保护层(OC层)侧，得到层叠体B1。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体B1剥离重剥离膜A，贴合于由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体的相位差层侧，得到层叠体B2。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“C15”剥离轻剥离膜B，贴合于从层叠体B2剥离了相位差层的形成中使用的基材膜和第2取向膜的面，得到层叠体B3。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“A25”剥离轻剥离膜B，贴合于前面板的不具有硬涂层的一侧，得到层叠体B4。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体B4剥离重剥离膜A，贴合于层叠体B3中的起偏器层的形成中使用的基材膜侧，得到层叠体B5。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体B5剥离重剥离膜A，贴合于背面板，得到如图3所示的实施例2－1的层叠体。图3中，从前面板到保护层(OC层)为第1保护层10，保护层(OC层)下的粘合剂层为第1粘合剂层11，相位差层为夹设涂层12，相位差层下的粘合剂层为第2粘合剂层13，背面板为第2保护层14。

＜实施例2－2的层叠体的制造＞

使用“C05”代替粘合片“C15”，除此以外，与实施例2－1同样地得到实施例2－2的层叠体。

＜比较例2－1的层叠体的制造＞

使用“C05”代替粘合片“A25”，使用“C15”代替“C25”，使用“C05”代替“C15”，除此以外，与实施例2－1同样地得到比较例2－1的层叠体得到。

＜比较例2－2的层叠体的制造＞

使用“C15”代替粘合片“A25”，使用“C05”代替“C25”，除此以外，与实施例2－1同样地得到比较例2－2的层叠体。

将实施例2－1、2－2、比较例2－1、2－2的层叠体中使用的粘合剂层汇总于表3。“A1+A2”、“A2－A1”的值如表3中记载所示。将对层叠体进行弯曲性试验而得的结果示于表3。

[表3]

表中，由粗框线围住的区城中，上段为第1粘合剂层的评价参数A1，下段为第2粘合剂层的评价参数A2。

实施例2－1和2－2的层叠体中，“A1+A2”为230以下，“A2－A1”为0以上。在这些层叠体中，抑制了涂层的裂纹的产生。另一方面，尽管使用了相同的涂层，但在“A1+A2”大于230的比较例2－1的层叠体、“A1+A2”大于230且“A2－A1”小于0的比较例2－2的层叠体中，裂纹的产生没有得到抑制。

＜实施例3－1的层叠体的制造＞

剥离粘合片“A15”的轻剥离膜B，贴合于由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体的保护层(OC层)侧，得到层叠体C1。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体C1剥离重剥离膜A，贴合于由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体的相位差层侧，得到层叠体C2。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“B15”剥离轻剥离膜B，贴合于从层叠体C2剥离了相位差层的形成中使用的基材膜和第2取向膜的面，得到层叠体C3。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“A25”剥离轻剥离膜B，贴合于前面板的不具有硬涂层的一侧，得到层叠体C4。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体C4剥离重剥离膜A，贴合于从层叠体C3剥离了起偏器层的形成中使用的基材膜的面，得到层叠体C5。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体C5剥离重剥离膜A，贴合于背面板，得到如图4所示的实施例3－1的层叠体。图4中，作为模式(a)，认定为前面板为第1保护层10，前面板下的粘合剂层为第1粘合剂层11，从保护层(HC层)到保护层(OC层)为夹设涂层12，保护层(OC层)下的粘合剂层为第2粘合剂层13，从相位差层到背面板为第2保护层14。作为模式(b)，认定为从前面板到保护层(OC层)为第1保护层10，保护层(OC层)下的粘合剂层为第1粘合剂层11，相位差层为夹设涂层12，相位差层下的粘合剂层为第2粘合剂层13，背面板为第2保护层14。

＜实施例3－2的层叠体的制造＞

使用“B25”代替粘合片“A15”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例3－1同样地得到实施例3－2的层叠体。

＜比较例3－1的层叠体的制造＞

使用“C05”代替粘合片“A25”，使用“B25”代替“A15”，使用“A25”代替“B15”，除此以外，与实施例3－1同样地得到比较例3－1的层叠体。

＜比较例3－2的层叠体的制造＞

使用“C25”代替粘合片“A25”，使用“C15”代替“A15”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例3－1同样地得到比较例3－2的层叠体。

将实施例3－1、3－2、比较例3－1、3－2的层叠体中使用的粘合剂层汇总于表4。“A1+A2”、“A2－A1”的值如表4中记载所示。将对层叠体进行弯曲性试验而得的结果示于表4。

[表4]

表中，由粗框线围住的区域中，上段为第1粘合剂层的评价参数A1，下段为第2粘合剂层的评价参数A2。

实施例3-1和3-2的层叠体中，用模式(a)和(b)中的任一个识别层叠体时，“A1+A2”均为230以下，“A2一A1”均为0以上。在这些层叠体中，裂纹的产生得到了抑制。另一方面，无论用模式(a)和(b)中的哪一个识别层叠体，在“A2一A1”小于0的比较例3-1的层叠体中，裂纹的产生均没有得到抑制。在比较例3-2的层叠体中，用模式(a)识别时，“A1+A2”为230以下，“A2一A1”为0以上，但用模式(b)识别时，“A1+A2”大于230。在比较例3-2的层叠体中，因弯曲所致的裂纹没有得到抑制。

<实施例4-1的层叠体的制造>

从粘合片“A15”剥离轻剥离膜B，贴合于由“基材膜/保护层(HC层)/第1取向膜/起偏器层/保护层(OC层)”构成的层叠体的保护层(OC层)侧，得到层叠体D1。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体D1剥离重剥离膜A，贴合于由“基材膜/第2取向膜/相位差层”构成的层叠体的相位差层侧，得到层叠体D2。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“B25”剥离轻剥离膜B，贴合于从层叠体D2剥离了相位差层的形成中使用的基材膜和第2取向膜的面，得到层叠体D3。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“A25”剥离轻剥离膜B，贴合于前面板的不具有硬涂层的一侧，得到层叠体D4。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体D4剥离重剥离膜A，贴合于从层叠体D3剥离了起偏器层的形成中使用的基材膜的面，得到层叠体D5。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体D5剥离重剥离膜A，贴合于触摸传感器面板的分离层侧，得到层叠体D6。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从粘合片“B15”剥离轻剥离膜B，贴合于从层叠体D6剥离了触摸传感器面板的保护膜的面，得到层叠体D7。对贴合面预先进行了两面电晕处理(输出0.3kW，速度3m/分钟)。

从层叠体D7剥离重剥离膜A，贴合于背面板，得到如图5所示的实施例4－1的层叠体。图5中，作为模式(a)，认定为前面板为第1保护层10，前面板下的粘合剂层为第1粘合剂层11，从保护层(HC层)到保护层(OC)为夹设涂层12，保护层(OC)下的粘合剂层为第2粘合剂层13，从相位差层到背面板为第2保护层14。作为模式(b)，从前面板到保护层(OC层)为第1保护层10，保护层(OC层)下的粘合剂层为第1粘合剂层11，相位差层为夹设涂层12，相位差层下的粘合剂层为第2粘合剂层13，从触摸传感器面板到背面板为第2保护层14。作为模式(c)，认定为从前面板到相位差层为第1保护层10，相位差层下的粘合剂层为第1粘合剂层11，触摸传感器面板为夹设涂层12，触摸传感器面板下的粘合剂层为第2粘合剂层13，背面板为第2保护层14。

＜实施例4－2的层叠体的制造＞

使用“B25”代替粘合片“A15”，使用“C25”代替“B25”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例4－1同样地得到实施例4－2的层叠体。

＜比较例4－1的层叠体的制造＞

使用“C05”代替粘合片“A25”，使用“C25”代替“A15”，使用“A25代替“B15””，除此以外，与实施例4－1同样地得到比较例4－1的层叠体。

＜比较例4－2的层叠体的制造＞

使用“B25”代替粘合片“A25”，使用“C25”代替“A15”，使用“C15”代替“B25”，使用“C05”代替“B15”，除此以外，与实施例4－1同样地得到比较例4－2的层叠体。

将实施例4－1、4－2、比较例4－1、4－2的层叠体中使用的粘合剂层汇总于表5。“A1+A2”、“A2－A1”的值如表5中记载所示。将对层叠体进行弯曲性试验而得的结果示于表5。

[表5]

实施例4－1和4－2的层叠体中，用模式(a)～(c)中的任一个识别层叠体时，“A1+A2”均为230以下，“A2－A1”均为0以上。在这些层叠体中，裂纹的产生得到了抑制。另外，在任一模式中“A1+A2”均为130以下的实施例4－1的层叠体中，裂纹的产生进一步得到了抑制。另一方面，在无论用模式(a)～(c)中的哪一个识别层叠体时，“A2－A1”均小于0的比较例4－1的层叠体中，裂纹的产生均没有得到抑制。在比较例4－2的层叠体中，用模式(a)和(b)识别时，“A1+A2”为230以下，“A2－A1”为0以上，但用模式(c)识别时，“A1+A2”大于230。比较例4－2的层叠体中，因弯曲所致的裂纹的产生没有得到抑制。

符合说明

100 层叠体，10 第1保护层，11 第1粘合剂层，12 夹设涂层，13 第2粘合剂层，14第2保护层，501、502 载置台，1 前面板，2 粘合剂层，3 基材膜，4 起偏器层，5 相位差层，6背面板，7 第1取向膜，8 保护层(OC层)，9 保护层(HC层)，0 触摸传感器面板